| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 4908300800ST001 | In2O3:ZnO (90/10 wt%) | 99.95% | 299.6 mm x 125 mm x 6mm | Inquire |
| 4908300800ST002 | In2O3:ZnO (60/40 wt%) | 99.95% | 800 mm x 125 mm x 6mm | Inquire |
| 4908300800ST003 | In2O3:ZnO (90/10 wt%) | 99.95% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST004 | In2O3:ZnO (60/40 wt%) | 99.95% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST005 | In2O3:ZnO (95/5 wt%) | 99.95% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST006 | In2O3:ZnO (90/10 wt%) | 99.95% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 4908300800ST007 | In2O3:ZnO (60/40 wt%) | 99.95% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST008 | In2O3:ZnO (95/5 wt%) | 99.95% | Ø 152.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
La cible de pulvérisation d’oxyde de zinc et d’indium (IZO) est un matériau d’oxyde conducteur transparent (TCO) de haute pureté largement utilisé dans l’électronique en couches minces, les dispositifs optoélectroniques et les applications de semi-conducteurs. Avec une excellente conductivité électrique, une transparence optique et une formation de film uniforme, les cibles de pulvérisation IZO sont essentielles pour le dépôt de couches minces dans les écrans, les panneaux tactiles et les dispositifs photovoltaïques. Nos cibles garantissent une pureté de 99,95 % (3N5), une structure dense et des performances stables pour les applications industrielles et de recherche.
Nous fournissons des cibles de pulvérisation d’oxyde de zinc et d’indium de haute qualité aux instituts de recherche et aux fabricants. Personnalisable rapport.Contactez nous pour obtenir le meilleur prix et support technique.
Pureté supérieure : la pureté de 99,95 % (3N5) répond aux exigences strictes des applications de couches minces et de TCO.
Composition personnalisable : Les rapports In:Zn et les dimensions de la cible peuvent être ajustés en fonction des exigences de dépôt.
Haute performance : Excellente conductivité électrique, transparence optique et caractéristiques de pulvérisation stables.
Matériau stable : La structure dense, la composition uniforme et les faibles niveaux d’impureté garantissent des résultats reproductibles pour les couches minces.
Électronique en couches minces : Appliquée dans les électrodes transparentes, les transistors à couche mince (TFT) et les panneaux d’affichage.
Appareils optoélectroniques Dispositifs optoélectroniques : Utilisés dans les OLED, les photodétecteurs, les capteurs infrarouges et les panneaux tactiles.
Cellules Solaires : Convient aux couches d’électrodes tampons et transparentes dans les cellules solaires CIGS et autres cellules solaires avancées.
Recherche et développement : Largement utilisé dans les laboratoires pour la science des matériaux et la recherche sur les dispositifs.
Dispositifs énergétiques : Utilisé dans les films conducteurs transparents pour les applications de stockage et de conversion de l’énergie.
Expertise industrielle : Spécialisé dans la fourniture de cibles de pulvérisation de haute pureté pour les technologies de TCO et de films minces.
Solutions personnalisées : Souplesse dans la composition, les dimensions et les spécifications de pureté des cibles.
Qualité fiable : Un contrôle strict des impuretés, une structure dense et une composition uniforme garantissent des performances stables.
Livraison mondiale : Expédition rapide et sûre dans le monde entier avec un emballage protecteur.
Assistance technique: Une équipe professionnelle fournit une documentation technique complète et des conseils.
F1. Quelle est la pureté de vos cibles de pulvérisation IZO ?
A1. Nos cibles ont une pureté standard de 99,95 % (3N5), ce qui garantit des résultats fiables pour les applications de pointe en matière de couches minces et d’optoélectronique.
F2. La composition ou la taille des cibles d’oxyde d’indium et de zinc peuvent-elles être personnalisées ?
A2. Oui, nous proposons des ratios In:Zn et des dimensions de cibles personnalisables en fonction des exigences de votre système de dépôt.
F3. Comment les cibles de pulvérisation d’oxyde de zinc et d’indium doivent-elles être stockées ?
A3. Les cibles doivent être stockées dans un environnement frais et sec, à l’abri de l’humidité et des contaminants, dans un emballage de protection.
F4. Quelles sont les industries qui utilisent les cibles de pulvérisation d’oxyde de zinc et d’indium ?
A4. Largement utilisées dans l’électronique des couches minces, l’optoélectronique, les cellules solaires, les semi-conducteurs et les laboratoires de recherche.
Chaque lot de produits est fourni avec :
Un certificat d’analyse (COA)
Fiche technique (TDS)
Fiche de données de sécurité (FDS)
Des rapports de tests effectués par des tiers sont disponibles sur demande pour répondre aux normes industrielles et de recherche.
Formule chimique : In₂O₃-ZnO
Aspect : Cible dense blanc cassé ou gris argenté
Point de fusion : ~1900°C
Point d’ébullition : ~2000°C
Structure cristalline : Cubique (In₂O₃ comme phase primaire)
Choix de la plaque de support : Cuivre (Cu), aluminium (Al) ou acier inoxydable (SS), sélectionnable en fonction de la taille de la cible et de l’équipement de dépôt.
Méthode de pulvérisation : Pulvérisation magnétron RF/DC
Emballage intérieur : Sacs scellés sous vide et emballage pour éviter la contamination et l’humidité.
Emballage extérieur : Cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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