{"id":48631,"date":"2026-01-15T13:55:03","date_gmt":"2026-01-15T05:55:03","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/magnesium-metall\/"},"modified":"2026-01-15T13:55:03","modified_gmt":"2026-01-15T05:55:03","slug":"magnesium-metall","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/magnesium-metall\/","title":{"rendered":"Magnesium-Metall"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">\u00dcbersicht \u00fcber Magnesium-Metall-Sputtertargets<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Magnesium+metal\">Magnesium-Metall<\/a><\/span><br \/>\n-Sputtertargets sind hochreine Metalltargets, die in Vakuumbeschichtungsprozessen verwendet werden und sich durch hervorragende Sputterstabilit\u00e4t und Schichtgleichm\u00e4\u00dfigkeit auszeichnen. Sie werden haupts\u00e4chlich bei der Herstellung von funktionalen D\u00fcnnschichten, der Oberfl\u00e4chenmodifizierung und der damit verbundenen Materialforschung eingesetzt.<\/p>\n<p>Wir bieten Magnesium-Metall-Sputtertargets in verschiedenen Gr\u00f6\u00dfen, Reinheiten und Strukturen an und unterst\u00fctzen kundenspezifische Verarbeitung und stabile Lieferung. Bitte <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">kontaktieren Sie uns<\/a><\/span><br \/>\ndirekt f\u00fcr Parameter und Angebote.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Hochreine Magnesium-Metall-Targets<br \/>\nDichte Mikrostruktur, stabiles Sputtern<br \/>\nGleichm\u00e4\u00dfige Schichtbildung, gute Wiederholbarkeit<br \/>\nKontrollierbarer Gehalt an Verunreinigungen<br \/>\nKompatibel mit verschiedenen Sputteranlagen<br \/>\nKundenspezifische Gr\u00f6\u00dfen und Formen werden unterst\u00fctzt<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Magnesium-Metall-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n<p>Funktionsd\u00fcnnschichtabscheidung: Kann zur Herstellung von Magnesium-Metall- oder verwandten Funktionsschicht-D\u00fcnnschichten verwendet werden und erf\u00fcllt die Anforderungen an Schichtgleichm\u00e4\u00dfigkeit und Reinheit.<br \/>\nOberfl\u00e4chenmodifizierung und Beschichtungsforschung: In der Materialoberfl\u00e4chentechnik kann durch Sputtern mit diesem Target die Kontrolle der Oberfl\u00e4cheneigenschaften und die Optimierung der Struktur erreicht werden.<br \/>\nEntwicklung von Vakuumbeschichtungsverfahren: Wird h\u00e4ufig f\u00fcr Parametertests und Prozessverifizierungen beim Magnetron-Sputtern und verwandten Vakuumprozessen verwendet.<br \/>\nForschungs- und Laboranwendungen: Weit verbreitet an Universit\u00e4ten und Forschungseinrichtungen f\u00fcr die Untersuchung neuartiger D\u00fcnnschichtmaterialien und Reaktionsmechanismen.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/unternehmen\/faqs\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>F1: Welche Sputtermethode eignet sich f\u00fcr Magnesium-Metall-Sputter-Targets?<br \/>\nA1: Typischerweise wird es beim Magnetron-Sputtern und verwandten Vakuumbeschichtungsverfahren verwendet. Die spezifische Methode kann je nach Ausr\u00fcstung angepasst werden.<\/p>\n<p>F2: Oxidieren Magnesium-Targets beim Sputtern leicht?<br \/>\nA2: Magnesium hat eine gewisse Reaktivit\u00e4t. Es wird in der Regel unter kontrollierten atmosph\u00e4rischen und Vakuumbedingungen verwendet, um die Auswirkungen der Oxidation zu verringern.<\/p>\n<p>F3: K\u00f6nnen Magnesium-Metall-Sputter-Targets in ihrer Gr\u00f6\u00dfe angepasst werden?<br \/>\nA3: Ja, wir k\u00f6nnen sie entsprechend der Targetgr\u00f6\u00dfe und den Ger\u00e4teanforderungen anpassen.<\/p>\n<p>F4: Sind Magnesium-Targets f\u00fcr den langfristigen Dauereinsatz geeignet?<br \/>\nA4: Bei angemessenen Leistungs- und Prozessparametern k\u00f6nnen Magnesium-Targets eine stabile Sputterleistung aufrechterhalten.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Bericht<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird mit folgenden<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Unterlagen<\/u><\/a><\/span><br \/>\ngeliefert:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Analysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/technisches-datenblatt\/\"><u>Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/sicherheitsdatenblatt\/\"><u>Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht<br \/>\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Wir sind auf die Materialkontrolle und Verarbeitungskonsistenz von Sputtertargets spezialisiert und bieten ma\u00dfgeschneiderte L\u00f6sungen auf der Grundlage der tats\u00e4chlichen Ger\u00e4te- und Prozessanforderungen, um unseren Kunden zu helfen, die Filmstabilit\u00e4t zu verbessern und die Kosten f\u00fcr Trial-and-Error-Verfahren zu reduzieren.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>\u00dcbersicht \u00fcber Magnesium-Metall-Sputtertargets Magnesium-Metall -Sputtertargets sind hochreine Metalltargets, die in Vakuumbeschichtungsprozessen verwendet werden und sich durch hervorragende Sputterstabilit\u00e4t und Schichtgleichm\u00e4\u00dfigkeit auszeichnen. Sie werden haupts\u00e4chlich bei der Herstellung von funktionalen D\u00fcnnschichten, der Oberfl\u00e4chenmodifizierung und der damit verbundenen Materialforschung eingesetzt. 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