{"id":49008,"date":"2026-01-13T09:49:52","date_gmt":"2026-01-13T01:49:52","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/kaliumtantalat-kalium-tantal-oxid\/"},"modified":"2026-01-13T09:49:52","modified_gmt":"2026-01-13T01:49:52","slug":"kaliumtantalat-kalium-tantal-oxid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/kaliumtantalat-kalium-tantal-oxid\/","title":{"rendered":"Kaliumtantalat (Kalium-Tantal-Oxid)"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Kaliumtantalatoxid<\/span><\/h2>\n<p>Sputtertargets<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Potassium+Tantalum+Oxide\">aus Kaliumtantalatoxid<\/a><\/span><br \/>\nsind funktionelle Keramik-Targets auf Basis von Oxiden mit Perowskitstruktur, die sich durch eine gleichm\u00e4\u00dfige Zusammensetzung und strukturelle Stabilit\u00e4t auszeichnen. Diese Targets werden in erster Linie zur Herstellung von Oxid-D\u00fcnnschichten verwendet, die in den Bereichen Elektronikmaterialien und funktionelle D\u00fcnnschichtforschung zum Einsatz kommen.<\/p>\n<p>Wir bieten KTaO3-Sputter-Targets in verschiedenen Gr\u00f6\u00dfen, Dicken und Befestigungsmethoden an und unterst\u00fctzen kundenspezifische Bearbeitungen. Bitte<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\"> kontaktieren Sie uns<\/a><\/span><br \/>\nf\u00fcr passende L\u00f6sungen.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Keramik-Target mit hoher Dichte<br \/>\nStabiler und zuverl\u00e4ssiger Sputterprozess<br \/>\nGute Wiederholbarkeit der D\u00fcnnschichtzusammensetzung<br \/>\nUnterst\u00fctzt RF-Sputterprozesse<br \/>\nBackplane-Bonding verf\u00fcgbar<br \/>\nGeeignet f\u00fcr Forschung und Pilotproduktion<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Kalium-Tantal-Oxid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n<p>Herstellung von funktionalen Oxid-D\u00fcnnschichten: Wird h\u00e4ufig zur Herstellung von Perowskit-strukturierten Oxid-D\u00fcnnschichten verwendet, um funktionale Schichten mit stabiler Zusammensetzung und kontrollierbarer Dicke zu erhalten.<br \/>\nElektronische und dielektrische D\u00fcnnschichtforschung: In der elektronischen Materialforschung kann dieses Target f\u00fcr die Abscheidung von dielektrischen oder funktionalen D\u00fcnnschichten verwendet werden, um die Ger\u00e4teleistung zu bewerten.<br \/>\nEntwicklung von Mehrschicht-D\u00fcnnschichten und heterogenen Strukturen: Geeignet f\u00fcr die Herstellung von Mehrschicht- oder Hetero\u00fcbergangs-D\u00fcnnschichten, bietet wertvolle Referenz f\u00fcr die Qualit\u00e4tskontrolle von Grenzfl\u00e4chen.<br \/>\nOptimierung von Prozessparametern und Abscheidungsbedingungen: Dieses Target wird h\u00e4ufig in der Entwicklungsphase von Sputterprozessen verwendet, um die Auswirkungen von Leistung, Atmosph\u00e4re und Temperatur auf die Leistung von D\u00fcnnschichten zu untersuchen.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt; color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/unternehmen\/faqs\/\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/a><\/span><\/h2>\n<p>F1: Ist das Kaliumtantaloxid-Sputtertarget f\u00fcr DC- oder RF-Sputtern geeignet?<br \/>\nA1: Als Keramiktarget eignet es sich im Allgemeinen besser f\u00fcr RF-Sputterprozesse.<\/p>\n<p>F2: Neigt das Target w\u00e4hrend des Sputterns zu Rissbildung?<br \/>\nA2: Unter geeigneten Prozessbedingungen ist die Targetstruktur stabil und Rissbildung ist kein Problem.<\/p>\n<p>F3: K\u00f6nnen Sie Targets liefern, die auf eine Backplane gebondet sind?<br \/>\nA3: Ja, wir bieten Bonding-Dienstleistungen mit Kupfer oder anderen g\u00e4ngigen Backplanes an.<\/p>\n<p>F4: Muss das Target vor der Verwendung speziell behandelt werden?<br \/>\nA4: Im Allgemeinen ist keine spezielle Behandlung erforderlich; die Standardverfahren f\u00fcr die Verwendung von Sputtertargets sind ausreichend.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Bericht<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird mit<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>folgenden Dokumenten<\/u><\/a><\/span><br \/>\ngeliefert:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Analysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/technisches-datenblatt\/\"><u>Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/sicherheitsdatenblatt\/\"><u>Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht<br \/>\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Wir verf\u00fcgen \u00fcber umfangreiche Erfahrung mit Sputtertargets aus Oxidkeramik und k\u00f6nnen Ihnen daher zuverl\u00e4ssige Unterst\u00fctzung in Bezug auf Materialkonsistenz, Verarbeitungsgenauigkeit und Anwendungsanpassung bieten, damit unsere Kunden ihre Forschung und Entwicklung im Bereich D\u00fcnnschichttechnologie sowie die Prozessvalidierung stetig vorantreiben k\u00f6nnen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Kaliumtantalatoxid Sputtertargets aus Kaliumtantalatoxid sind funktionelle Keramik-Targets auf Basis von Oxiden mit Perowskitstruktur, die sich durch eine gleichm\u00e4\u00dfige Zusammensetzung und strukturelle Stabilit\u00e4t auszeichnen. Diese Targets werden in erster Linie zur Herstellung von Oxid-D\u00fcnnschichten verwendet, die in den Bereichen Elektronikmaterialien und funktionelle D\u00fcnnschichtforschung zum Einsatz kommen. 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