{"id":45893,"date":"2026-01-20T13:46:07","date_gmt":"2026-01-20T05:46:07","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/silizium-2\/"},"modified":"2026-01-20T13:46:07","modified_gmt":"2026-01-20T05:46:07","slug":"silizium-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/silizium-2\/","title":{"rendered":"Silizium"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Silizium-Rotationstargets<\/span><\/h2>\n

Silizium<\/a><\/span>
\n-Rotationstargets sind rotierende Siliziumtargets, die in kontinuierlichen Sputterprozessen verwendet werden und sich f\u00fcr gro\u00dffl\u00e4chige und lang andauernde Beschichtungsanforderungen eignen. Sie werden haupts\u00e4chlich in Displaypanels, photovoltaischen D\u00fcnnschichten, Funktionsbeschichtungen und verwandten Vakuumbeschichtungsanwendungen eingesetzt.<\/p>\n

Wir k\u00f6nnen Silizium-Rotationstargets mit unterschiedlichen Strukturen und Gr\u00f6\u00dfen entsprechend den Ger\u00e4teanforderungen liefern und unterst\u00fctzen die Prozesskommunikation und technische Integration. Bitte kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\ndirekt f\u00fcr L\u00f6sungen.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Rotierende Struktur, hohe Target-Auslastung
\nStabiler und gleichm\u00e4\u00dfiger Sputterprozess
\nGeeignet f\u00fcr den langfristigen Dauerbetrieb
\nEffektiv f\u00fcr W\u00e4rmemanagement und W\u00e4rmeableitung
\nKompatibel mit verschiedenen Rotations-Sputter-Systemen
\nKundenspezifische Strukturen und Gr\u00f6\u00dfen m\u00f6glich<\/p>\n

Anwendungen von Silizium-Rotationstargets<\/span><\/h2>\n

Gro\u00dffl\u00e4chige D\u00fcnnschichtabscheidung:<\/strong>
\nGeeignet f\u00fcr D\u00fcnnschichtabscheidungsprozesse auf gro\u00dffl\u00e4chigen Substraten, tr\u00e4gt zur Verbesserung der Schichtgleichm\u00e4\u00dfigkeit und Prozessstabilit\u00e4t bei.
\nBeschichtungsprozesse f\u00fcr Displays und Photovoltaik:<\/strong>
\nBei der Herstellung von Displaypanels und D\u00fcnnschicht-Photovoltaik kann die rotierende Targetstruktur die Anforderungen der kontinuierlichen Produktion hinsichtlich der Beschichtungskonsistenz erf\u00fcllen.
\nHerstellung funktionaler Beschichtungen:<\/strong>
\nGeeignet f\u00fcr die Herstellung elektrischer, optischer oder sch\u00fctzender Funktionsd\u00fcnnschichten, die die Leistungsanforderungen verschiedener Anwendungsszenarien erf\u00fcllen.
\nForschung und Entwicklung sowie Prozessvalidierung:<\/strong>
\nWeit verbreitet f\u00fcr die Optimierung neuer Prozessparameter und die Untersuchung des Materialverhaltens, unterst\u00fctzt stabile Tests unter Spinning-Sputter-Bedingungen.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/a><\/span><\/h2>\n

F1: Was sind die Eigenschaften eines rotierenden Siliziumtargets im Vergleich zu einem planaren Target?
\nA1: Ein rotierendes Target nimmt durch kontinuierliche Rotation am Sputtern teil, was die Targetausnutzung verbessert und zur Verbesserung der Filmgleichm\u00e4\u00dfigkeit beitr\u00e4gt.<\/p>\n

F2: Wie effektiv ist die W\u00e4rmeableitung eines rotierenden Silizium-Targets w\u00e4hrend des Sputterns?
\nA2: Die rotierende Struktur erleichtert die W\u00e4rmeableitung und kann in Kombination mit einem angemessenen K\u00fchlungsdesign einen stabilen Betrieb des Sputterprozesses aufrechterhalten.<\/p>\n

F3: Welche Anforderungen werden an die Ausr\u00fcstung gestellt, wenn ein rotierendes Siliziumtarget verwendet wird?
\nA3: Es sind eine spezielle Kathodenstruktur und ein K\u00fchlsystem f\u00fcr das rotierende Target erforderlich, und die spezifischen Parameter sollten mit dem Ger\u00e4temodell kompatibel sein.<\/p>\n

F4: Welche Vorsichtsma\u00dfnahmen sollten bei der Verwendung eines rotierenden Siliziumtargets getroffen werden?
\nA4: Es wird empfohlen, unter stabilen Vakuum- und Strombedingungen zu arbeiten und das Target gem\u00e4\u00df den Ger\u00e4tespezifikationen zu installieren und zu warten.<\/p>\n

Bericht<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n

. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir sind auf die anwendungsorientierte Lieferung von Sputtering-Rotationstargets spezialisiert, legen Wert auf die strukturelle Gestaltung der Targets und die Kompatibilit\u00e4t mit den Ger\u00e4ten und bieten unseren Kunden stabile und zuverl\u00e4ssige Produktl\u00f6sungen sowie effizienten technischen Support.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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