Óxido de titanio

Objetivos de pulverización de óxido de titanio Descripción general

Los objetivos de pulverización
de óxido de titanio
son objetivos de óxido de titanio de baja valencia adecuados para preparar películas delgadas de óxido funcional en procesos de deposición física de vapor (PVD). Estos objetivos se utilizan ampliamente en campos de investigación relacionados con materiales electrónicos, películas delgadas funcionales y óxidos de metales de transición.

Podemos proporcionar objetivos de pulverización de Ti2O3 con una composición estable y una estructura uniforme para la investigación y la deposición de películas delgadas de grado industrial. Póngase en contacto con nosotros
para obtener información técnica.

Características destacadas del producto

Blocs de óxido de titanio de baja valencia.
Composición y fase cristalina estables.
Buena controlabilidad del proceso de pulverización.
Alta consistencia en la composición de la película.
Adecuados para diversos sistemas PVD.
Estabilidad fiable de los lotes

. Aplicaciones de los blocs de pulverización de óxido de titanio

Películas delgadas de óxido funcional:
se utilizan habitualmente para depositar películas delgadas de óxido con propiedades eléctricas o estructurales específicas, adecuadas para la investigación de materiales funcionales y dispositivos.
Investigación de materiales electrónicos y semiconductores:
este objetivo es adecuado para la preparación de películas delgadas de óxido de metal de transición, utilizadas para estudiar el comportamiento del transporte eléctrico, la estructura de bandas y las propiedades de la interfaz.
Investigación y preparación de películas delgadas en laboratorio:
debido a su composición química bien definida, las películas delgadas de Ti2O3 se utilizan ampliamente en experimentos de deposición de películas delgadas en universidades e instituciones de investigación.
Desarrollo de nuevos materiales funcionales:
en los nuevos sistemas de materiales de óxido, las películas delgadas de Ti2O3 se utilizan a menudo como capas base o capas funcionales para explorar las propiedades de los materiales.

Preguntas frecuentes

P1: ¿Para qué tipos de películas delgadas se utilizan principalmente los blancos de pulverización de óxido de titanio?
R1: Se utilizan principalmente para depositar óxido de titanio de baja valencia o películas delgadas de óxido funcional relacionadas, que se ven comúnmente en la investigación de materiales electrónicos y funcionales.

P2: ¿Es necesario controlar la atmósfera cuando se utilizan blancos de óxido de titanio para la pulverización?
R2: Sí, normalmente es necesario controlar la presión parcial de oxígeno o la atmósfera de trabajo durante la pulverización para garantizar la estabilidad del estado de valencia y la composición del titanio en la película delgada.

P3: ¿Qué métodos de pulverización son adecuados para los blancos de pulverización de óxido de titanio?
R3: Por lo general, son adecuados para sistemas de pulverización catódica con magnetrón de RF, y también se pueden aplicar a otros procesos de PVD dependiendo de las condiciones del equipo.

P4: ¿Cuál es el valor de investigación de las películas delgadas preparadas con blancos de pulverización catódica de óxido de titanio?
R4: Este tipo de película delgada tiene un importante valor de investigación en el estudio de las propiedades eléctricas, el comportamiento de transición de fase y los mecanismos de los óxidos metálicos de transición.

Informe

Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)

Ficha técnica (TDS)

Ficha de datos de seguridad (MSDS)
Informe de inspección de tamaño
Informes de pruebas de terceros disponibles bajo petición

¿Por qué elegirnos?

Nos especializamos en la preparación estable y el control de calidad de blancos de pulverización de óxidos funcionales, proporcionando un soporte fiable de base material para la deposición de películas delgadas de Ti₂O₃.