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Aleación de níquel y terbio

Chemical Name:
Aleación de níquel y terbio
Formula:
NiTb
Product No.:
286500
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Blanco para sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
286500ST001 NiTb 99.9% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
286500ST002 NiTb 99.9% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
286500ST001
Formula
NiTb
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Product ID
286500ST002
Formula
NiTb
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm

Visión general de los cátodos para sputtering de aleación de níquel y terbio

Los cátodos para sputtering son cátodos de aleación de níquel-terbio de gran pureza adecuados para la preparación de dispositivos semiconductores, películas finas magnéticas, revestimientos conductores y películas finas para investigación científica.

Proporcionamos cátodos para sputtering de NiTb densos, uniformes y de gran pureza, que pueden personalizarse para satisfacer diferentes requisitos de proceso. Por favor, póngase en contacto con nosotros para obtener información información técnica detallada.

Productos destacados

Aleación de níquel-terbio de gran pureza
Blanco uniforme y denso
Excelentes propiedades magnéticas
Buena conductividad eléctrica
Gran estabilidad térmica
Consistencia fiable de los lotes
Admite unión y personalización de placas base

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de aleación de níquel y terbio

Semiconductores Preparación de dispositivos: Adecuados para la deposición de películas finas en transistores, circuitos integrados, etc., mejorando el rendimiento y la estabilidad de los dispositivos.
Películas finas magnéticas: Utilizadas para películas finas funcionales como dispositivos de almacenamiento magnético y sensores magnéticos, mejorando las propiedades magnéticas y la estabilidad de los datos.
Recubrimientos conductores: Puede utilizarse para la preparación de películas conductoras y revestimientos funcionales, mejorando la conductividad y la durabilidad de los dispositivos electrónicos.
Investigación científica y desarrollo de procesos: Adecuado para que las instituciones de investigación realicen pruebas de rendimiento de materiales de NiTb y experimentos de desarrollo de nuevos procesos.

Preguntas frecuentes

P1: ¿Qué tamaños y formas de cátodos para sputtering de NiTb hay disponibles?
R1: Se pueden suministrar cátodos de diferentes tamaños y formas según los requisitos del equipo de sputtering y del proceso.

P2: ¿Cuál es la estabilidad de los cátodos durante la deposición de películas finas?
A2: Los cátodos de NiTb de alta pureza tienen una buena estabilidad térmica, lo que garantiza una deposición uniforme de la película fina.

P3: ¿Para qué tipos de películas finas son adecuados los cátodos?
A3: Adecuados para películas finas semiconductoras, películas finas magnéticas y películas conductoras.

P4: ¿Cómo se garantiza la uniformidad de los lotes de cátodos?
A4: Mediante rigurosos procesos de producción y pruebas de calidad, garantizamos una composición y un rendimiento uniformes.

Informes

Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Ficha técnica (TDS)
Ficha de datos de seguridad (FDS)
Informe de inspección de tamaño
Informes de pruebas de terceros disponibles previa solicitud

¿Por qué elegirnos?

Estamos especializados en I+D y suministro de cátodos para sputtering de NiTb de gran pureza, destacando las ventajas de los cátodos uniformes y densos, la estabilidad química y las propiedades magnéticas y conductoras, proporcionando un soporte material fiable para la deposición de dispositivos semiconductores, películas finas magnéticas y películas finas científicas.

Fórmula molecular: NiTb
Aspecto: Brillo metálico, generalmente gris plateado

Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.

Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.

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