{"id":44866,"date":"2026-01-20T13:47:56","date_gmt":"2026-01-20T05:47:56","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/siliziumdioxid-2\/"},"modified":"2026-01-20T13:47:56","modified_gmt":"2026-01-20T05:47:56","slug":"siliziumdioxid-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/siliziumdioxid-2\/","title":{"rendered":"Siliziumdioxid"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">\u00dcbersicht \u00fcber Siliziumdioxid-Ringtargets<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Silicon+Dioxide\">Siliziumdioxid<\/a><\/span><br \/>\n-Ringtargets sind hochreine Keramik-Ringtargets, die speziell f\u00fcr Magnetron-Spin-Sputter-Systeme entwickelt wurden und f\u00fcr Gleichm\u00e4\u00dfigkeit und Prozessstabilit\u00e4t bei der D\u00fcnnschichtabscheidung sorgen. Sie werden h\u00e4ufig bei der Herstellung von <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/anwendung\/materialien-fuer-die-optik\/\">optischen<\/a><\/span><br \/>\nD\u00fcnnschichten, elektronischen Bauteilen und Schutzbeschichtungen eingesetzt.<\/p>\n<p>Wir bieten SiO2-Ringtargets an, die mit verschiedenen Spin-Sputter-Systemen kompatibel sind, und unterst\u00fctzen Sie bei der technischen Integration hinsichtlich Targetgr\u00f6\u00dfe, Struktur und Abscheidungsparametern. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">Kontaktieren Sie uns<\/a><\/span><br \/>\njetzt!<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Ringdesign, geeignet f\u00fcr Spin-Sputter-Systeme<br \/>\nHohe thermische Stabilit\u00e4t<br \/>\nHohe Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der D\u00fcnnschichtabscheidung<br \/>\nStarke Prozesskompatibilit\u00e4t<br \/>\nStabile Chargen, gute Konsistenz<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen des Siliziumdioxid-Ring-Targets<\/span><\/h2>\n<p><strong>Abscheidung <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/anwendung\/materialien-fuer-die-optik\/\">optischer<\/a> <\/span>D\u00fcnnschichten:<\/strong><br \/>\nSiO\u2082-Ring-Targets k\u00f6nnen zur Herstellung von transparenten Schichten, Antireflexschichten und anderen optisch funktionalen D\u00fcnnschichten verwendet werden.<br \/>\n<strong>Funktionsschichten f\u00fcr elektronische Ger\u00e4te:<\/strong><br \/>\nGeeignet f\u00fcr die Abscheidung von Funktionsschichten in Halbleitern und elektronischen Ger\u00e4ten, wodurch die Konsistenz der Ger\u00e4teleistung verbessert wird.<br \/>\n<strong>Schutzbeschichtungen:<\/strong><br \/>\nWerden zur Herstellung korrosionsbest\u00e4ndiger und sch\u00fctzender D\u00fcnnschichten verwendet, wodurch die Oberfl\u00e4cheneigenschaften des Materials verbessert werden.<br \/>\n<strong>Forschung und Prozessoptimierung:<\/strong><br \/>\nUnterst\u00fctzt die Forschung zu neuartigen D\u00fcnnschichtprozessen sowie die Optimierung und Verifizierung von Spin-Sputter-Parametern.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/unternehmen\/faqs\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>F1: F\u00fcr welche Sputter-Anwendungen sind SiO\u2082-Ring-Targets geeignet?<br \/>\nA1: Sie werden in erster Linie f\u00fcr die Spin-Sputter-Abscheidung von optischen D\u00fcnnschichten, Funktionsschichten f\u00fcr elektronische Ger\u00e4te und Schutzbeschichtungen verwendet.<\/p>\n<p>F2: Was sind die Vorteile von Ring-Targets gegen\u00fcber planaren Targets?<br \/>\nA2: Das Ring-Target-Design eignet sich f\u00fcr Spin-Sputter-Systeme und verbessert die Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Schichtdicke und die Materialausnutzung.<\/p>\n<p>F3: Sind SiO\u2082-Ring-Targets bei der Abscheidung bei hohen Temperaturen stabil?<br \/>\nA3: Das hochreine Keramikmaterial sorgt daf\u00fcr, dass das Target unter Hochtemperaturbedingungen seine strukturelle Stabilit\u00e4t und Abscheidungsstabilit\u00e4t beibeh\u00e4lt.<\/p>\n<p>F4: Hat das Ring-Target-Design Auswirkungen auf die Filmleistung?<br \/>\nA4: Eine gut konzipierte Ringform tr\u00e4gt zu einer gleichm\u00e4\u00dfigen Abscheidung bei und verbessert die Filmdicke und die Konsistenz der Zusammensetzung.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Berichte<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird geliefert mit:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Analysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/technisches-datenblatt\/\"><u>Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/sicherheitsdatenblatt\/\"><u>Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht<br \/>\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Wir verf\u00fcgen \u00fcber langj\u00e4hrige Erfahrung in der Lieferung und Technik im Bereich keramischer Rotationsziele und k\u00f6nnen stabile und r\u00fcckverfolgbare Siliziumdioxid-Ringziele liefern, mit denen Kunden eine hohe Gleichm\u00e4\u00dfigkeit und Zuverl\u00e4ssigkeit der D\u00fcnnschichtabscheidung in rotierenden Sputteranlagen erzielen k\u00f6nnen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>\u00dcbersicht \u00fcber Siliziumdioxid-Ringtargets Siliziumdioxid -Ringtargets sind hochreine Keramik-Ringtargets, die speziell f\u00fcr Magnetron-Spin-Sputter-Systeme entwickelt wurden und 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