{"id":50735,"date":"2026-01-08T14:45:08","date_gmt":"2026-01-08T06:45:08","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/vanadium-oxid-4\/"},"modified":"2026-01-08T14:45:08","modified_gmt":"2026-01-08T06:45:08","slug":"vanadium-oxid-4","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/vanadium-oxid-4\/","title":{"rendered":"Vanadium-Oxid"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Vanadiumoxid-Sputter-Targets \u2013 \u00dcbersicht<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Vanadium+Oxide\">Vanadiumoxid<\/a><\/span><br \/>\n-Sputter-Targets sind wichtige \u00dcbergangsmetalloxid-Targets, die sich f\u00fcr die Herstellung von Oxid-D\u00fcnnschichten mit besonderen elektrischen und strukturellen Eigenschaften eignen. Dieses Produkt wird h\u00e4ufig in funktionalen D\u00fcnnschichten, in der Forschung zu elektronischen Ger\u00e4ten und bei der Entwicklung von Materialien und Prozessen im Zusammenhang mit Phasenwechseln eingesetzt.<\/p>\n<p>Wir bieten V\u2082O\u2083-Sputter-Targets in verschiedenen Gr\u00f6\u00dfen und Strukturen an und unterst\u00fctzen die Prozessanpassung und kundenspezifische Bearbeitung. Bitte<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\"> kontaktieren Sie uns<\/a><\/span><br \/>\nf\u00fcr <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/service\/technische-unterstuetzung\/\">technische Unterst\u00fctzung.<\/a><\/span><\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Stabile Oxidzusammensetzung<br \/>\nHohe Targetdichte<br \/>\nKontrollierbarer Sputterprozess<br \/>\nGute Wiederholbarkeit der Schicht<br \/>\nKompatibel mit verschiedenen Abscheidungsprozessen<br \/>\nUnterst\u00fctzt Backplane<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/service\/ziel-bindung\/\">-Bonding<\/a><\/span><\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Vanadiumoxid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n<p><strong>Herstellung funktionaler Oxid-D\u00fcnnschichten:<\/strong><br \/>\nKann zur Abscheidung von \u00dcbergangsmetalloxid-D\u00fcnnschichten verwendet werden, die die Anforderungen von Anwendungen mit spezifischen elektrischen und strukturellen Eigenschaften erf\u00fcllen.<\/p>\n<p><strong>Phase-Change-Materialien und Ger\u00e4teforschung:<\/strong><br \/>\nDieses Target wird h\u00e4ufig zur Untersuchung des Phasenwechselverhaltens in Abh\u00e4ngigkeit von Temperatur oder externen Feldern verwendet und ist eine wichtige Abscheidungsquelle f\u00fcr funktionelle Phase-Change-Materialien.<\/p>\n<p><strong>Anwendungen in Elektronik und Mikro-\/Nanoger\u00e4ten:<\/strong><br \/>\nV\u2082O\u2083-D\u00fcnnschichten k\u00f6nnen bei der Herstellung von elektronischen Ger\u00e4ten und Mikro-\/Nanostrukturen als Funktionsschichten im Ger\u00e4testrukturdesign dienen.<\/p>\n<p><strong>Forschung und Entwicklung von Prozessparametern:<\/strong><br \/>\nGeeignet f\u00fcr Universit\u00e4ten und Forschungseinrichtungen zur Erforschung von Sputterprozessfenstern und zur Untersuchung der Leistungssteuerung von D\u00fcnnschichten.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff; font-size: 14pt;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/unternehmen\/faqs\/\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/a><\/span><\/h2>\n<p>F1: F\u00fcr welche Sputtermethode ist das Vanadiumoxid-Sputtertarget geeignet?<br \/>\nA1: Dieses Target kann je nach Ger\u00e4tekonfiguration f\u00fcr RF-Sputtern und unter geeigneten Bedingungen auch f\u00fcr DC-Sputtern verwendet werden.<\/p>\n<p>F2: Ist bei der Verwendung von V\u2082O\u2083-Targets eine Atmosph\u00e4renkontrolle erforderlich?<br \/>\nA2: Im Allgemeinen muss die Abscheidungsatmosph\u00e4re kontrolliert werden, um die gew\u00fcnschte Zusammensetzung und Struktur des D\u00fcnnfilms zu erhalten.<\/p>\n<p>F3: K\u00f6nnen Vanadiumoxid-Sputter-Targets auf eine R\u00fcckwandplatte geklebt werden?<br \/>\nA3: Ja, je nach Anwendungsanforderungen kann das Target auf eine Metallr\u00fcckwandplatte geklebt werden, um die W\u00e4rmeableitung und die Montagestabilit\u00e4t zu verbessern.<\/p>\n<p>F4: Ist das Vanadiumoxid-Target eher f\u00fcr Forschungs- oder Produktionsanwendungen geeignet?<br \/>\nA4: Derzeit wird es haupts\u00e4chlich in der wissenschaftlichen Forschung und der Prozessentwicklung in kleinem Ma\u00dfstab eingesetzt, eignet sich aber auch f\u00fcr die Pilotproduktion spezifischer funktioneller D\u00fcnnschichten.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Berichte<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird geliefert mit:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Analysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/technisches-datenblatt\/\"><u>Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/sicherheitsdatenblatt\/\"><u>Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht<br \/>\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Wir verf\u00fcgen \u00fcber langj\u00e4hrige Erfahrung in der Lieferung von Oxid-Sputter-Targets, sind mit den Anwendungseigenschaften von V\u2082O\u2083 in der D\u00fcnnschichtabscheidung und Phasen\u00fcbergangsforschung vertraut und k\u00f6nnen eine stabile Targetqualit\u00e4t, klare technische Informationen und flexible Anpassungsunterst\u00fctzung bieten, um Kunden bei der effizienten Weiterentwicklung ihrer Forschungs- und Anwendungsprojekte zu unterst\u00fctzen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Vanadiumoxid-Sputter-Targets \u2013 \u00dcbersicht Vanadiumoxid -Sputter-Targets sind wichtige \u00dcbergangsmetalloxid-Targets, die sich f\u00fcr die Herstellung von Oxid-D\u00fcnnschichten mit besonderen elektrischen und strukturellen Eigenschaften eignen. Dieses Produkt wird h\u00e4ufig in funktionalen D\u00fcnnschichten, in der Forschung zu elektronischen Ger\u00e4ten und bei der Entwicklung von Materialien und Prozessen im Zusammenhang mit Phasenwechseln eingesetzt. 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