{"id":50442,"date":"2026-01-08T14:45:12","date_gmt":"2026-01-08T06:45:12","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/vanadiumnitrid\/"},"modified":"2026-01-08T14:45:12","modified_gmt":"2026-01-08T06:45:12","slug":"vanadiumnitrid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/vanadiumnitrid\/","title":{"rendered":"Vanadiumnitrid"},"content":{"rendered":"

Vanadiumnitrid-Sputtertargets \u2013 \u00dcbersicht<\/span><\/h2>\n

Vanadiumnitrid<\/a><\/span>
\n-Sputtertargets sind funktionelle Targets mit hoher H\u00e4rte und guter thermischer Stabilit\u00e4t, die f\u00fcr verschiedene physikalische Gasphasenabscheidungsverfahren geeignet sind. Mit diesen Targets lassen sich dichte und stabile Nitrid-D\u00fcnnschichten herstellen.<\/p>\n

Wir bieten Vanadiumnitrid-Sputtertargets in verschiedenen Gr\u00f6\u00dfen und Strukturen an. Bitte kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\nf\u00fcr ma\u00dfgeschneiderte L\u00f6sungen und technischen Support.<\/a><\/span><\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Stabiler Sputterprozess
\nHohe Targetdichte
\nGute Filmhaftung
\nHervorragende Verschlei\u00dffestigkeit
\nZuverl\u00e4ssige thermische Stabilit\u00e4t
\nFlexible Gr\u00f6\u00dfenangaben<\/p>\n

Anwendungen von Vanadiumnitrid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Herstellung verschlei\u00dffester Funktionsschichten:<\/strong>
\nGeeignet f\u00fcr die Herstellung hochharter, verschlei\u00dffester Schichten, die die Verschlei\u00dffestigkeit von Substratoberfl\u00e4chen effektiv verbessern.
\nBeschichtung von Werkzeug- und Formoberfl\u00e4chen:<\/strong>
\nDurch Sputtern gebildete Vanadiumnitrid-Beschichtungen k\u00f6nnen die Stabilit\u00e4t von Werkzeugen und Formen unter hohen Belastungen verbessern.
\nD\u00fcnnschichten f\u00fcr elektronische und funktionale Ger\u00e4te:<\/strong>
\nDieses Target kann zur Herstellung von funktionalen D\u00fcnnschichten verwendet werden, die die Anforderungen an eine hohe strukturelle Gleichm\u00e4\u00dfigkeit und Leistungskonsistenz in Anwendungen erf\u00fcllen.
\nWissenschaftliche Forschung und D\u00fcnnschichtprozessforschung:<\/strong>
\nWird h\u00e4ufig in der Forschung zu D\u00fcnnschichtmaterialien und Abscheidungsprozessen verwendet und eignet sich f\u00fcr Anwendungen im Labor- und Pilotma\u00dfstab.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1: Ist das Vanadiumnitrid-Sputtertarget w\u00e4hrend des Sputterns stabil?
\nA1: Bei geeigneten Prozessparametern ist der Sputterprozess des Targets stabil und die Kontinuit\u00e4t der Filmbildung gut.<\/p>\n

F2: Wie wirkt sich die Targetdichte auf die Filmleistung aus?
\nA2: Eine h\u00f6here Dichte tr\u00e4gt dazu bei, Filme mit einer gleichm\u00e4\u00dfigen Struktur und guter Haftung zu erhalten.<\/p>\n

F3: Ist dieses Target f\u00fcr langfristiges kontinuierliches Sputtern geeignet?
\nA3: Unter guten K\u00fchl- und Prozesskontrollbedingungen kann es die Anforderungen f\u00fcr kontinuierliches oder langfristiges Sputtern erf\u00fcllen.<\/p>\n

F4: Welche Vorsichtsma\u00dfnahmen sollten bei der Verwendung getroffen werden?
\nA4: Es wird empfohlen, es in einer sauberen, trockenen Umgebung und mit geeigneten Sputterparametern zu installieren und zu verwenden.<\/p>\n

Berichte<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird geliefert mit:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n

. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir konzentrieren uns seit langem auf die Herstellung und Anwendungsunterst\u00fctzung von funktionalen Sputtertargets und k\u00f6nnen Vanadiumnitrid-Sputtertargets mit zuverl\u00e4ssiger Struktur und gleichbleibender Leistung stabil liefern. Wir bieten auch gezielte technische Beratung auf der Grundlage der Prozessbedingungen unserer Kunden, um eine stabile Abscheidung und eine hochwertige D\u00fcnnschichtherstellung zu erreichen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Vanadiumnitrid-Sputtertargets \u2013 \u00dcbersicht Vanadiumnitrid -Sputtertargets sind funktionelle Targets mit hoher H\u00e4rte und guter thermischer Stabilit\u00e4t, die f\u00fcr verschiedene physikalische Gasphasenabscheidungsverfahren geeignet sind. Mit diesen Targets lassen sich dichte und stabile Nitrid-D\u00fcnnschichten herstellen. Wir bieten Vanadiumnitrid-Sputtertargets in verschiedenen Gr\u00f6\u00dfen und Strukturen an. Bitte kontaktieren Sie uns f\u00fcr ma\u00dfgeschneiderte L\u00f6sungen und technischen Support. Produkt-Highlights Stabiler Sputterprozess Hohe […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":50443,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[451],"product_tag":[7545],"class_list":["post-50442","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_brand-ulpmat","product_cat-keramisches-sputtering-target","product_tag-vanadiumnitrid-sputtering-target","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product\/50442","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/50443"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=50442"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=50442"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=50442"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=50442"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}