Platino Manganeso Son materiales clave diseñados para el almacenamiento magnético y la electrónica de espín, y se utilizan ampliamente en MRAM, sensores GMR y diversas estructuras de válvulas de espín. Su antiferromagnetismo único y su alta estabilidad térmica lo convierten en la elección ideal para capas magnéticas fijas.
Podemos suministrar cátodos para sputtering de aleación de platino-manganeso de varias formas y tamaños, incluyendo redondos, rectangulares, anulares, etc., y pueden personalizarse con precisión de acuerdo con los requisitos específicos de su proceso. También proporcionamos soporte técnico integral y servicio postventa para ayudarle a mejorar la eficacia de la deposición de la película y la consistencia del producto.
Proporción de composición: o personalizable
Pureza: 99,95%
Alta estabilidad térmica, adecuado para procesos de recocido a alta temperatura
Excelente rendimiento de acoplamiento antiferromagnético para dirección de magnetización fija
Alta densidad y partículas finas, adecuadas para sistemas de sputtering de precisión
Disponemos de varios tamaños y servicios de unión de placas base (Bonding)
Memoria magnética de acceso aleatorio (MRAM): El PtMn se utiliza ampliamente como material antiferromagnético de la capa fija para garantizar una dirección estable del polo magnético.
Cabezal de disco duro: En las estructuras GMR o TMR, el PtMn se utiliza como material de la capa de fijación para conseguir una lectura de alta sensibilidad de las señales magnéticas.
Dispositivos espintrónicos: Como capa de polarización de intercambio, se utiliza para regular el comportamiento de la interfaz magnética.
Sensor magnético: Su gran estabilidad lo hace adecuado para la automatización industrial y la detección en automoción.
Proporcionamos Certificado de análisis (COA)hoja de datos de seguridad del material (MSDS) e informe de análisis de composición para cada lote de blanco de PtMn. Según las necesidades del cliente, también se puede encargar a instituciones externas que realicen pruebas de composición y magnéticas para garantizar que la calidad del producto cumple los requisitos de las aplicaciones de gama alta.
Fórmula molecular: PtMn Aspecto: Alquitrán metálico gris plateadoEl cátodo de metal de platino para sputtering es un cátodo de metal precioso desarrollado específicamente para la deposición de películas finas de alta gama.
Densidad: aproximadamente 15,0 g/cm³.
Punto de fusión: alrededor de 1.550-1.650 °C (punto de fusión de la aleación)
Estructura cristalina: L1₀ estructura ordenada (adecuado para dispositivos de almacenamiento magnético)
Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
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