{"id":44894,"date":"2026-01-20T13:47:56","date_gmt":"2026-01-20T05:47:56","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/siliziumdioxid-3\/"},"modified":"2026-01-20T13:47:56","modified_gmt":"2026-01-20T05:47:56","slug":"siliziumdioxid-3","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/siliziumdioxid-3\/","title":{"rendered":"Siliziumdioxid"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Siliziumdioxid<\/span><\/h2>\n

Sputtertargets
\naus Siliziumdioxid<\/a><\/span>
\nsind hochreine Keramik-Targets, die sich f\u00fcr die Herstellung von funktionalen D\u00fcnnschichten und Schutzbeschichtungen eignen. Sie werden h\u00e4ufig bei der Sputterabscheidung von optischen<\/a><\/span>
\nD\u00fcnnschichten, elektronischen Bauteilen und Schutzbeschichtungen eingesetzt.<\/p>\n

Wir bieten prozesskompatible Sputtertargets aus Siliziumdioxid und unterst\u00fctzen Sie bei<\/a><\/span>
\nder technischen<\/a><\/span>
\nIntegration von Targetstruktur und Abscheidungsparametern. Kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\njetzt!<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Gleichm\u00e4\u00dfige und stabile Schichtzusammensetzung
\nHohe thermische Stabilit\u00e4t
\nHervorragende Abscheidungsgleichm\u00e4\u00dfigkeit
\nHohe Prozesskompatibilit\u00e4t
\nGeeignet f\u00fcr verschiedene Sputterprozesse<\/p>\n

Anwendungen von Siliziumdioxid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Herstellung optischer<\/a> <\/span>D\u00fcnnschichten:<\/strong>
\nSiO\u2082-Targets k\u00f6nnen zur Herstellung transparenter Schichten, Antireflexschichten und anderer optischer Funktionsd\u00fcnnschichten verwendet werden.
\nAbscheidung elektronischer Bauelemente:<\/strong>
\nGeeignet f\u00fcr die Abscheidung von D\u00fcnnschichten und Funktionsschichten auf Halbleiterbauelementen, wodurch die Zuverl\u00e4ssigkeit der Bauelemente verbessert wird.
\nSchutzbeschichtungen:<\/strong>
\nWird zur Herstellung korrosionsbest\u00e4ndiger und sch\u00fctzender D\u00fcnnschichten verwendet, wodurch die Oberfl\u00e4cheneigenschaften des Materials verbessert werden.
\nForschung und Prozessvalidierung:<\/strong>
\nUnterst\u00fctzt die Forschung zu neuen D\u00fcnnschichtmaterialien und die Optimierung von Abscheidungsparametern.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1: F\u00fcr welche D\u00fcnnschichten werden Siliziumdioxid-Sputtertargets haupts\u00e4chlich verwendet?
\nA1: Haupts\u00e4chlich f\u00fcr optische D\u00fcnnschichten, D\u00fcnnschichten f\u00fcr elektronische Ger\u00e4te und Schutzbeschichtungen.<\/p>\n

F2: Wie verh\u00e4lt sich das SiO\u2082-Target bei der Abscheidung bei hohen Temperaturen?
\nA2: Die hohe thermische Stabilit\u00e4t gew\u00e4hrleistet eine gleichm\u00e4\u00dfige Filmabscheidung auch bei hohen Temperaturen.<\/p>\n

F3: F\u00fcr welche Sputterprozesse ist dieses Target geeignet?
\nA3: Geeignet f\u00fcr Magnetron-Sputtern und andere konventionelle D\u00fcnnschichtabscheidungsverfahren.<\/p>\n

F4: Beeinflusst die Targetstruktur die Gleichm\u00e4\u00dfigkeit des Films?
\nA4: Eine gut konzipierte Targetstruktur kann die Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Filmdicke und -zusammensetzung verbessern.<\/p>\n

Bericht<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n

. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir verf\u00fcgen \u00fcber langj\u00e4hrige Erfahrung in der Lieferung und Technik im Bereich keramischer Sputtertargets und bieten stabile und r\u00fcckverfolgbare Siliziumdioxid-Sputtertargets, um Kunden dabei zu unterst\u00fctzen, w\u00e4hrend der Forschungs- und Entwicklungsphase sowie in der Anwendungsphase eine gleichbleibende Qualit\u00e4t und Zuverl\u00e4ssigkeit bei der D\u00fcnnschichtabscheidung zu erzielen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Siliziumdioxid Sputtertargets aus Siliziumdioxid sind hochreine Keramik-Targets, die sich f\u00fcr die Herstellung von funktionalen D\u00fcnnschichten und Schutzbeschichtungen eignen. Sie werden h\u00e4ufig bei der Sputterabscheidung von optischen D\u00fcnnschichten, elektronischen Bauteilen und Schutzbeschichtungen eingesetzt. Wir bieten prozesskompatible Sputtertargets aus Siliziumdioxid und unterst\u00fctzen Sie bei der technischen Integration von Targetstruktur und Abscheidungsparametern. Kontaktieren Sie […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":44895,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[451],"product_tag":[5906],"class_list":{"0":"post-44894","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_brand-ulpmat","7":"product_cat-keramisches-sputtering-target","8":"product_tag-siliziumdioxid-sputtering-target","10":"first","11":"instock","12":"shipping-taxable","13":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product\/44894","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/44895"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=44894"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=44894"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=44894"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=44894"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}