{"id":45299,"date":"2026-01-20T13:47:49","date_gmt":"2026-01-20T05:47:49","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/siliziumkarbid-2\/"},"modified":"2026-01-20T13:47:49","modified_gmt":"2026-01-20T05:47:49","slug":"siliziumkarbid-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/siliziumkarbid-2\/","title":{"rendered":"Siliziumkarbid"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Siliziumkarbid-Rotationsziele<\/span><\/h2>\n

Siliziumkarbid<\/a><\/span>
\n-Rotationsziele sind keramische Rotationsziele f\u00fcr die kontinuierliche D\u00fcnnschichtabscheidung, die sich f\u00fcr Prozesse eignen, die eine hohe Stabilit\u00e4t und einen langfristigen Betrieb erfordern. Sie werden vor allem bei gro\u00dffl\u00e4chigen Beschichtungen, funktionalen D\u00fcnnschichten und industriellen kontinuierlichen Sputteranlagen eingesetzt.<\/p>\n

Wir k\u00f6nnen prozesskompatible Siliziumkarbid-Rotationsziele liefern und unterst\u00fctzen Sie bei<\/a><\/span>
\nder technischen<\/a><\/span>
\nIntegration von Konstruktionsdesign und Abscheidungsbedingungen.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Geeignet f\u00fcr kontinuierliche Sputterprozesse
\nStabile Filmzusammensetzung
\nHohe Targetausnutzung
\nGeeignet f\u00fcr gro\u00dffl\u00e4chige Beschichtungen
\nGute Betriebsstabilit\u00e4t<\/p>\n

Anwendungen des Siliziumkarbid-Rotationstargets<\/span><\/h2>\n

Gro\u00dffl\u00e4chige Funktionsbeschichtungen:<\/strong>
\nDas Siliziumkarbid-Rotationstarget eignet sich f\u00fcr die kontinuierliche Herstellung von Funktionsbeschichtungen auf Glas-, Metall- oder Polymersubstraten.
\nIndustrielle kontinuierliche Sputteranlagen:<\/strong>
\nIn Roll-to-Roll- oder Inline-Sputteranlagen tr\u00e4gt die rotierende Targetstruktur zur Verbesserung der Produktionsstabilit\u00e4t bei.
\nAbriebfeste und sch\u00fctzende Schichten:<\/strong>
\nZur Herstellung von hochharten Schutzschichten, die den Anforderungen einer langfristigen Nutzung gerecht werden.
\nForschung und Prozessvalidierung:<\/strong>
\nUnterst\u00fctzt die Entwicklung neuer Prozessparameter und die Bewertung der Schichtleistung.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/a><\/span><\/h2>\n

F1: Was sind die Vorteile eines rotierenden Siliziumkarbid-Targets gegen\u00fcber einem planaren Target?
\nA1: Rotierende Targets erzielen eine h\u00f6here Targetausnutzung und verbessern die Stabilit\u00e4t des Sputterprozesses.<\/p>\n

F2: Sind rotierende SiC-Targets f\u00fcr den Langzeitbetrieb geeignet?
\nA2: Ja, die rotierende Struktur tr\u00e4gt zur W\u00e4rmeableitung bei und unterst\u00fctzt den Dauerbetrieb.<\/p>\n

F3: In welchen Systemen werden rotierende Siliziumkarbid-Targets \u00fcblicherweise eingesetzt?
\nA3: Sie werden haupts\u00e4chlich in industriellen kontinuierlichen Sputter- und gro\u00dffl\u00e4chigen D\u00fcnnschicht-Abscheidungssystemen eingesetzt.<\/p>\n

F4: Beeinflusst die Struktur des rotierenden Targets die Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Schicht?
\nA4: Ein gut konstruiertes rotierendes Target tr\u00e4gt zur Verbesserung der Schichtdicke und der Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Zusammensetzung bei.<\/p>\n

Berichte<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n

. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir verf\u00fcgen \u00fcber strukturelles Verst\u00e4ndnis und Liefererfahrung im Bereich keramischer Rotationsziele, sodass wir stabile und r\u00fcckverfolgbare Siliziumkarbid-Rotationsziele anbieten k\u00f6nnen, die unseren Kunden eine stabile und hochgradig konsistente D\u00fcnnschichtabscheidung in kontinuierlichen Sputterprozessen erm\u00f6glichen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Siliziumkarbid-Rotationsziele Siliziumkarbid -Rotationsziele sind keramische Rotationsziele f\u00fcr die kontinuierliche D\u00fcnnschichtabscheidung, die sich f\u00fcr Prozesse eignen, die eine hohe Stabilit\u00e4t und einen langfristigen Betrieb erfordern. Sie werden vor allem bei gro\u00dffl\u00e4chigen Beschichtungen, funktionalen D\u00fcnnschichten und industriellen kontinuierlichen Sputteranlagen eingesetzt. Wir k\u00f6nnen prozesskompatible Siliziumkarbid-Rotationsziele liefern und unterst\u00fctzen Sie bei der technischen Integration von Konstruktionsdesign und […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":45300,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[451,466],"product_tag":[5978],"class_list":["post-45299","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_brand-ulpmat","product_cat-keramisches-sputtering-target","product_cat-rotierende-zielscheiben","product_tag-siliziumkarbid-drehscheibe","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product\/45299","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/45300"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=45299"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=45299"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=45299"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=45299"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}