{"id":46325,"date":"2026-01-16T16:11:23","date_gmt":"2026-01-16T08:11:23","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/lithium-nickel-mangan-kobalt-oxid-nmc\/"},"modified":"2026-01-16T16:11:23","modified_gmt":"2026-01-16T08:11:23","slug":"lithium-nickel-mangan-kobalt-oxid-nmc","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/lithium-nickel-mangan-kobalt-oxid-nmc\/","title":{"rendered":"Lithium-Nickel-Mangan-Kobalt-Oxid NMC"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Lithium-Nickel-Mangan-Kobalt-Oxid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Lithium-Nickel-Mangan-Kobalt-Oxid<\/a><\/span>
\n-Sputter-Targets sind hochdichte, hochgradig einheitliche Funktionsmaterial-Targets, die bei der Herstellung von D\u00fcnnschichten und in wissenschaftlichen Forschungsexperimenten zum Einsatz kommen. Sie werden h\u00e4ufig in Kathodenfilmen f\u00fcr Lithium-Ionen-Batterien, Festk\u00f6rperbatterien und bei der Abscheidung von Funktionsbeschichtungen verwendet.<\/p>\n

Wir bieten hochdichte, hochgradig einheitliche NMC-Sputter-Targets an, deren Gr\u00f6\u00dfe, Dicke und Form an die Anforderungen des Kunden angepasst werden k\u00f6nnen. Kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\nf\u00fcr Muster und ma\u00dfgeschneiderte L\u00f6sungen!<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Hohe Dichte gew\u00e4hrleistet eine gleichm\u00e4\u00dfige Filmabscheidung
\nStabile Kristallstruktur gew\u00e4hrleistet zuverl\u00e4ssige Ergebnisse bei der Filmabscheidung
\nGr\u00f6\u00dfe, Dicke und Form k\u00f6nnen individuell angepasst werden
\nUnterst\u00fctzt die Forschung und die industrielle D\u00fcnnschichtfertigung
\nFeine Oberfl\u00e4chenbeschaffenheit, geringe Fehlerquote
\nSchnelle Reaktion unseres technischen Teams<\/p>\n

Anwendungen von Lithium-Nickel-Mangan-Kobalt-Oxid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Herstellung von D\u00fcnnschicht-Kathodenmaterial:<\/strong>
\nWird f\u00fcr die Abscheidung von Hochleistungs-Lithium-Ionen-Batterie-Kathodenfilmen verwendet und verbessert die Zyklusstabilit\u00e4t und die elektrochemische Leistung.
\nForschung im Bereich Festk\u00f6rperbatterien<\/a><\/span>:<\/strong>
\nUnterst\u00fctzt die D\u00fcnnschichtabscheidung f\u00fcr Festk\u00f6rperbatterien und gew\u00e4hrleistet eine gleichm\u00e4\u00dfige Grenzfl\u00e4che und Ionenleitf\u00e4higkeit.
\nFunktionale Beschichtungen:<\/strong>
\nWird f\u00fcr die hochpr\u00e4zise D\u00fcnnschichtfertigung in optoelektronischen Ger\u00e4ten, Sensoren und mikroelektronischen Strukturen verwendet und gew\u00e4hrleistet dichte und gleichm\u00e4\u00dfige Schichten.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/a><\/span><\/h2>\n

F1: Welche Abscheidungsverfahren eignen sich f\u00fcr NMC-Sputter-Targets?
\nA1: Geeignet f\u00fcr Magnetron-Sputtern, Elektronenstrahlverdampfung und andere herk\u00f6mmliche PVD-Verfahren.<\/p>\n

F2: K\u00f6nnen die Gr\u00f6\u00dfe und Dicke des Targets angepasst werden?
\nA2: Ja, je nach den Anforderungen der Kundenausr\u00fcstung sind verschiedene Spezifikationen verf\u00fcgbar.<\/p>\n

F3: Wie ist die Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der abgeschiedenen Schicht?
\nA3: Die Dichte des Targets und die optimierte Kristallstruktur gew\u00e4hrleisten eine hohe Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Schicht und Kristallqualit\u00e4t.<\/p>\n

F4: Ist die Fehlerquote der Targetoberfl\u00e4che hoch?
\nA4: Die Targetoberfl\u00e4che wird pr\u00e4zise poliert, was zu einer geringen Fehlerquote f\u00fchrt und f\u00fcr die hochpr\u00e4zise D\u00fcnnschichtfertigung geeignet ist.<\/p>\n

Berichte<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit
\nfolgenden Unterlagen<\/u><\/a><\/span>
\ngeliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n

. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Dank unserer langj\u00e4hrigen Erfahrung in der Herstellung von Sputtertargets f\u00fcr Funktionsmaterialien k\u00f6nnen wir ma\u00dfgeschneiderte, hochwertige NMC-Sputtertargets anbieten, die die Stabilit\u00e4t und Effizienz der D\u00fcnnschichtabscheidung in der wissenschaftlichen Forschung und in industriellen Anwendungen gew\u00e4hrleisten. Unser technisches Team bietet schnelle Reaktionszeiten und professionellen Support, um Kunden bei der Herstellung hochpr\u00e4ziser D\u00fcnnschichten zu unterst\u00fctzen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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