{"id":52619,"date":"2026-01-05T10:37:17","date_gmt":"2026-01-05T02:37:17","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/eisen-titan-oxid-ilemnit\/"},"modified":"2026-01-05T10:37:17","modified_gmt":"2026-01-05T02:37:17","slug":"eisen-titan-oxid-ilemnit","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/eisen-titan-oxid-ilemnit\/","title":{"rendered":"Eisen-Titan-Oxid (Ilemnit)"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">\u00dcbersicht \u00fcber<\/span><span style=\"font-size: 14pt;\"> Sputtertargets <\/span><span style=\"font-size: 14pt;\">aus Eisen<\/span><span style=\"font-size: 14pt;\">-Titan-Oxid<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><\/span><br \/>\nSputtertargets<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Iron+titanium+oxide\">aus Eisen-Titan-Oxid<\/a><\/span><br \/>\nsind wichtige Keramik-Targets, die in physikalischen Gasphasenabscheidungsprozessen (PVD) verwendet werden. Durch fortschrittliche Technologien wie Magnetron-Sputtern k\u00f6nnen sie d\u00fcnne Verbundoxidschichten mit stabiler und gleichm\u00e4\u00dfiger Zusammensetzung auf Substraten abscheiden. Diese Schichten spielen eine wichtige funktionelle Rolle in Hightech-Bereichen wie <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/anwendung\/halbleiter-materialien\/\">Halbleitern<\/a><\/span><br \/>\n, <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/anwendung\/materialien-fuer-die-optik\/\">optischen<\/a><\/span><br \/>\nBeschichtungen, Sensoren und Oberfl\u00e4chentechnik.<\/p>\n<p>Wir bieten eine Reihe von hochreinen, hochdichten Eisen-Titanoxid-Sputter-Targets an, die in verschiedenen Spezifikationen, einschlie\u00dflich planarer und<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/product-category\/erstklassige-materialien\/rotierende-zielscheiben\/\"> rotierender Targets<\/a><\/span><br \/>\n, individuell angepasst werden k\u00f6nnen, um Ihren spezifischen Anforderungen in verschiedenen Anwendungsszenarien und Beschichtungsanlagen gerecht zu werden. Bitte kontaktieren Sie uns, wenn Sie ein detailliertes Produktdatenblatt ben\u00f6tigen.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Streng kontrollierte St\u00f6chiometrie<br \/>\nUltrahohe Reinheit, extrem geringer Verunreinigungsgehalt<br \/>\nHohe Dichte und ausgezeichnete Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Mikrostruktur<br \/>\nStabile Sputterleistung und Filmbildungsrate<br \/>\nUnterst\u00fctzt reaktive Sputter- und Mittelfrequenz-Sputterprozesse<br \/>\nBietet eine durchg\u00e4ngige Qualit\u00e4tskontrolle vom Rohmaterial bis zum fertigen Produkt<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Eisen-Titan-Oxid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n<p><strong>Fortschrittliche <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/anwendung\/materialien-fuer-die-optik\/\">optische<\/a> <\/span>Beschichtung:<\/strong><br \/>\nTargets werden verwendet, um hochleistungsf\u00e4hige optische D\u00fcnnschichten auf Substraten wie Glas aufzubringen, darunter Antireflexionsschichten, Low-E-Schichten (Low Emissivity) und Sonnenschutzschichten. Diese regulieren effektiv die Lichtdurchl\u00e4ssigkeit und Reflexion und verbessern so die Leistung von Architekturglas und optischen Komponenten.<\/p>\n<p><strong><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/anwendung\/halbleiter-materialien\/\">Halbleiter<\/a> <\/span>und Funktionsbauelemente:<\/strong><br \/>\nAufgebrachte Eisen-Titan-Oxid-D\u00fcnnschichten k\u00f6nnen zur Herstellung spezifischer Funktionsschichten verwendet werden, z. B. dielektrische oder empfindliche Schichten in Halbleiterbauelementen, die in der Mikroelektronik und Sensorik eingesetzt werden.<\/p>\n<p><strong>Oberfl\u00e4chenschutz- und Modifikationsbeschichtungen:<\/strong><br \/>\nDurch Sputterprozesse kann eine dichte, harte Oxidschutzschicht auf der Oberfl\u00e4che von Werkzeugen, Formen oder kritischen Bauteilen gebildet werden, wodurch deren Verschlei\u00dffestigkeit, Korrosionsbest\u00e4ndigkeit und Lebensdauer erheblich verbessert werden.<\/p>\n<p><strong>Spitzenforschung und Entwicklung neuer Materialien:<\/strong><br \/>\nAls wichtige Versuchsmaterialien dienen sie der Erforschung und Entwicklung neuartiger funktioneller D\u00fcnnschichten, katalytischer Materialien und Energiematerialien (z. B. f\u00fcr die Photoelektrokatalyse) und bilden damit eine materielle Grundlage f\u00fcr technologische Innovationen.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/h2>\n<p>F1: Wie hoch ist der typische Reinheitsgrad von Eisen-Titan-Oxid-Targets?