{"id":44253,"date":"2026-01-23T11:37:51","date_gmt":"2026-01-23T03:37:51","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/titan-siliziumkarbid\/"},"modified":"2026-01-23T11:37:51","modified_gmt":"2026-01-23T03:37:51","slug":"titan-siliziumkarbid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/titan-siliziumkarbid\/","title":{"rendered":"Titan Siliziumkarbid"},"content":{"rendered":"

\u00a0\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Titankarbid<\/span><\/h2>\n

Sputtertargets
\naus Titankarbid<\/a><\/span>
\nsind funktionelle Keramik-Targets auf Basis einer MAX-Phasenstruktur, die die Leitf\u00e4higkeit von Metallen mit der Hochtemperaturbest\u00e4ndigkeit von Keramik kombinieren. Diese Targets werden in erster Linie zur Herstellung von funktionellen D\u00fcnnschichten verwendet, die Hochtemperaturbest\u00e4ndigkeit, Leitf\u00e4higkeit und strukturelle Stabilit\u00e4t erfordern.<\/p>\n

Wir bieten Ti3SiC2-Sputter-Targets mit einheitlicher Zusammensetzung und stabiler Struktur an, die f\u00fcr DC- oder RF-Magnetron-Sputterprozesse geeignet sind. Je nach den Anforderungen der Anlage k\u00f6nnen verschiedene Gr\u00f6\u00dfen und Strukturformen geliefert werden. Bitte kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\nf\u00fcr technische Parameter und Anwendungsvorschl\u00e4ge.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

MAX-Phasen<\/a><\/span>
\n-Schichtkristallstruktur
\nGute elektrische Leitf\u00e4higkeit, geeignet f\u00fcr Magnetron-Sputtern
\nAusgezeichnete thermische Stabilit\u00e4t und Temperaturwechselbest\u00e4ndigkeit
\nStabile Zusammensetzung und gute Wiederholbarkeit beim Sputtern
\nGeeignet f\u00fcr Hochtemperatur- und Vakuumbeschichtungsumgebungen
\nKann zur Herstellung von funktionalen und strukturellen D\u00fcnnschichten verwendet werden<\/p>\n

Anwendungen von Titankarbid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Abscheidung funktionaler D\u00fcnnschichten:<\/strong>
\nWird zur Herstellung funktionaler D\u00fcnnschichten mit Leitf\u00e4higkeit und Hochtemperaturbest\u00e4ndigkeit verwendet, geeignet f\u00fcr hochwertige funktionale Ger\u00e4teanwendungen.
\nHochtemperaturbest\u00e4ndigkeit und Schutzbeschichtungen:<\/strong>
\nTi\u2083SiC\u2082-D\u00fcnnschichten weisen unter Hochtemperaturbedingungen eine gute strukturelle Stabilit\u00e4t auf und k\u00f6nnen f\u00fcr Hochtemperaturschutz- und Strukturbeschichtungen verwendet werden.
\nHalbleiter-<\/a> <\/span>und Mikroelektronikforschung:<\/strong>
\nGeeignet f\u00fcr die Abscheidung von Funktionsschichten in Halbleiterbauelementen, MEMS und der damit verbundenen Materialforschung.
\nWissenschaftliche Forschung und Materialentwicklung:<\/strong>
\nWeit verbreitet in der Forschung zu MAX-Phasen-D\u00fcnnschichten, Wachstumsmechanismen und neuartigen Schichtmaterialien.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1: F\u00fcr welche Sputtermethode ist das Ti3SiC2-Sputtertarget geeignet?
\nA1: Dieses Target hat eine gute Leitf\u00e4higkeit und kann sowohl f\u00fcr DC-Magnetron-Sputter- als auch f\u00fcr RF-Magnetron-Sputter-Systeme verwendet werden.<\/p>\n

F2: Ist die Zusammensetzung des Ti3SiC2-Targets w\u00e4hrend des Sputterns stabil?
\nA2: Unter angemessenen Prozessparametern kann dieses Sputtertarget eine gute Zusammensetzungskonstanz aufrechterhalten, wodurch es sich f\u00fcr die D\u00fcnnschichtabscheidung mit hohen Anforderungen an die Wiederholbarkeit eignet.<\/p>\n

F3: Ist das Ti3SiC2-Sputtertargeting f\u00fcr Hochtemperatur-Abscheidungsprozesse geeignet?
\nA3: Ja, dieses Targetmaterial verf\u00fcgt \u00fcber eine ausgezeichnete thermische Stabilit\u00e4t und Temperaturwechselbest\u00e4ndigkeit, wodurch es sich f\u00fcr Hochtemperatur- oder Langzeit-Sputterbedingungen eignet.<\/p>\n

F4: In welchen Forschungsbereichen wird Ti3SiC2-D\u00fcnnschicht typischerweise verwendet?
\nA4: Haupts\u00e4chlich in MAX-Phase-D\u00fcnnschichten, der Forschung zu biokompatiblen Materialien, verschlei\u00dffesten und Hochtemperaturbeschichtungen sowie leitf\u00e4higen Keramik-D\u00fcnnschichten.<\/p>\n

Bericht<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird geliefert mit:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n

Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir sind auf die Forschung und Lieferung von Funktionskeramiken und fortschrittlichen Target-Materialien spezialisiert und bieten stabile und zuverl\u00e4ssige L\u00f6sungen f\u00fcr die Materialstrukturkontrolle, Target-Verdichtung und Anwendungsanpassung, um die Forschung und die Anforderungen der industriellen D\u00fcnnschichtabscheidung zu unterst\u00fctzen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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