Monóxido de silicio

Objetivos de pulverización de monóxido de silicio Descripción general

Los objetivos de pulverización
de monóxido de silicio
son objetivos cerámicos que se utilizan para la deposición de películas delgadas funcionales y presentan una excelente estabilidad térmica y características de deposición uniformes. Se utilizan ampliamente en la fabricación de dispositivos electrónicos, recubrimientos funcionales y películas delgadas ópticas
.

Podemos proporcionar blancos de pulverización de monóxido de silicio compatibles con el proceso y apoyar
la integración técnica
de la estructura del blanco y los parámetros de deposición. ¡Póngase en contacto con nosotros
ahora mismo!

Características destacadas del producto

Composición de película uniforme y estable.
Alta estabilidad térmica.
Buena uniformidad de deposición.
Fuerte compatibilidad con el proceso.
Adecuado para diversos procesos de pulverización

. Aplicaciones de los blancos de pulverización de monóxido de silicio

Fabricación de películas delgadas funcionales:
los blancos de SiO son adecuados para la fabricación de dispositivos electrónicos y películas delgadas funcionales ópticas, mejorando la consistencia del rendimiento de la película.
Deposición de dispositivos electrónicos:
se utilizan para la deposición de semiconductores y películas delgadas funcionales, lo que mejora la fiabilidad y la estabilidad térmica de los dispositivos.
Películas delgadas ópticas y recubrimientos:
adecuados para la fabricación de películas conductoras transparentes, películas antirreflectantes y otras capas funcionales ópticas.
Investigación y validación de procesos:
apoya la investigación sobre nuevos materiales para películas delgadas y la optimización de los parámetros de deposición.

Preguntas frecuentes

P1: ¿Para qué películas delgadas se utilizan principalmente los blancos de pulverización de monóxido de silicio?
R1: Se utilizan principalmente para películas delgadas en dispositivos electrónicos, películas ópticas y recubrimientos funcionales.

P2: ¿Cómo se comporta el blanco de SiO en la deposición a alta temperatura?
R2: Su alta estabilidad térmica garantiza una deposición uniforme de la película incluso a altas temperaturas.

P3: ¿Para qué procesos de pulverización es adecuado este blanco?
R3: Adecuado para la pulverización magnetrónica y otros procesos convencionales de deposición de películas delgadas.

P4: ¿Afecta la estructura del blanco a la uniformidad de la película?
R4: Una estructura de blanco bien diseñada puede mejorar el espesor de la película y la uniformidad de la composición.

Informe

Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)

Ficha técnica (TDS)

Ficha de datos de seguridad (MSDS)
Informe de inspección de tamaño
Informes de pruebas de terceros disponibles bajo petición

. ¿Por qué elegirnos?

Contamos con una amplia experiencia técnica y de suministro en blancos de pulverización cerámicos, lo que nos permite ofrecer blancos de pulverización de monóxido de silicio estables y trazables, ayudando a los clientes a lograr una deposición de película fina altamente consistente y fiable durante las fases de I+D y aplicación.