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Oxyde d’indium, de gallium et de zinc (IGZO)

Chemical Name:
Oxyde d'indium, de gallium et de zinc (IGZO)
Formula:
In2O3-Ga2O3-ZnO
Product No.:
49083108300800
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Cible de pulvérisation
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
49083108300800ST001 In2O3-Ga2O3-ZnO 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
49083108300800ST002 In2O3-Ga2O3-ZnO 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
49083108300800ST003 In2O3-Ga2O3-ZnO 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
49083108300800ST004 In2O3-Ga2O3-ZnO 99.99% Ø 101.6 mm x 4 mm Inquire
49083108300800ST005 In2O3-Ga2O3-ZnO 99.99% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
49083108300800ST006 In2O3-Ga2O3-ZnO 99.99% Ø 152.4 mm x 3.175 mm Inquire
49083108300800ST007 In2O3-Ga2O3-ZnO 99.99% Ø 152.4 mm x 6.35 mm Inquire
49083108300800ST008 In2O3-Ga2O3-ZnO 99.99% Ø 203.2 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
49083108300800ST001
Formula
In2O3-Ga2O3-ZnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
49083108300800ST002
Formula
In2O3-Ga2O3-ZnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
49083108300800ST003
Formula
In2O3-Ga2O3-ZnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
49083108300800ST004
Formula
In2O3-Ga2O3-ZnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6 mm x 4 mm
Product ID
49083108300800ST005
Formula
In2O3-Ga2O3-ZnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
49083108300800ST006
Formula
In2O3-Ga2O3-ZnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 152.4 mm x 3.175 mm
Product ID
49083108300800ST007
Formula
In2O3-Ga2O3-ZnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 152.4 mm x 6.35 mm
Product ID
49083108300800ST008
Formula
In2O3-Ga2O3-ZnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 203.2 mm x 3.175 mm

Vue d’ensemble des cibles de pulvérisation d’oxyde d’indium, de gallium et de zinc

La cible de pulvérisation de l’oxyde d’indium-gallium-zinc (In2O3-Ga2O3-ZnO) est un matériau semi-conducteur transparent de grande pureté largement utilisé dans les transistors à couche mince (TFT), les écrans plats et les dispositifs optoélectroniques. Avec d’excellentes performances électriques, une mobilité élevée et une composition uniforme, les cibles de pulvérisation IGZO sont essentielles pour les technologies d’affichage avancées telles que les OLED et les LCD, ainsi que pour la recherche sur les dispositifs à semi-conducteurs. Nos cibles garantissent une pureté de 99,99 % (4N), une structure dense et des performances stables pour les applications industrielles et de recherche.

Nous fournissons des cibles de pulvérisation d’oxyde d’indium, de gallium et de zinc de haute qualité aux fabricants et aux instituts de recherche. Contactez nous pour obtenir le meilleur prix et le meilleur prix et le meilleur support technique.

Caractéristiques des cibles de pulvérisation In2O3-Ga2O3-ZnO

Pureté supérieure : la pureté de 99,99% (4N) répond aux exigences rigoureuses des semi-conducteurs à base d’oxyde et des dispositifs à couche mince.
Haute performance : Excellente conductivité électrique, mobilité des électrons et transparence optique.
Matériau stable : La structure dense, la faible teneur en impuretés et la composition uniforme garantissent des résultats reproductibles pour les couches minces.
Dimensions flexibles : Disponibles en plusieurs dimensions pour s’adapter aux différents systèmes de dépôt.

Applications des cibles de pulvérisation d’IGZO de haute qualité

Transistors à couche mince (TFT) : Appliqués dans les écrans OLED et LCD à matrice active de haute performance.
Écrans plats : Utilisés dans les fonds de panier, les panneaux tactiles et les écrans flexibles.
Appareils optoélectroniques Dispositifs optoélectroniques : Convient aux photodétecteurs, aux capteurs infrarouges et à l’électronique transparente.
Recherche et développement : Largement utilisé dans les laboratoires pour la science des matériaux et la recherche sur les dispositifs.
Dispositifs énergétiques : Utilisé dans les films conducteurs transparents pour les applications de conversion et de stockage de l’énergie.

Pourquoi nous choisir ?

Expertise industrielle : Spécialisés dans les cibles de pulvérisation de semi-conducteurs en oxyde de haute pureté.
Solutions personnalisées : Souplesse dans la composition, les dimensions et le choix de la plaque de support.
Qualité fiable : Un contrôle strict des impuretés, une structure dense et une composition uniforme garantissent des performances stables.
Livraison mondiale : Expédition rapide et sûre dans le monde entier, avec emballage de protection.
Assistance technique : Une équipe professionnelle fournit une documentation technique complète et des conseils.

FAQ (Foire aux questions)

F1. Quelle est la pureté des cibles de pulvérisation In2O3-Ga2O3-ZnO ?
A1. Nos cibles IGZO ont une pureté standard de 99,99 % (4N), ce qui garantit des performances fiables pour les applications TFT et les films minces.

F2. Le rapport In:Ga:Zn ou la taille de la cible peuvent-ils être personnalisés ?
A2. Oui, nous fournissons des rapports de composition et des dimensions de cible flexibles en fonction des exigences de votre système de dépôt.

F3. Comment les cibles IGZO doivent-elles être stockées et manipulées ?
A3. Les cibles IGZO doivent être stockées dans un environnement frais et sec, dans des conteneurs scellés. Éviter l’humidité, la poussière et la contamination pendant la manipulation.

F4. Quelles sont les industries qui utilisent les cibles de pulvérisation cathodique IGZO ?
A4. Largement utilisées dans les fonds de panier TFT, les écrans OLED/LCD, les panneaux tactiles, les dispositifs optoélectroniques et les laboratoires de recherche.

F5. Des rapports techniques sont-ils disponibles à des fins industrielles ou de recherche ?
A5. Oui, chaque lot est accompagné d’un COA, d’un TDS, d’une MSDS et de rapports d’impuretés ICP-MS. Des rapports d’essais par des tiers sont disponibles sur demande.

Rapports

Chaque lot de produits est fourni avec
Un certificat d’analyse (COA)
Fiche technique (TDS)
Fiche de données de sécurité (FDS)
Des rapports de tests effectués par des tiers sont disponibles sur demande pour répondre aux normes industrielles et de recherche.

Formule chimique : In₂O₃-Ga₂O₃-ZnO
Aspect : Cible dense blanc cassé ou gris argenté
Structure cristalline : Amorphe/microcristallin
Méthode de fixation : Personnalisable
Choix de la plaque d’appui : Personnalisable
Méthode de pulvérisation : Pulvérisation magnétron RF/DC

Emballage intérieur : Sacs scellés sous vide et boîtes pour éviter la contamination et l’humidité.

Emballage extérieur : Cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.

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