{"id":45233,"date":"2026-01-20T13:47:50","date_gmt":"2026-01-20T05:47:50","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/silizium-eisen\/"},"modified":"2026-01-20T13:47:50","modified_gmt":"2026-01-20T05:47:50","slug":"silizium-eisen","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/silizium-eisen\/","title":{"rendered":"Silizium-Eisen"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Silizium-Eisen-Sputtertargets<\/span><\/h2>\n

Silizium-Eisen<\/a><\/span>
\n-Sputtertargets sind Targets aus einer Silizium-Eisen-Legierung, die sich f\u00fcr die Herstellung von funktionalen D\u00fcnnschichten eignen, die magnetische Eigenschaften mit struktureller Stabilit\u00e4t verbinden. Sie werden h\u00e4ufig f\u00fcr die Abscheidung von magnetischen D\u00fcnnschichten, elektronischen Bauelementen und verwandten Funktionsschichten verwendet.<\/p>\n

Wir k\u00f6nnen prozesskompatible Silizium-Eisen-Sputtertargets liefern und unterst\u00fctzen Sie bei<\/a><\/span>
\nder technischen<\/a><\/span>
\nIntegration von Zusammensetzung, Struktur und Abscheidungsbedingungen.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Stabile Schichtzusammensetzung
\nKombinierte magnetische und strukturelle Eigenschaften
\nGute thermische Stabilit\u00e4t
\nGeeignet f\u00fcr verschiedene Sputterprozesse
\nHohe Prozesskonsistenz<\/p>\n

Anwendungen von Silizium-Eisen-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Magnetische D\u00fcnnschichten und magnetische Funktionsschichten:<\/strong>
\nSilizium-Eisen-D\u00fcnnschichten werden h\u00e4ufig in magnetischen Ger\u00e4ten verwendet, um die magnetischen Eigenschaften und die strukturelle Stabilit\u00e4t zu optimieren.
\nMikroelektronik und integrierte Ger\u00e4te:<\/strong>
\nGeeignet f\u00fcr die Abscheidung von Funktions- oder Hilfsstrukturschichten in elektronischen Ger\u00e4ten.
\nSensor- und Funktionsd\u00fcnnschichten:<\/strong>
\nIn Sensor- und Funktionsd\u00fcnnschichtanwendungen bieten Si-Fe-D\u00fcnnschichten stabile Materialeigenschaften.
\nForschung und Prozessentwicklung:<\/strong>
\nWird f\u00fcr die Prozessforschung und Parameter\u00fcberpr\u00fcfung neuartiger magnetischer oder funktioneller D\u00fcnnschichten verwendet.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/a><\/span><\/h2>\n

F1: In welchen Bereichen werden Silizium-Eisen-Sputter-Targets haupts\u00e4chlich verwendet?
\nA1: Haupts\u00e4chlich in magnetischen D\u00fcnnschichten, elektronischen Ger\u00e4ten und verwandten funktionellen D\u00fcnnschichten.<\/p>\n

F2: Was sind die Eigenschaften von SiFe-D\u00fcnnschichten im Vergleich zu D\u00fcnnschichten aus reinem Eisen?
\nA2: Durch die Zugabe von Silizium werden die strukturelle Stabilit\u00e4t und die Prozessanpassungsf\u00e4higkeit der D\u00fcnnschicht verbessert.<\/p>\n

F3: Ist dieses Target f\u00fcr langfristiges Sputtern geeignet?
\nA3: Ein gut konzipiertes Legierungstarget kann einen stabilen und kontinuierlichen Sputterprozess unterst\u00fctzen.<\/p>\n

F4: Tr\u00e4gt das Legierungstarget zur Konsistenz der D\u00fcnnschicht bei?
\nA4: Eine stabile Legierungszusammensetzung tr\u00e4gt zur Verbesserung der Konsistenz der D\u00fcnnschichtdicke und -leistung bei.<\/p>\n

Bericht<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n

. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir verf\u00fcgen \u00fcber fundierte Materialkenntnisse und Liefererfahrung im Bereich der Legierungssputter-Targets und bieten stabile und r\u00fcckverfolgbare Silizium-Eisen-Sputter-Targets, um Kunden bei der Erzielung zuverl\u00e4ssiger D\u00fcnnschicht-Abscheidungsergebnisse in der Forschungs- und Entwicklungsphase sowie in der Anwendungsphase zu unterst\u00fctzen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Silizium-Eisen-Sputtertargets Silizium-Eisen -Sputtertargets sind Targets aus einer Silizium-Eisen-Legierung, die sich f\u00fcr die Herstellung von funktionalen D\u00fcnnschichten eignen, die magnetische Eigenschaften mit struktureller Stabilit\u00e4t verbinden. Sie werden h\u00e4ufig f\u00fcr die Abscheidung von magnetischen D\u00fcnnschichten, elektronischen Bauelementen und verwandten Funktionsschichten verwendet. Wir k\u00f6nnen prozesskompatible Silizium-Eisen-Sputtertargets liefern und unterst\u00fctzen Sie bei der technischen Integration von Zusammensetzung, […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":45234,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[562],"product_tag":[5960],"class_list":{"0":"post-45233","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_brand-ulpmat","7":"product_cat-legierung-sputtering-target","8":"product_tag-silizium-eisen-sputtering-target","10":"first","11":"instock","12":"shipping-taxable","13":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product\/45233","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/45234"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=45233"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=45233"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=45233"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=45233"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}