Les cibles de pulvérisation
en oxyde de nickel-fer
sont des cibles en oxyde à structure spinelle principalement utilisées pour le dépôt de films minces d’oxyde magnétique et de couches fonctionnelles associées.
Nous proposons des cibles de pulvérisation en NiFe2O4 à haute densité et à composition stable, dont la taille et la structure peuvent être personnalisées. Veuillez nous contacter
pour obtenir les paramètres techniques.
Structure en phase spinelle stable
Densité élevée de la cible
Bonne cohérence de la composition du film
Convient aux processus de pulvérisation d’oxyde
Bonne stabilité thermique
Liaison
et plans arrière personnalisables
Traitement personnalisé pris en charge
Films minces d’oxyde magnétique : couramment utilisés pour le dépôt de films minces magnétiques à base de ferrite, adaptés aux applications nécessitant une stabilité et une répétabilité élevées de la réponse magnétique.
Dispositifs électroniques et fonctionnels : utilisés pour former des couches fonctionnelles d’oxyde avec des propriétés magnétoélectriques spécifiques dans certains dispositifs électroniques et matériaux fonctionnels.
Matériaux de détection et de contrôle magnétique : peuvent être utilisés dans la préparation de films minces de matériaux magnétiquement sensibles ou de contrôle connexes, répondant aux exigences en matière de structure et de performances contrôlables des films.
Recherche et développement de procédés : convient à une utilisation expérimentale dans les instituts de recherche pour le contrôle de la structure des films minces d’oxyde, l’optimisation des paramètres de pulvérisation et l’exploration de nouveaux matériaux.
Q1 : Quelle méthode de pulvérisation convient aux cibles de pulvérisation NiFe2O4 ?
A1 : Peut être utilisé dans les procédés de pulvérisation magnétron conventionnels. La méthode spécifique doit être confirmée en fonction des conditions de l’équipement.
Q2 : La cible nécessite-t-elle un prétraitement spécial ?
A2 : En général, aucun prétraitement complexe n’est nécessaire ; le fonctionnement conventionnel de la cible d’oxyde est suffisant.
Q3 : La composition du film déposé est-elle stable ?
A3 : Dans des conditions de processus raisonnables, la composition du film reste très similaire à celle de la cible.
Q4 : Proposez-vous des spécifications de petite taille pour la recherche ?
A4 : Oui, nous pouvons fournir différentes options de taille adaptées aux phases de R&D et d’expérimentation.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous avons une grande expérience dans la préparation et le traitement des cibles de pulvérisation d’oxyde, en mettant l’accent sur la stabilité structurelle, l’adaptabilité des processus et la cohérence de la qualité, ce qui permet d’apporter un soutien fiable aux applications de films minces magnétiques et de dispositifs fonctionnels.
Formule moléculaire : NiFe₂O₄
Poids moléculaire : 231,53 g/mol
Aspect : Matériau cible noir ou brun foncé avec une surface lisse.
Densité : Environ 5,2 g/cm³
Point de fusion : Environ 1 550 °C
Point d’ébullition : Point de décomposition : environ 2 500 °C
Structure cristalline : Structure spinelle
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
Si vous avez besoin d'un service, veuillez nous contacter
