{"id":43911,"date":"2026-01-23T13:24:21","date_gmt":"2026-01-23T05:24:21","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/titanborid\/"},"modified":"2026-01-23T13:24:21","modified_gmt":"2026-01-23T05:24:21","slug":"titanborid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/titanborid\/","title":{"rendered":"Titanborid"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Titanborid<\/span><\/h2>\n

Sputtertargets
\naus Titanborid<\/a><\/span>
\nsind hochharte Keramik-Sputtertargets mit hohem Schmelzpunkt, ausgezeichneter elektrischer Leitf\u00e4higkeit und chemischer Stabilit\u00e4t. Sie werden h\u00e4ufig bei der Entwicklung von hochharten Beschichtungen, leitf\u00e4higen Keramikfilmen, funktionalen D\u00fcnnschichten und wissenschaftlichen D\u00fcnnschichtmaterialien eingesetzt.<\/p>\n

Wir bieten TiB\u2082-Sputter-Targets mit einheitlicher Zusammensetzung und dichter Struktur an, die f\u00fcr DC- oder RF-Magnetron-Sputter-Systeme geeignet sind. Bitte kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\nf\u00fcr detaillierte Spezifikationen und technische Informationen.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Hochhartes Keramik-Target mit hohem Schmelzpunkt
\nGute elektrische Leitf\u00e4higkeit, stabile D\u00fcnnschichtabscheidung
\nHohe Temperatur- und Korrosionsbest\u00e4ndigkeit, starke thermische Stabilit\u00e4t
\nGeeignet f\u00fcr Abscheidungen bei hohen Temperaturen, im Vakuum und in inerter Atmosph\u00e4re
\nHohe Chargenkonsistenz
\nAnpassbare<\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfen und Formen
\nGeeignet f\u00fcr die wissenschaftliche und industrielle D\u00fcnnschichtfertigung<\/p>\n

Anwendungen von Titandiborid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Hochharte, verschlei\u00dffeste Beschichtungen:<\/strong>
\nKann zur Herstellung von verschlei\u00dffesten, hochharten Beschichtungen verwendet werden, die h\u00e4ufig auf den Oberfl\u00e4chen von Schneidwerkzeugen, Formen und Industrieanlagen zum Einsatz kommen.
\nLeitf\u00e4hige Keramikfilme und Verbundfilme:<\/strong>
\nAufgrund seiner Leitf\u00e4higkeit und chemischen Stabilit\u00e4t kann TiB2 zur Herstellung von Metall-Keramik-Verbundfilmen und leitf\u00e4higen Keramikfilmen f\u00fcr elektronische Ger\u00e4te und Funktionsmaterialien verwendet werden.
\nForschung und D\u00fcnnschichtentwicklung:<\/strong>
\nAnwendbar f\u00fcr die Forschung an TiB2-Funktionsd\u00fcnnschichten, die Entwicklung neuartiger hochharter Beschichtungen und die Pr\u00fcfung der Filmleistung.
\nHochtemperaturbest\u00e4ndige Beschichtungen:<\/strong>
\nTiB2-Filme weisen Stabilit\u00e4t in Hochtemperatur- und korrosiven Umgebungen auf, wodurch sie sich f\u00fcr Schutzbeschichtungen und Hochtemperatur-Elektronikger\u00e4te eignen.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1: Welches Sputterverfahren eignet sich f\u00fcr TiB2-Targets?
\nA1: Geeignet f\u00fcr DC-Magnetron-Sputtern und RF-Magnetron-Sputtern. Es hat eine gute Leitf\u00e4higkeit und ist an verschiedene PVD-Prozesse anpassbar.<\/p>\n

F2: Ist die Zusammensetzung von TiB2-Targets w\u00e4hrend des Sputterns stabil?
\nA2: Unter geeigneten Prozessbedingungen beh\u00e4lt das Target eine stabile chemische Zusammensetzung bei, was zu einer guten Wiederholbarkeit und Konsistenz der Schicht f\u00fchrt.<\/p>\n

F3: Sind TiB2-Targets f\u00fcr die Abscheidung bei hohen Temperaturen geeignet?
\nA3: Ja, dieses Target verf\u00fcgt \u00fcber eine ausgezeichnete thermische Stabilit\u00e4t und Temperaturwechselbest\u00e4ndigkeit, wodurch es f\u00fcr die Abscheidung von D\u00fcnnschichten bei hohen Temperaturen geeignet ist.<\/p>\n

F4: Was sind die Hauptanwendungsbereiche von TiB2-Sputter-Targets?
\nA4: Sie werden haupts\u00e4chlich bei der Entwicklung von verschlei\u00dffesten Beschichtungen, leitf\u00e4higen Keramikschichten, Funktionsschichten und D\u00fcnnschichtmaterialien f\u00fcr die wissenschaftliche Forschung eingesetzt.<\/p>\n

Bericht<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n

Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir konzentrieren uns auf die Forschung und Lieferung von hochleistungsf\u00e4higen Keramik-Sputter-Targets und stellen sicher, dass TiB2-Sputter-Targets den wissenschaftlichen und industriellen Standards in Bezug auf Materialstruktur, Verdichtung und Sputterkompatibilit\u00e4t entsprechen, wodurch eine zuverl\u00e4ssige Sicherheit f\u00fcr die Herstellung von funktionalen D\u00fcnnschichten und hochharten Beschichtungen gew\u00e4hrleistet ist.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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