{"id":43989,"date":"2026-01-23T13:24:20","date_gmt":"2026-01-23T05:24:20","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/titan-aluminium-silizium-legierung\/"},"modified":"2026-01-23T13:24:20","modified_gmt":"2026-01-23T05:24:20","slug":"titan-aluminium-silizium-legierung","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/titan-aluminium-silizium-legierung\/","title":{"rendered":"Titan-Aluminium-Silizium-Legierung"},"content":{"rendered":"

Titan-Aluminium-Silizium-Aolly-Sputtertarget \u00dcbersicht<\/span><\/h2>\n

Das Titan-Aluminium-Silizium<\/a><\/span>
\n-Legierungs-Sputtertarget ist ein hochtemperaturstabiles Titan-Aluminium-Silizium-Legierungsmaterial, das sowohl eine ausgezeichnete Leitf\u00e4higkeit als auch eine hohe Temperaturbest\u00e4ndigkeit aufweist. Es wird h\u00e4ufig bei der Entwicklung von funktionalen D\u00fcnnschichten, leitf\u00e4higen Keramikbeschichtungen, Hochtemperatur-Elektronikger\u00e4ten und wissenschaftlichen D\u00fcnnschichtmaterialien eingesetzt.<\/p>\n

Wir bieten TiAlSi-Sputtertargets mit einheitlicher Zusammensetzung und dichter Struktur an, die f\u00fcr DC- oder RF-Magnetron-Sputteranlagen geeignet sind. Bitte kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\nf\u00fcr detaillierte Spezifikationen und technische Informationen.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Hochtemperaturstabil
\nHervorragende Leitf\u00e4higkeit und thermische Stabilit\u00e4t
\nZusammensetzungsstabilit\u00e4t und gute Filmwiederholbarkeit beim Sputtern
\nGeeignet f\u00fcr Abscheidungen bei hohen Temperaturen, im Vakuum und in inerter Atmosph\u00e4re
\nHohe Chargenkonsistenz
\nAnpassbare Gr\u00f6\u00dfen und Formfaktoren
\nGeeignet f\u00fcr die wissenschaftliche und industrielle D\u00fcnnschichtherstellung<\/p>\n

Anwendungen von Titan-Aluminium-Silizium-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Abscheidung funktionaler D\u00fcnnschichten:<\/strong>
\nKann zur Herstellung hochleitf\u00e4higer, hochtemperaturbest\u00e4ndiger und korrosionsbest\u00e4ndiger funktionaler D\u00fcnnschichten f\u00fcr elektronische Ger\u00e4te und leitf\u00e4hige Beschichtungen verwendet werden.
\nLeitf\u00e4hige Keramik- und Verbundd\u00fcnnschichten:<\/strong>
\nAufgrund seiner Leitf\u00e4higkeit und Hochtemperaturstabilit\u00e4t kann es zur Herstellung von Metall-Keramik-Verbundd\u00fcnnschichten und hochleistungsf\u00e4higen leitf\u00e4higen Keramikschichten verwendet werden.
\nForschung und Materialentwicklung:<\/strong>
\nWeit verbreitet in der Forschung zu D\u00fcnnschichten aus Titan-Aluminium-Silizium-Legierungen, der Entwicklung neuartiger Hochtemperaturmaterialien und der Pr\u00fcfung der Schichtleistung.
\nKorrosionsbest\u00e4ndige Hochtemperaturbeschichtungen:<\/strong>
\nTiAlSi-D\u00fcnnschichten weisen eine stabile Leistung in Hochtemperatur- und korrosiven Umgebungen auf, wodurch sie sich f\u00fcr die Forschung an hochtemperaturbest\u00e4ndigen und sch\u00fctzenden Beschichtungen eignen.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/a><\/span><\/h2>\n

F1: Welches Sputterverfahren eignet sich f\u00fcr TiAlSi-Targets?
\nA1: Geeignet f\u00fcr DC-Magnetron-Sputtern und RF-Magnetron-Sputtern. Es verf\u00fcgt \u00fcber eine ausgezeichnete Leitf\u00e4higkeit und eignet sich f\u00fcr verschiedene PVD-Verfahren.<\/p>\n

F2: Ist die Zusammensetzung von TiAlSi-Targets w\u00e4hrend des Sputterns stabil?
\nA2: Unter geeigneten Prozessbedingungen beh\u00e4lt das Target eine stabile chemische Zusammensetzung bei, was zu einer guten Wiederholbarkeit und Konsistenz der Schicht f\u00fchrt.<\/p>\n

F3: Sind TiAlSi-Targets f\u00fcr die Hochtemperaturabscheidung geeignet?
\nA3: Ja, das Target verf\u00fcgt \u00fcber eine ausgezeichnete thermische Stabilit\u00e4t und Temperaturwechselbest\u00e4ndigkeit, wodurch es f\u00fcr die Hochtemperatur-D\u00fcnnschichtabscheidung geeignet ist.<\/p>\n

F4: In welchen Bereichen werden TiAlSi-D\u00fcnnschichten haupts\u00e4chlich verwendet?
\nA4: Haupts\u00e4chlich f\u00fcr leitf\u00e4hige Beschichtungen, funktionelle D\u00fcnnschichten, Hochtemperatur-Elektronikger\u00e4te und die Entwicklung von Forschungsd\u00fcnnschichtmaterialien.<\/p>\n

Bericht<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird geliefert mit:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n

Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir sind auf die Forschung und Lieferung von hochleistungsf\u00e4higen TiAlSi-Sputtertargets spezialisiert und stellen sicher, dass unsere TiAlSi-Sputtertargets den Forschungs- und Industriestandards in Bezug auf Materialstruktur, Verdichtung und Sputterkompatibilit\u00e4t entsprechen, wodurch eine zuverl\u00e4ssige Sicherheit f\u00fcr die D\u00fcnnschichtvorbereitung gew\u00e4hrleistet ist.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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