{"id":44194,"date":"2026-01-23T11:37:53","date_gmt":"2026-01-23T03:37:53","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/titan-oxid-2\/"},"modified":"2026-01-23T11:37:53","modified_gmt":"2026-01-23T03:37:53","slug":"titan-oxid-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/titan-oxid-2\/","title":{"rendered":"Titan-Oxid"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Titanoxid<\/span><\/h2>\n<p>Sputtertargets<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Titanium+oxide\">aus Titanoxid<\/a><\/span><br \/>\ngeh\u00f6ren zur Magn\u00e9li-Phase und verbinden die Leitf\u00e4higkeit von Metallen mit der Hochtemperaturbest\u00e4ndigkeit von Keramiken. Diese Targets werden in erster Linie zur Herstellung von funktionalen D\u00fcnnschichten mit hoher Leitf\u00e4higkeit, Hochtemperaturbest\u00e4ndigkeit und struktureller Stabilit\u00e4t verwendet und finden breite Anwendung in elektronischen Ger\u00e4ten, leitf\u00e4higen Keramiken und der Entwicklung wissenschaftlicher D\u00fcnnschichtmaterialien.<\/p>\n<p>Wir k\u00f6nnen dichte, in ihrer Zusammensetzung einheitliche Ti4O7-Sputtertargets liefern, die f\u00fcr DC- oder RF-Magnetron-Sputteranlagen geeignet sind. Je nach den Anforderungen der Kundenanlagen k\u00f6nnen verschiedene Gr\u00f6\u00dfen und Verarbeitungsmethoden angeboten werden, um den Anforderungen der wissenschaftlichen oder industriellen D\u00fcnnschichtfertigung gerecht zu werden. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">Kontaktieren Sie uns<\/a><\/span><br \/>\njetzt!<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Magn\u00e9li-Phase Titansuboxid-Struktur<br \/>\nHohe Leitf\u00e4higkeit, geeignet f\u00fcr Magnetron-Sputtern<br \/>\nAusgezeichnete thermische Stabilit\u00e4t und Temperaturwechselbest\u00e4ndigkeit<br \/>\nStabile Zusammensetzung w\u00e4hrend des Sputterns, gute Wiederholbarkeit der Schicht<br \/>\nGeeignet f\u00fcr die Abscheidung bei hohen Temperaturen, im Vakuum und in inerter Atmosph\u00e4re<br \/>\nKann f\u00fcr die Herstellung von funktionalen und strukturellen D\u00fcnnschichten verwendet werden<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen f\u00fcr Titan-Suboxid-Sputtertargets<\/span><\/h2>\n<p><strong>Abscheidung funktionaler D\u00fcnnschichten:<\/strong><br \/>\nKann zur Herstellung hochleitf\u00e4higer, hochtemperaturbest\u00e4ndiger funktionaler D\u00fcnnschichten verwendet werden, die f\u00fcr elektronische Ger\u00e4te und spezielle Beschichtungsanwendungen geeignet sind.<br \/>\n<strong>Leitf\u00e4hige Keramik und Verbundd\u00fcnnschichten:<\/strong><br \/>\nDank seiner hohen Leitf\u00e4higkeit und Stabilit\u00e4t k\u00f6nnen leitf\u00e4hige Keramik- und Verbundd\u00fcnnschichtmaterialien hergestellt werden.<br \/>\n<strong>Wissenschaftliche Forschung und Materialentwicklung:<\/strong><br \/>\nWeit verbreitet in der Forschung und Entwicklung von Magn\u00e9li-Phasen-Materialien, leitf\u00e4higen Oxid-D\u00fcnnschichten und neuartigen funktionalen D\u00fcnnschichten.<br \/>\n<strong>Hochtemperatur-korrosionsbest\u00e4ndige Beschichtungen:<\/strong><br \/>\nTi4O7-D\u00fcnnschichten zeigen eine stabile Leistung in Hochtemperatur- oder korrosiven Umgebungen und k\u00f6nnen f\u00fcr die Forschung an hitzebest\u00e4ndigen oder sch\u00fctzenden Beschichtungen verwendet werden.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/unternehmen\/faqs\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>F1: F\u00fcr welche Sputtermethode ist das Titansuboxid-Sputtertarget geeignet?<br \/>\nA1: Es eignet sich sowohl f\u00fcr DC- als auch f\u00fcr RF-Magnetron-Sputteranlagen und weist eine ausgezeichnete Leitf\u00e4higkeit und Anpassungsf\u00e4higkeit an verschiedene PVD-Prozesse auf.<\/p>\n<p>F2: Ist die Zusammensetzung des Ti\u2084O\u2087-Targets w\u00e4hrend des Sputterns stabil?<br \/>\nA2: Unter geeigneten Prozessparametern beh\u00e4lt das Target eine stabile Zusammensetzung bei, was zu einer guten Wiederholbarkeit und Konsistenz der Schicht f\u00fchrt.<\/p>\n<p>F3: Kann das Target hohen Sputterbedingungen standhalten?<br \/>\nA3: Ja, das Target verf\u00fcgt \u00fcber eine ausgezeichnete thermische Stabilit\u00e4t und Temperaturwechselbest\u00e4ndigkeit, wodurch es f\u00fcr die langfristige Abscheidung bei hohen Temperaturen geeignet ist.<\/p>\n<p>F4: In welchen Forschungsbereichen werden Ti\u2084O\u2087-D\u00fcnnschichten typischerweise eingesetzt?<br \/>\nA4: Haupts\u00e4chlich f\u00fcr leitf\u00e4hige Oxid-D\u00fcnnschichten, funktionelle Keramik-D\u00fcnnschichten, Hochtemperaturbeschichtungen und die Forschung an Magn\u00e9li-Phasen-Materialien.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Bericht<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird geliefert mit:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Analysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/technisches-datenblatt\/\"><u>Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/sicherheitsdatenblatt\/\"><u>Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht<br \/>\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Wir konzentrieren uns auf die Forschung und Entwicklung sowie die Lieferung von Funktionskeramiken und Hochleistungs-Sputtertargets und stellen sicher, dass Ti\u2084O\u2087-Sputtertargets den wissenschaftlichen und industriellen Standards in Bezug auf Materialstruktur, Verdichtung und Sputterkompatibilit\u00e4t entsprechen, wodurch eine zuverl\u00e4ssige Garantie f\u00fcr die D\u00fcnnschichtherstellung geboten wird.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Titanoxid Sputtertargets aus Titanoxid geh\u00f6ren zur Magn\u00e9li-Phase und verbinden die Leitf\u00e4higkeit von Metallen mit der Hochtemperaturbest\u00e4ndigkeit von Keramiken. 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