<br \/>\nA1: Die Reinheit unserer Produkte kann je nach Anwendungsanforderungen angepasst werden und erreicht bis zu 99,9 %. Der Gehalt an wichtigen Verunreinigungselementen wird auf einem extrem niedrigen Niveau gehalten, um den strengen Anforderungen von Halbleiter- oder optischen Beschichtungsprozessen gerecht zu werden.<\/p>\n<p>F2: Wie w\u00e4hle ich die geeignete Targetgr\u00f6\u00dfe und -form f\u00fcr meine Beschichtungsanlage aus?<br \/>\nA2: Wir bieten eine Vielzahl standardisierter Formen an, darunter planare und rotierende Targets, und akzeptieren auch Sondergr\u00f6\u00dfen. Geben Sie einfach das Ger\u00e4temodell oder spezifische Zeichnungen und technische Anforderungen an, und unser technisches Team wird Ihnen die f\u00fcr Sie am besten geeignete Produktl\u00f6sung empfehlen oder entwerfen.<\/p>\n<p>F3: Wie lang ist der Produktionszyklus f\u00fcr die Bestellung eines Targets mit nicht standardm\u00e4\u00dfiger Zusammensetzung oder speziellen Spezifikationen?<br \/>\nA3: Der Anpassungszyklus h\u00e4ngt von der Komplexit\u00e4t der Formulierung und der Schwierigkeit der Verarbeitung ab. F\u00fcr Anpassungen auf der Grundlage ausgereifter Prozesse dauert es in der Regel mehrere Wochen; f\u00fcr v\u00f6llig neue Entwicklungen m\u00fcssen wir eine Prozessbewertung durchf\u00fchren. Nach Erhalt Ihrer spezifischen Anforderungen werden wir Ihnen so schnell wie m\u00f6glich einen detaillierten Zeitplan und ein Angebot unterbreiten.<\/p>\n<p>F4: Welche besonderen Vorsichtsma\u00dfnahmen sollten bei der Verwendung von Keramik-Sputter-Targets getroffen werden, um die Prozessstabilit\u00e4t zu gew\u00e4hrleisten?<br \/>\nA4: Achten Sie bei der Verwendung von Keramik-Sputter-Targets auf die richtige Installation und vermeiden Sie ein zu festes Anziehen, um Risse zu vermeiden. Es wird au\u00dferdem empfohlen, vor dem Sputtern eine gr\u00fcndliche Reinigung der Target-Oberfl\u00e4che durchzuf\u00fchren. Bei reaktiven Sputterprozessen sind eine pr\u00e4zise Steuerung des Sauerstoffpartialdrucks und die Verwendung einer Mittelfrequenz-Stromversorgung entscheidend f\u00fcr die Aufrechterhaltung der Sputterstabilit\u00e4t und die Verhinderung von Targetvergiftung und Lichtbogenbildung.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Berichte<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird geliefert mit:<br \/>\nAnalysezertifikat (COA)<br \/>\nTechnisches Datenblatt (TDS)<br \/>\nSicherheitsdatenblatt (MSDS)<br \/>\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht<br \/>\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Wir sind nicht nur Hersteller von Sputtertargets, sondern auch Ihr L\u00f6sungspartner f\u00fcr technische Herausforderungen. Basierend auf einem tiefgreifenden Verst\u00e4ndnis der Eigenschaften von Oxidmaterialien und einer strengen, pr\u00e4zisen Kontrolle w\u00e4hrend des gesamten Prozesses stellen wir sicher, dass jedes Target eine hervorragende und gleichbleibende Leistung aufweist. Wir sind bestrebt, Ihr vertrauensw\u00fcrdiger Langzeitpartner mit professionellen und zuverl\u00e4ssigen Produkten sowie effizienten und flexiblen Dienstleistungen zu werden.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Eisen-Titan-Oxid Sputtertargets aus Eisen-Titan-Oxid sind wichtige Keramik-Targets, die in physikalischen Gasphasenabscheidungsprozessen (PVD) verwendet werden. Durch fortschrittliche Technologien wie Magnetron-Sputtern k\u00f6nnen sie d\u00fcnne Verbundoxidschichten mit stabiler und gleichm\u00e4\u00dfiger Zusammensetzung auf Substraten abscheiden. Diese Schichten spielen eine wichtige funktionelle Rolle in Hightech-Bereichen wie Halbleitern , optischen Beschichtungen, Sensoren und Oberfl\u00e4chentechnik. Wir bieten eine [&hellip;]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":52620,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[451],"product_tag":[7953,383],"class_list":{"0":"post-52619","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_brand-ulpmat","7":"product_cat-keramisches-sputtering-target","8":"product_tag-eisen-titan-oxid-ilemnit-sputtering-target","9":"product_tag-sputtertarget","11":"first","12":"instock","13":"shipping-taxable","14":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product\/52619","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/52620"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=52619"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=52619"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=52619"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=52619"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}