{"id":50670,"date":"2026-01-08T14:45:09","date_gmt":"2026-01-08T06:45:09","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/vanadium-oxid-bor\/"},"modified":"2026-01-08T14:45:09","modified_gmt":"2026-01-08T06:45:09","slug":"vanadium-oxid-bor","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/vanadium-oxid-bor\/","title":{"rendered":"Vanadium-Oxid &#8211; Bor"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Vanadiumoxid-Bor-Sputter-Targets \u2013 \u00dcbersicht<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Vanadium+Oxide+-+Boron\">Vanadiumoxid-Bor-<\/a><\/span><br \/>\nSputter<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Vanadium+Oxide+-+Boron\">&#8211;<\/a><\/span><br \/>\nTargets sind funktionale Targets, die auf Vanadiumoxidbasis mit Bor dotiert sind und die F\u00e4higkeit besitzen, die elektrischen und optischen Eigenschaften von D\u00fcnnschichten zu steuern. Dieses Material wird h\u00e4ufig bei der Herstellung von elektrochromen D\u00fcnnschichten, funktionalen Bauelementen und Hochleistungs-D\u00fcnnschichten in der wissenschaftlichen Forschung verwendet.<\/p>\n<p>Wir bieten V2O5-B-Sputter-Targets in verschiedenen Spezifikationen an und unterst\u00fctzen kundenspezifische Prozesse und die Anpassung von Anlagen. Bitte <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">kontaktieren Sie uns<\/a><\/span><br \/>\nf\u00fcr detaillierte L\u00f6sungen.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Gleichm\u00e4\u00dfige Bor-Dotierung<br \/>\nEinstellbare D\u00fcnnschichteigenschaften<br \/>\nStabiler Sputterprozess<br \/>\nDichte Targetstruktur<br \/>\nGeeignet f\u00fcr RF-Sputterprozesse<br \/>\nUnterst\u00fctzt Backplane<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/service\/ziel-bindung\/\">-Bonding<\/a><\/span><\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Vanadiumoxid-Bor-Sputtertargets<\/span><\/h2>\n<p><strong>Herstellung elektrochromer D\u00fcnnschichten:<\/strong><br \/>\nKann zur Herstellung elektrochromer D\u00fcnnschichten verwendet werden; die Bordotierung f\u00fchrt zu schnelleren Reaktionsgeschwindigkeiten und einer hervorragenden optischen Steuerbarkeit.<br \/>\n<strong>Funktionale Ger\u00e4ted\u00fcnnschichten:<\/strong><br \/>\nMit diesem Target hergestellte D\u00fcnnschichten k\u00f6nnen auf Sensoren oder mikroelektronischen Ger\u00e4ten angewendet werden und verbessern die Leitf\u00e4higkeit und Stabilit\u00e4t der Schicht.<br \/>\n<strong>Forschung zu neuartigen Energiematerialien:<\/strong><br \/>\nV\u2082O\u2085-B-D\u00fcnnschichten k\u00f6nnen die Ionentransportleistung in Energiespeichervorrichtungen verbessern, und das Sputtertarget bietet eine zuverl\u00e4ssige Quelle f\u00fcr die Herstellung von Hochleistungs-D\u00fcnnschichten.<br \/>\n<strong>Wissenschaftliche Forschung und Prozesserkundung:<\/strong><br \/>\nWeit verbreitet in Universit\u00e4ten und Forschungseinrichtungen f\u00fcr D\u00fcnnschichtstrukturen, Prozessparameteroptimierung und Funktions\u00fcberpr\u00fcfung.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/unternehmen\/faqs\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>F1: Was ist der Unterschied zwischen V\u2082O\u2085-B-Sputter-Targets und gew\u00f6hnlichen V\u2082O\u2085-Targets?<br \/>\nA1: Nach der Dotierung mit Bor k\u00f6nnen die Leitf\u00e4higkeit und die optische Reaktion des D\u00fcnnfilms reguliert werden, w\u00e4hrend gleichzeitig die Filmdichte und -gleichm\u00e4\u00dfigkeit verbessert werden.<\/p>\n<p>F2: Welche Anforderungen gelten f\u00fcr den Sputterprozess bei der Abscheidung von Vanadiumoxid-Bor-D\u00fcnnfilmen?<br \/>\nA2: In der Regel wird Hochfrequenz-Sputtern verwendet. Die Leistung und die Atmosph\u00e4re m\u00fcssen entsprechend der Filmdicke und dem Dotierungsverh\u00e4ltnis angepasst werden, um eine optimale Filmleistung zu erzielen.<\/p>\n<p>F3: Unterst\u00fctzt das Vanadiumoxid-Bor-Target die Backplane-Bonding?<br \/>\nA3: Ja, es kann entsprechend den Ger\u00e4teanforderungen mit einer Metall-Backplane verbunden werden, um die Targetstabilit\u00e4t und die W\u00e4rmeableitungseffizienz zu verbessern.<\/p>\n<p>F4: Ist die Vanadiumoxid-Bor-Schicht f\u00fcr Forschungs- oder Produktionsanwendungen geeignet?<br \/>\nA4: Dieses Sputtertarget eignet sich f\u00fcr Forschungsexperimente und die Entwicklung funktionaler D\u00fcnnschichten und kann auch f\u00fcr die Kleinserienfertigung und Prozessverifizierung verwendet werden.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Berichte<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird geliefert mit:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Analysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/technisches-datenblatt\/\"><u>Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/sicherheitsdatenblatt\/\"><u>Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht<br \/>\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Wir sind auf die Forschung und Lieferung von funktionalen Oxiden und dotierten Sputtertargets spezialisiert. Wir sind mit den Anwendungseigenschaften von V2O5-B in der Forschung und in industriellen D\u00fcnnschichten vertraut und k\u00f6nnen eine stabile Targetqualit\u00e4t, flexible Spezifikationsanpassungen und umfassenden technischen Support bieten, um Kunden bei der erfolgreichen Fertigstellung der D\u00fcnnschichtvorbereitung und Leistungs\u00fcberpr\u00fcfung zu unterst\u00fctzen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Vanadiumoxid-Bor-Sputter-Targets \u2013 \u00dcbersicht Vanadiumoxid-Bor- Sputter &#8211; Targets sind funktionale Targets, die auf Vanadiumoxidbasis mit Bor dotiert sind und die F\u00e4higkeit besitzen, die elektrischen und optischen Eigenschaften von D\u00fcnnschichten zu steuern. Dieses Material wird h\u00e4ufig bei der Herstellung von elektrochromen D\u00fcnnschichten, funktionalen Bauelementen und Hochleistungs-D\u00fcnnschichten in der wissenschaftlichen Forschung verwendet. 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