{"id":49870,"date":"2026-01-12T14:47:25","date_gmt":"2026-01-12T06:47:25","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/kalziumkobaltat-kalzium-kobalt-oxid\/"},"modified":"2026-01-12T14:47:25","modified_gmt":"2026-01-12T06:47:25","slug":"kalziumkobaltat-kalzium-kobalt-oxid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/kalziumkobaltat-kalzium-kobalt-oxid\/","title":{"rendered":"Kalziumkobaltat (Kalzium-Kobalt-Oxid)"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Calcium-Kobaltat-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Calcium-Kobaltat<\/a><\/span>
\n-Sputter-Targets sind hochleistungsf\u00e4hige thermoelektrische Oxidkeramik-Targets mit einer einzigartigen geschichteten Kristallstruktur. Sie werden in der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) zur Herstellung von funktionalen D\u00fcnnschichten mit hervorragenden thermoelektrischen Eigenschaften und hoher Temperaturstabilit\u00e4t verwendet, vor allem f\u00fcr Anwendungen in mikrothermoelektrischen Umwandlungsvorrichtungen, Hochtemperatursensoren und neuartigen elektronischen Bauteilen.<\/p>\n

F\u00fcr detaillierte technische Parameter dieses Targets oder zur Besprechung spezifischer Anwendungsl\u00f6sungen steht Ihnen unser technisches Team gerne pers\u00f6nlich zur Verf\u00fcgung.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Hochreine phasengesteuerte Synthese
\nHervorragende thermoelektrische Eigenschaften der D\u00fcnnschicht
\nGute Hochtemperaturstabilit\u00e4t
\nAnpassbare<\/a><\/span>
\nFormen und Gr\u00f6\u00dfen<\/p>\n

Anwendungen von Calciumkobaltat-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Mikrothermoelektrische Umwandlungsvorrichtungen:<\/strong>
\nDurch die Nutzung des hohen thermoelektrischen Leistungsfaktors von gesputterten D\u00fcnnschichten in vertikaler Richtung werden eine effiziente Abw\u00e4rmer\u00fcckgewinnung im kleinen Ma\u00dfstab und eine Eigenstromversorgung f\u00fcr mikroelektronische Systeme und IoT-Sensoren erreicht.
\nHochtemperatur-Thermistoren:<\/strong>
\nAufgrund der ausgezeichneten thermischen Stabilit\u00e4t und des Widerstandes des Materials bei hohen Temperaturen k\u00f6nnen die hergestellten D\u00fcnnschichten zur Entwicklung von Temperatursensor-Komponenten verwendet werden, die in extremen Umgebungen eingesetzt werden.
\nNeuartige elektronische Oxid-Bauelemente:<\/strong>
\nAls wichtiges Material f\u00fcr Funktionsschichten wird es in der Forschung und Entwicklung von All-Oxid-D\u00fcnnschichtbauelementen der n\u00e4chsten Generation mit besonderen magnetischen und elektrischen Transporteigenschaften verwendet und dient der Spitzenforschung und Prototypenentwicklung.<\/p>\n

H\u00e4ufig<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1: Was sind die wichtigsten thermoelektrischen Leistungsindikatoren von D\u00fcnnschichten, die durch Sputtern mit Kalzium-Kobalt-Oxid-Targets hergestellt wurden?
\nA1: Der Schl\u00fcssel liegt im Seebeck-Koeffizienten (thermoelektrisches Potenzial) und im Leistungsfaktor der D\u00fcnnschicht. Durch strenge Prozesskontrolle stellen wir sicher, dass das Target D\u00fcnnschichten mit hohen Seebeck-Koeffizienten und geeigneter Leitf\u00e4higkeit abscheiden kann, wodurch hervorragende Leistungsfaktoren erzielt werden.<\/p>\n

F2: Wie kann sichergestellt werden, dass die St\u00f6chiometrie der D\u00fcnnschicht w\u00e4hrend des Sputterns mit der des Targets \u00fcbereinstimmt?
\nA2: Wir gew\u00e4hrleisten eine hochgradig gleichm\u00e4\u00dfige und dichte Targetzusammensetzung durch Optimierung des Sinterprozesses und empfehlen die Verwendung geeigneter Sputteratmosph\u00e4ren (z. B. Argon-Sauerstoff-Gemische) und Substrattemperaturen, um den Sauerstoffverlust w\u00e4hrend der Abscheidung wirksam zu reduzieren und die St\u00f6chiometrie der D\u00fcnnschicht aufrechtzuerhalten.<\/p>\n

F3: Welche Tr\u00e4gerplatten werden typischerweise mit dieser Art von Target verbunden?
\nA3: Je nach den Anforderungen des Kunden an die Ausr\u00fcstung und den Prozess verwenden wir \u00fcblicherweise Kupfer oder Molybd\u00e4n als Tr\u00e4germaterial f\u00fcr die Verbindung<\/a><\/span>
\n, um eine gute W\u00e4rmeleitf\u00e4higkeit und einen guten elektrischen Kontakt zu gew\u00e4hrleisten und die Anforderungen an ein stabiles Sputtern bei verschiedenen Leistungsstufen zu erf\u00fcllen.<\/p>\n

F4: Wie werden die Abscheidungsrate und die Kristallqualit\u00e4t der D\u00fcnnschicht gesteuert?
\nA4: Die Abscheidungsrate wird haupts\u00e4chlich durch die Sputterleistung und den Arbeitsgasdruck beeinflusst. Die Kristallqualit\u00e4t des D\u00fcnnfilms (Orientierung, Korngr\u00f6\u00dfe) muss durch pr\u00e4zise Steuerung der Substrattemperatur, des Temperprozesses und der Sputteratmosph\u00e4re optimiert werden. Wir k\u00f6nnen unseren Kunden grundlegende Hinweise zu den Prozessparametern geben.<\/p>\n

Berichte<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n

. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir sind auf die Herstellung fortschrittlicher Oxidkeramikmaterialien spezialisiert und verf\u00fcgen \u00fcber fundierte Forschungs- und Produktionserfahrung mit komplexen Oxiden wie Calciumkobaltat. Wir bieten nicht nur hochreine Sputtertargets mit stabiler Qualit\u00e4t und zuverl\u00e4ssiger Leistung, sondern sind auch bestrebt, unsere Kunden bei der Entwicklung neuartiger funktioneller D\u00fcnnschichten tatkr\u00e4ftig zu unterst\u00fctzen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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