{"id":48593,"date":"2026-01-15T13:55:03","date_gmt":"2026-01-15T05:55:03","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/magnesium-nickel-oxid\/"},"modified":"2026-01-15T13:55:03","modified_gmt":"2026-01-15T05:55:03","slug":"magnesium-nickel-oxid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/magnesium-nickel-oxid\/","title":{"rendered":"Magnesium-Nickel-Oxid"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Magnesium-Nickel-Oxid<\/span><\/h2>\n

Sputtertargets aus
\nMagnesium-Nickel-Oxid<\/a><\/span>
\nsind Magnesium-Nickel-Verbundoxid-Targets mit genau definierten Zusammensetzungsverh\u00e4ltnissen, die f\u00fcr Vakuumbeschichtungsprozesse geeignet sind, die eine hohe Konsistenz in der Schichtzusammensetzung erfordern. Sie werden haupts\u00e4chlich f\u00fcr die Herstellung von funktionellen Oxid-D\u00fcnnschichten, die Forschung an Ger\u00e4testrukturschichten und die Entwicklung entsprechender Materialien verwendet.<\/p>\n

Wir k\u00f6nnen Mg0,2Ni0,8O-Sputter-Targets gem\u00e4\u00df den vorgegebenen st\u00f6chiometrischen und Gr\u00f6\u00dfenanforderungen verarbeiten und gew\u00e4hrleisten eine stabile Lieferung. Bitte kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\ndirekt, um die technischen Parameter und Angebote zu best\u00e4tigen.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Genaue und kontrollierbare Zusammensetzungsverh\u00e4ltnisse
\nVerbundoxid-Target
\nDichte Mikrostruktur, stabile Sinterung
\nGute Wiederholbarkeit des Sputterprozesses
\nHohe Filmkonsistenz
\nKundenspezifische Gr\u00f6\u00dfen und Formen werden unterst\u00fctzt<\/p>\n

Anwendungen von Magnesium-Nickeloxid-Sputtertargets<\/span><\/h2>\n

Abscheidung von funktionellen Oxid-D\u00fcnnschichten: Wird h\u00e4ufig zur Herstellung von Oxid-D\u00fcnnschichten mit einheitlicher Zusammensetzung verwendet, die die Anforderungen an St\u00f6chiometrie und Filmstabilit\u00e4t erf\u00fcllen.
\nElektronik- und Ger\u00e4testrukturforschung: Bei der Entwicklung entsprechender Ger\u00e4testrukturschichten hilft dieses Verbundoxid-Target dabei, D\u00fcnnschichtmaterialien mit einstellbarer Leistung zu erzielen.
\nValidierung des Magnetron-Sputterprozesses: Dieses Target eignet sich zur Optimierung der Prozessparameter und zur Pr\u00fcfung der Stabilit\u00e4t unter Magnetron-Sputterbedingungen.
\nWissenschaftliche Forschung und Materialentwicklung: Weit verbreitet in der Forschung und Leistungsbewertung von Mehrkomponenten-Oxidmaterialien an Universit\u00e4ten und Forschungseinrichtungen.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/a><\/span><\/h2>\n

F1: Kann das Zusammensetzungsverh\u00e4ltnis des Magnesium-Nickeloxid-Sputter-Targets angepasst werden?
\nA1: Das Verh\u00e4ltnis von Magnesium und Nickel kann je nach spezifischen Forschungs- oder Prozessanforderungen angepasst werden.<\/p>\n

F2: Ist dieses Target f\u00fcr reaktives Sputtern geeignet?
\nA2: Es wird in der Regel f\u00fcr direktes Oxid-Sputtern verwendet; die spezifische Prozessmethode muss auf der Grundlage der Ger\u00e4tebedingungen best\u00e4tigt werden.<\/p>\n

F3: Gibt es f\u00fcr das Magnesium-Nickeloxid-Target besondere Anforderungen an die Ausr\u00fcstung?
\nA3: Es ist mit g\u00e4ngigen Sputteranlagen kompatibel; eine Anpassung an die Zielgr\u00f6\u00dfe wird empfohlen.<\/p>\n

F4: Ist dieses Sputtertarget f\u00fcr langfristiges kontinuierliches Sputtern geeignet?
\nA4: Unter angemessenen Leistungs- und K\u00fchlbedingungen kann es eine relativ stabile Sputterleistung aufrechterhalten.<\/p>\n

Bericht<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit
\nfolgenden Unterlagen<\/u><\/a><\/span>
\ngeliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n

Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir verf\u00fcgen \u00fcber umfangreiche Erfahrung in der Dosiersteuerung und im Sinterprozess von Mehrkomponenten-Oxid-Sputter-Targets, wodurch eine stabile Targetzusammensetzung und eine zuverl\u00e4ssige Verarbeitung gew\u00e4hrleistet sind, was unseren Kunden wiederholte Debugging-Kosten erspart.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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