Les cibles de pulvérisation en
alliage
nickel-chrome-silicium
sont des cibles en alliage nickel-chrome-silicium haute performance adaptées au dépôt de films minces fonctionnels et de revêtements à haute température.
Nous proposons des cibles de pulvérisation NiCrSi de différentes tailles, épaisseurs et formes, et pouvons les personnaliser en fonction des exigences de l’équipement et du processus. Veuillez nous contacter
pour obtenir des spécifications détaillées et des devis.
Haute pureté
Cible dense et uniforme
Dépôt de film mince uniforme et stable
Excellente résistance aux températures élevées et à la corrosion
Performances de décharge stables
Cohérence fiable des lots
Dépôt de films minces électroniques et fonctionnels : Convient à la préparation de dispositifs électroniques et de films minces fonctionnels, garantissant une épaisseur de film uniforme et des performances stables.
Revêtements industriels haute température : Peut être utilisé pour le dépôt de revêtements protecteurs dans les turbines à gaz, les équipements chimiques et les environnements à haute température, améliorant la résistance à la chaleur et à la corrosion des surfaces.
Recherche scientifique et développement de matériaux : La poudre convient aux expériences scientifiques sur les films minces et au développement de nouveaux matériaux, permettant de contrôler les films minces et d’obtenir une grande précision de traitement. Couches protectrices pour composants
optiques
et électroniques : Utilisées pour la protection des surfaces des films minces optiques, des capteurs et des composants électroniques, améliorant la durée de vie et la stabilité.
Q1 : À quelles applications les cibles de pulvérisation NiCrSi sont-elles adaptées ?
R1 : Elles sont principalement utilisées pour les films minces fonctionnels, les revêtements haute température, les couches protectrices pour les appareils électroniques et le dépôt de matériaux de recherche.
Q2 : La cible est-elle stable à haute température ?
R2 : Elle présente une excellente résistance à la température et à la corrosion, ce qui permet un dépôt uniforme et une utilisation à long terme.
Q3 : Avec quel équipement de pulvérisation la cible est-elle compatible ?
R3 : Disponible en différentes tailles et épaisseurs, elle est compatible avec les équipements de pulvérisation DC et RF.
Q4 : Comment les cibles NiCrSi doivent-elles être stockées ?
R4 : Il est recommandé de les stocker dans un conteneur sec et hermétique, en évitant les chocs et l’humidité afin de garantir des performances stables.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous avons une grande expérience dans la fourniture de cibles en alliage NiCrSi, proposant des cibles NiCrSi de haute pureté et haute densité ainsi que des services personnalisés, accompagnés d’une assistance technique, afin d’aider nos clients à obtenir des résultats de dépôt stables et efficaces dans les films minces fonctionnels, les revêtements haute température et les couches protectrices pour les composants électroniques.
Formule moléculaire : NiCrSi
Aspect : Éclat métallique, matériau cible blanc argenté ou gris, surface lisse.
Structure cristalline : Structure cristalline cubique à faces centrées
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
Si vous avez besoin d'un service, veuillez nous contacter
