Les cibles de pulvérisation au nitrure de hafnium sont des cibles céramiques avancées conçues spécifiquement pour les processus de dépôt de couches minces à haute performance. Leur grande pureté et leur excellente densité garantissent un dépôt uniforme et stable de couches minces, une adhérence supérieure et une teneur en impuretés extrêmement faible, répondant ainsi aux exigences de l’électronique, de l’optique et des revêtements de protection.
Nous proposons des cibles de pulvérisation de nitrure d’hafnium dans une variété de tailles et de formes, personnalisables pour répondre aux exigences spécifiques des clients. Nous fournissons également un service après-vente complet après-vente afin de répondre rapidement à toutes les questions que vous pourriez avoir pendant l’utilisation.
Pureté : 99,5
La densité élevée garantit un dépôt uniforme de couches minces
Tailles et formes personnalisables
Collage ciblé disponible
Convient aux dispositifs à semi-conducteurs, aux revêtements optiques et aux films de protection résistants à l’usure
Semi-conducteurs : Utilisée pour le dépôt de revêtements protecteurs à haute température et à haute fréquence, elle améliore les performances et la durabilité des dispositifs.
Revêtements optiques : Forment des films protecteurs d’une grande dureté, d’un indice de réfraction élevé et d’une grande résistance à l’usure.
Revêtements de protection : Utilisés pour le durcissement superficiel des outils de coupe, des pièces mécaniques et d’autres applications, ils améliorent la résistance à l’usure et à la corrosion.
Couches minces fonctionnelles : Utilisées pour le dépôt de couches minces dans les dispositifs microélectroniques et les composants optiques spécialisés.
Nous fournissons un Certificat d’analyse (COA)une fiche de données de sécurité (MSDS) et les rapports techniques correspondants pour chaque lot de cibles de pulvérisation HfN. Nous prenons également en charge les tests effectués par des tiers afin de garantir que la qualité des produits est conforme aux normes internationales et aux exigences des clients.
Formule moléculaire : HfN
Poids moléculaire : Environ 195,63 g/mol
Aspect : Cible céramique dense, gris foncé, avec une surface lisse.
Densité : Environ 12,7 g/cm³ (proche de la densité théorique)
Point de fusion : Environ 3 500 °C (point de fusion élevé)
Structure cristalline : Structure cubique de chlorure de sodium (type NaCl)
Emballage intérieur : Sacs scellés sous vide et emballage pour éviter la contamination et l’humidité.
Emballage extérieur : Cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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