{"id":44837,"date":"2026-01-20T13:47:57","date_gmt":"2026-01-20T05:47:57","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/siliziumdioxid\/"},"modified":"2026-01-20T13:47:57","modified_gmt":"2026-01-20T05:47:57","slug":"siliziumdioxid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/siliziumdioxid\/","title":{"rendered":"Siliziumdioxid"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Siliziumdioxid-Wafer<\/span><\/h2>\n

Siliziumdioxid<\/a><\/span>
\n-Wafer sind hochreine Siliziumoxidplatten mit ausgezeichneter thermischer Stabilit\u00e4t, chemischer Inertheit und Oberfl\u00e4chenebenheit. Sie finden breite Anwendung in der Halbleiterfertigung, in mikroelektronischen Bauelementen und bei der Abscheidung optischer<\/a><\/span>
\nD\u00fcnnschichten.<\/p>\n

Wir bieten SiO2-Wafer in verschiedenen Spezifikationen an und unterst\u00fctzen Sie bei der technischen Integration hinsichtlich Gr\u00f6\u00dfe, Dicke und Prozessanpassung. Kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\njetzt!<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Hohe thermische Stabilit\u00e4t und chemische Inertheit
\nGlatte Oberfl\u00e4che mit hoher Ebenheit
\nAnpassbare Gr\u00f6\u00dfe und Dicke
\nGeeignet f\u00fcr Halbleiter- und optische D\u00fcnnschichtprozesse
\nStarke Prozesskompatibilit\u00e4t<\/p>\n

Anwendungen von Siliziumdioxid-Wafern<\/span><\/h2>\n

Halbleiterbau:<\/strong>
\nSiO\u2082-Wafer k\u00f6nnen als Substrate oder Isoliermaterialien f\u00fcr elektronische Ger\u00e4te verwendet werden und verbessern so die Leistung und Zuverl\u00e4ssigkeit der Ger\u00e4te.
\nMikroelektronische D\u00fcnnschichtabscheidung:<\/strong>
\nWird f\u00fcr die Herstellung mikroelektronischer D\u00fcnnschichten verwendet und gew\u00e4hrleistet die Haftung der Schicht und eine gleichm\u00e4\u00dfige Dicke.
\nOptische<\/a> <\/span>D\u00fcnnschichtanwendungen:<\/strong>
\nGeeignet f\u00fcr die Herstellung von optischen Funktionsschichten, Antireflexschichten und transparenten leitf\u00e4higen Schichten.
\nForschung und Prozessvalidierung:<\/strong>
\nUnterst\u00fctzt die Forschung zu neuen Materialien und D\u00fcnnschichtprozessen und validiert Abscheidungsparameter und Prozesseffekte.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/h2>\n

F1: In welchen Prozessen k\u00f6nnen SiO\u2082-Wafer verwendet werden?
\nA1: Sie werden haupts\u00e4chlich in der Halbleiterbauelementfertigung, der mikroelektronischen D\u00fcnnschichtabscheidung und der Herstellung optischer D\u00fcnnschichten verwendet.<\/p>\n

F2: Sind Siliziumdioxid-Wafer in Hochtemperaturprozessen stabil?
\nA2: SiO\u2082-Wafer haben eine hohe thermische Stabilit\u00e4t und k\u00f6nnen ihre Struktur und Leistung in Hochtemperaturprozessen beibehalten.<\/p>\n

F3: Hat die Oberfl\u00e4chenebenheit des Wafers Auswirkungen auf die Anwendung?
\nA3: Eine hohe Ebenheit gew\u00e4hrleistet eine gleichm\u00e4\u00dfige D\u00fcnnschichtabscheidung und eine konsistente Ger\u00e4teleistung.<\/p>\n

F4: K\u00f6nnen SiO\u2082-Wafer direkt f\u00fcr die D\u00fcnnschichtabscheidung verwendet werden?
\nA4: Ja, sie eignen sich f\u00fcr Substrate, die bei der Abscheidung von Halbleiter- und optischen Funktionsd\u00fcnnschichten verwendet werden.<\/p>\n

Berichte<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n

Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir verf\u00fcgen \u00fcber umfangreiche Erfahrung im Bereich der Lieferung von Siliziumoxid-Wafern und k\u00f6nnen hochstabile, r\u00fcckverfolgbare SiO\u2082-Wafer liefern, um Kunden dabei zu unterst\u00fctzen, w\u00e4hrend der Forschungs- und Entwicklungsphase sowie der Anwendungsphase Konsistenz und Zuverl\u00e4ssigkeit bei der D\u00fcnnschichtabscheidung und der Ger\u00e4teherstellung zu erreichen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Siliziumdioxid-Wafer Siliziumdioxid -Wafer sind hochreine Siliziumoxidplatten mit ausgezeichneter thermischer Stabilit\u00e4t, chemischer Inertheit und Oberfl\u00e4chenebenheit. Sie finden breite Anwendung in der Halbleiterfertigung, in mikroelektronischen Bauelementen und bei der Abscheidung optischer D\u00fcnnschichten. Wir bieten SiO2-Wafer in verschiedenen Spezifikationen an und unterst\u00fctzen Sie bei der technischen Integration hinsichtlich Gr\u00f6\u00dfe, Dicke und Prozessanpassung. Kontaktieren Sie uns jetzt! […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":44838,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[],"product_cat":[397],"product_tag":[5895],"class_list":["post-44837","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_cat-andere-materialien","product_tag-siliziumdioxid-wafer","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product\/44837","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/44838"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=44837"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=44837"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=44837"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=44837"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}