Les cibles de pulvérisation d’oxyde de hafnium et de zirconium sont des matériaux céramiques composites avancés conçus pour les processus de dépôt de couches minces à haute performance. Combinant les propriétés supérieures de l’oxyde d’hafnium et de l’oxyde de zirconium, ces cibles offrent une grande pureté, une densité élevée et une excellente stabilité thermique, garantissant des films déposés uniformes et denses avec une forte adhérence et un minimum d’impuretés.
Nous proposons des cibles de pulvérisation d’oxyde de hafnium et de zirconium dans une variété de rapports de composition et de tailles, et nous pouvons personnaliser les spécifications pour répondre aux besoins des clients. Nous fournissons également un support technique et un service après-vente afin de garantir un processus de production efficace et sans heurts.
Pureté : 99,9
Le frittage à haute densité garantit un dépôt uniforme de couches minces
Excellente stabilité thermique et résistance mécanique
Rapports de composition, tailles et formes personnalisables
Convient aux semi-conducteurs avancés, aux couches diélectriques à haute température et aux revêtements optiques
Semi-conducteurs Industrie des semi-conducteurs : Utilisé comme matériau diélectrique de grille à haut k pour améliorer les performances et la stabilité des transistors.
Revêtements optiques : Utilisés pour la production de films optiques antireflets et à indice de réfraction élevé pour des applications telles que les lentilles, les écrans et les lasers.
Matériaux céramiques : Convient aux revêtements céramiques résistants à l’usure et aux températures élevées, afin de prolonger la durée de vie des appareils. Dispositifs MEMS : Le dépôt de couches minces fonctionnelles pour les systèmes microélectromécaniques (MEMS) garantit d’excellentes propriétés électriques et mécaniques.
Nous fournissons un Certificat d’analyse (COA)une fiche de données de sécurité (FDS) et un rapport d’essai de performance détaillés pour chaque lot de produits. Nous soutenons également des services d’essai tiers faisant autorité afin de garantir que la qualité des produits est conforme aux normes industrielles et aux exigences des clients.
Formule moléculaire : HfO₂-ZrO₂
Aspect : Cible céramique blanche et dense avec une surface lisse
Point de fusion : Environ 2 700 °C (la céramique composite est stable à haute température).
Structure cristalline : Principalement un mélange de phases tétragonales et monocliniques.
Emballage intérieur : Sacs scellés sous vide et emballage pour éviter la contamination et l’humidité.
Emballage extérieur : Cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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