{"id":44436,"date":"2026-01-23T11:37:48","date_gmt":"2026-01-23T03:37:48","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/titan-oxid-8\/"},"modified":"2026-01-23T11:37:48","modified_gmt":"2026-01-23T03:37:48","slug":"titan-oxid-8","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/titan-oxid-8\/","title":{"rendered":"Titan-Oxid"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Titanoxid<\/span><\/h2>\n

Sputtertargets
\naus Titanoxid<\/a><\/span>
\nsind Targets aus Titanoxid mit niedriger Valenz, die sich f\u00fcr die Herstellung von funktionellen Oxid-D\u00fcnnschichten in physikalischen Aufdampfverfahren (PVD) eignen. Diese Targets werden h\u00e4ufig in Forschungsbereichen im Zusammenhang mit elektronischen Materialien, funktionellen D\u00fcnnschichten und \u00dcbergangsmetalloxiden eingesetzt.<\/p>\n

Wir bieten Ti2O3-Sputtertargets mit stabiler Zusammensetzung und gleichm\u00e4\u00dfiger Struktur f\u00fcr die Forschung und die industrielle D\u00fcnnschichtabscheidung an. Bitte kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\nf\u00fcr technische Informationen.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Titanoxid-Targets mit niedriger Valenz
\nStabile Zusammensetzung und Kristallphase
\nGute Steuerbarkeit des Sputterprozesses
\nHohe Konsistenz der Filmzusammensetzung
\nGeeignet f\u00fcr verschiedene PVD-Systeme
\nZuverl\u00e4ssige Chargenstabilit\u00e4t<\/p>\n

Anwendungen von Titanoxid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Funktionelle Oxid-D\u00fcnnschichten:<\/strong>
\nWerden h\u00e4ufig zur Abscheidung von Oxid-D\u00fcnnschichten mit spezifischen elektrischen oder strukturellen Eigenschaften verwendet und eignen sich f\u00fcr die Forschung im Bereich funktioneller Materialien und Bauelemente.
\nForschung im Bereich Elektronik- und Halbleitermaterialien<\/a><\/span>:<\/strong>
\nDieses Target eignet sich f\u00fcr die Herstellung von \u00dcbergangsmetalloxid-D\u00fcnnschichten, die zur Untersuchung des elektrischen Transportverhaltens, der Bandstruktur und der Grenzfl\u00e4cheneigenschaften verwendet werden.
\nForschung und Labor D\u00fcnnschichtherstellung:<\/strong>
\nAufgrund ihrer genau definierten chemischen Zusammensetzung werden Ti2O3-D\u00fcnnschichten h\u00e4ufig in D\u00fcnnschichtabscheidungsversuchen an Universit\u00e4ten und Forschungseinrichtungen verwendet.
\nEntwicklung neuartiger Funktionsmaterialien:<\/strong>
\nIn neuartigen Oxidmaterialsystemen werden Ti2O3-D\u00fcnnschichten h\u00e4ufig als Basisschichten oder Funktionsschichten verwendet, um Materialeigenschaften zu untersuchen.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1: F\u00fcr welche Arten von D\u00fcnnschichten werden Titanoxid-Sputtertargets haupts\u00e4chlich verwendet?
\nA1: Haupts\u00e4chlich f\u00fcr die Abscheidung von niedrigvalentem Titanoxid oder verwandten funktionalen Oxid-D\u00fcnnschichten, wie sie h\u00e4ufig in der Elektronik- und Funktionsmaterialforschung zu finden sind.<\/p>\n

F2: Ist bei der Verwendung von Titanoxid-Sputtertargets eine Atmosph\u00e4renkontrolle erforderlich?
\nA2: Ja, der Sauerstoffpartialdruck oder die Arbeitsatmosph\u00e4re muss w\u00e4hrend des Sputterns in der Regel kontrolliert werden, um die Stabilit\u00e4t des Valenzzustands und der Zusammensetzung des Titans in der D\u00fcnnschicht zu gew\u00e4hrleisten.<\/p>\n

F3: Welche Sputterverfahren eignen sich f\u00fcr Titanoxid-Sputtertargets?
\nA3: Im Allgemeinen sind sie f\u00fcr RF-Magnetron-Sputteranlagen geeignet und k\u00f6nnen je nach Ausstattungsbedingungen auch f\u00fcr andere PVD-Verfahren eingesetzt werden.<\/p>\n

F4: Welchen Forschungswert haben D\u00fcnnschichten, die mit Titanoxid-Sputtertargets hergestellt wurden?
\nA4: Diese Art von D\u00fcnnschichten hat einen bedeutenden Forschungswert f\u00fcr die Untersuchung der elektrischen Eigenschaften, des Phasen\u00fcbergangsverhaltens und der Mechanismen von \u00dcbergangsmetalloxiden.<\/p>\n

Bericht<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n

. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir sind auf die stabile Herstellung und Qualit\u00e4tskontrolle von funktionalen Oxid-Sputter-Targets spezialisiert und bieten eine zuverl\u00e4ssige Materialgrundlage f\u00fcr die Ti\u2082O\u2083-D\u00fcnnschichtabscheidung.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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