{"id":53420,"date":"2026-01-05T10:36:59","date_gmt":"2026-01-05T02:36:59","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/eisenoxid-4\/"},"modified":"2026-01-05T10:36:59","modified_gmt":"2026-01-05T02:36:59","slug":"eisenoxid-4","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/eisenoxid-4\/","title":{"rendered":"Eisenoxid"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Eisenoxid-Sputtertargets<\/span><\/h2>\n

Eisenoxid<\/a><\/span>
\n-Sputtertargets sind feste Ausgangsmaterialien aus hochreinem Eisenoxidkeramik, die vor allem in physikalischen Gasphasenabscheidungsverfahren (PVD) zum Einsatz kommen. Mit ihnen lassen sich d\u00fcnne Eisenoxidschichten mit spezifischen optoelektronischen, magnetischen oder katalytischen Funktionen auf Substrate aufbringen, beispielsweise mittels Magnetron-Sputtern. Dieses Material wird h\u00e4ufig in optischen<\/a><\/span>
\nBeschichtungen, magnetischen Ger\u00e4ten, Sensoren und in der Spitzenforschung zur Photoelektrokatalyse eingesetzt.<\/p>\n

Unsere Fe2O3-Targets k\u00f6nnen in verschiedenen Formen und Gr\u00f6\u00dfen, einschlie\u00dflich kreisf\u00f6rmig und rechteckig, an Ihre Bed\u00fcrfnisse angepasst werden und gew\u00e4hrleisten eine dichte Mikrostruktur und stabile Leistung. Bitte kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\nf\u00fcr eine detaillierte Spezifikationsliste.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Ultrahohe Reinheit
\nW\u00e4hlbare Kristallformen
\nHohe Dichte und geringe Porosit\u00e4t
\nFlexible und anpassbare<\/a><\/span><\/p>\n

Spezifikationen
\nAnwendungen von Eisenoxid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Optische<\/a><\/span>
\nD\u00fcnnschichten und Beschichtungen: Werden zur Herstellung von Antireflexionsschichten, Interferenzfiltern und verschiedenen optischen Beschichtungen verwendet. Der Brechungsindex, die H\u00e4rte und andere Eigenschaften der D\u00fcnnschicht h\u00e4ngen eng mit der Reinheit des Targetmaterials zusammen.
\nMagnetische Funktionsger\u00e4te: Dienen als Kernmaterial f\u00fcr die Herstellung wichtiger magnetischer D\u00fcnnschichten in magnetischen Aufzeichnungsmedien, Magnetsensoren und magnetoelektronischen Ger\u00e4ten. Gas- und Chemiesensoren: Werden zur Abscheidung empfindlicher D\u00fcnnschichten verwendet, deren Reinheit und Mikrostruktur sich direkt auf die Empfindlichkeit, Selektivit\u00e4t und Reaktionsgeschwindigkeit des Sensors auswirken.
\nPhotovoltaik und Katalyseforschung: Werden in der Solarenergieumwandlung und Katalyse als Materialien f\u00fcr die Herstellung von Photoanoden oder katalytischen D\u00fcnnschichten verwendet. Hohe Reinheit und gute Kristallinit\u00e4t tragen zur Verbesserung der Umwandlungseffizienz und Stabilit\u00e4t bei.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1: Was sind die Unterschiede zwischen den Targetmaterialien \u03b1-Fe\u2082O\u2083 und \u03b3-Fe\u2082O\u2083? Wie sollte man sich entscheiden?
\nA1: Die beiden unterscheiden sich in ihrer Kristallstruktur und ihren physikalischen Eigenschaften. \u03b1-Fe\u2082O\u2083 (H\u00e4matit) ist thermodynamisch am stabilsten und am weitesten verbreitet; \u03b3-Fe\u2082O\u2083 (Magnesit) hat einen st\u00e4rkeren Magnetismus. Die Wahl h\u00e4ngt von den Leistungszielen f\u00fcr die D\u00fcnnschicht ab: Wenn eine hohe chemische Stabilit\u00e4t und eine bestimmte optische Bandl\u00fccke gew\u00fcnscht sind, kann die \u03b1-Phase gew\u00e4hlt werden; wenn eine stark magnetische D\u00fcnnschicht erforderlich ist, ist die \u03b3-Phase besser geeignet. Unser technisches Team kann Ihnen bei der Auswahl auf der Grundlage der endg\u00fcltigen Anwendung behilflich sein.<\/p>\n

F2: Warum muss das Targetmaterial mit einer Tr\u00e4gerplatte verbunden werden?
\nA2: Die Verbindung mit einer Metalltr\u00e4gerplatte mit hoher W\u00e4rmeleitf\u00e4higkeit ist von entscheidender Bedeutung. Sie leitet die enorme W\u00e4rme, die w\u00e4hrend des Sputterns auf der Targetoberfl\u00e4che entsteht, schnell ab und verhindert so Risse im Target oder Leistungsminderungen aufgrund lokaler \u00dcberhitzung, wodurch ein stabiles Sputtern gew\u00e4hrleistet und die Lebensdauer des Targets verl\u00e4ngert wird.<\/p>\n

F3: Wie sollten Eisen(III)-oxid-Sputter-Targets gelagert werden?
\nA3: Sie sollten in einer trockenen, gut bel\u00fcfteten Umgebung flach liegend gelagert werden, um St\u00f6\u00dfe, Oxidation, Verunreinigungen und physische Besch\u00e4digungen zu vermeiden.<\/p>\n

F4: Sind die Produkte kundenspezifisch?
\nA4: Wir k\u00f6nnen verschiedene Produkte nach Kundenwunsch anpassen.<\/p>\n

Berichte<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird geliefert mit:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n

Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir konzentrieren uns auf die Forschung, Entwicklung und Produktion von hochleistungsf\u00e4higen Keramik-Sputter-Targets und wissen um den entscheidenden Einfluss von Materialreinheit, Kristallform und Mikrostruktur auf die endg\u00fcltige Leistung der D\u00fcnnschicht. Von der Synthese hochreiner Pulver bis zum Pr\u00e4zisionssintern f\u00fchren wir w\u00e4hrend des gesamten Prozesses strenge Qualit\u00e4tskontrollen durch, um sicherzustellen, dass jedes Target-Material eine hervorragende Qualit\u00e4t aufweist.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Eisenoxid-Sputtertargets Eisenoxid -Sputtertargets sind feste Ausgangsmaterialien aus hochreinem Eisenoxidkeramik, die vor allem in physikalischen Gasphasenabscheidungsverfahren (PVD) zum Einsatz kommen. Mit ihnen lassen sich d\u00fcnne Eisenoxidschichten mit spezifischen optoelektronischen, magnetischen oder katalytischen Funktionen auf Substrate aufbringen, beispielsweise mittels Magnetron-Sputtern. Dieses Material wird h\u00e4ufig in optischen Beschichtungen, magnetischen Ger\u00e4ten, Sensoren und in der Spitzenforschung zur […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":53421,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[451],"product_tag":[8144,383],"class_list":{"0":"post-53420","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_brand-ulpmat","7":"product_cat-keramisches-sputtering-target","8":"product_tag-eisenoxid-sputtering-target","9":"product_tag-sputtertarget","11":"first","12":"instock","13":"shipping-taxable","14":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product\/53420","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/53421"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=53420"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=53420"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=53420"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=53420"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}