{"id":43817,"date":"2026-01-23T13:24:23","date_gmt":"2026-01-23T05:24:23","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/titankarbid\/"},"modified":"2026-01-23T13:24:23","modified_gmt":"2026-01-23T05:24:23","slug":"titankarbid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/titankarbid\/","title":{"rendered":"Titankarbid"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Titankarbid<\/span><\/h2>\n<p>Sputtertargets<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Titanium+carbide\">aus Titankarbid<\/a><\/span><br \/>\nsind hochentwickelte Keramik-Targets mit hoher H\u00e4rte und hohem Schmelzpunkt, die sich durch hervorragende Verschlei\u00dffestigkeit, chemische Stabilit\u00e4t und elektrische Leitf\u00e4higkeit auszeichnen und f\u00fcr verschiedene physikalische Gasphasenabscheidungsverfahren (PVD) geeignet sind. Diese Targets werden h\u00e4ufig zur Herstellung von verschlei\u00dffesten D\u00fcnnschichten, Funktionsbeschichtungen und hochtemperaturstabilen D\u00fcnnschichten verwendet.<\/p>\n<p>Wir bieten Titan-Karbid-Sputtertargets mit einheitlicher Zusammensetzung und dichter Struktur, die f\u00fcr DC- oder RF-Magnetron-Sputteranlagen geeignet sind. F\u00fcr kundenspezifische Gr\u00f6\u00dfen, Formen oder Verbindungsl\u00f6sungen <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">wenden Sie<\/a><\/span><br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">sich<\/a><\/span><br \/>\nbitte <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">an uns<\/a><\/span><br \/>\n, um <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/service\/technische-unterstuetzung\/\">technische Unterst\u00fctzung<\/a><\/span><br \/>\nund Anwendungsberatung zu erhalten.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Hoher Schmelzpunkt, geeignet f\u00fcr Hochleistungs- und Hochtemperatur-Sputterbedingungen<br \/>\nHohe H\u00e4rte, wodurch d\u00fcnne Schichten mit ausgezeichneter Verschlei\u00dffestigkeit entstehen<br \/>\nGute chemische Stabilit\u00e4t und Korrosionsbest\u00e4ndigkeit<br \/>\nBesitzt eine gewisse elektrische Leitf\u00e4higkeit, geeignet f\u00fcr verschiedene Sputtermodi<br \/>\nStabile Zusammensetzung, vorteilhaft f\u00fcr eine konsistente D\u00fcnnschichtzusammensetzung<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Titancarbid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n<p><strong>Verschlei\u00dffeste und sch\u00fctzende Beschichtungen:<\/strong><br \/>\nWird h\u00e4ufig zur Herstellung von hochharten, verschlei\u00dfarmen Schutzbeschichtungen verwendet, geeignet f\u00fcr die Oberfl\u00e4chen von Schneidwerkzeugen, Formen und mechanischen Teilen.<br \/>\n<strong>Funktionale D\u00fcnnschichten und technische Beschichtungen:<\/strong><br \/>\nIn den Bereichen Mikroelektronik, Sensoren und Funktionsger\u00e4te bieten Titancarbid-D\u00fcnnschichten eine ausgezeichnete strukturelle Stabilit\u00e4t und funktionale Unterst\u00fctzung.<br \/>\n<strong>D\u00fcnnschichten f\u00fcr hohe Temperaturen und extreme Umgebungen:<\/strong><br \/>\nGeeignet f\u00fcr die Forschung und Anwendung von D\u00fcnnschichtmaterialien, die in Umgebungen mit hohen Temperaturen oder korrosiven Bedingungen eingesetzt werden.<br \/>\n<strong>Wissenschaftliche Forschung und Materialentwicklung:<\/strong><br \/>\nWeit verbreitet in der Entwicklung von D\u00fcnnschichtmaterialien und der Prozessoptimierung an Universit\u00e4ten, Forschungseinrichtungen und Labors.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\"><a href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/unternehmen\/faqs\/\"><span style=\"color: #0000ff;\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>F1: F\u00fcr welche Sputterprozesse werden Titancarbid-Sputtertargets haupts\u00e4chlich verwendet?<br \/>\nA1: Je nach Ger\u00e4tekonfiguration und Prozessanforderungen werden sie h\u00e4ufig in DC-Magnetron-Sputter- und RF-Magnetron-Sputterprozessen eingesetzt.<\/p>\n<p>F2: Welche Arten von D\u00fcnnschichten k\u00f6nnen mit Titancarbid-Targets abgeschieden werden?<br \/>\nA2: Sie werden haupts\u00e4chlich zur Abscheidung von verschlei\u00dffesten D\u00fcnnschichten, Schutzbeschichtungen und funktionalen D\u00fcnnschichten mit hoher Temperaturstabilit\u00e4t verwendet.<\/p>\n<p>F3: Was sind die typischen Eigenschaften von Titancarbid-D\u00fcnnschichten?<br \/>\nA3: Sie weisen in der Regel eine hohe H\u00e4rte, gute Verschlei\u00dffestigkeit, chemische Stabilit\u00e4t und strukturelle Stabilit\u00e4t unter Hochtemperaturbedingungen auf.<\/p>\n<p>F4: Sind Titancarbid-Sputter-Targets f\u00fcr Hochleistungs-Sputtern geeignet?<br \/>\nA4: Aufgrund ihres hohen Schmelzpunktes und ihrer guten thermischen Stabilit\u00e4t eignen sich Titancarbid-Targets f\u00fcr Sputteranwendungen mit hoher Leistungsdichte.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Bericht<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird geliefert mit:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Analysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/technisches-datenblatt\/\"><u>Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/sicherheitsdatenblatt\/\"><u>Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht<br \/>\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Wir sind auf Sputtertargets und fortschrittliche anorganische Materialien spezialisiert und legen besonderen Wert auf Targetdichte, Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Zusammensetzung und Anwendungskompatibilit\u00e4t. Wir bieten Ihnen stabile und zuverl\u00e4ssige Materiall\u00f6sungen f\u00fcr Ihre D\u00fcnnschichtbeschichtungsprozesse.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Titankarbid Sputtertargets aus Titankarbid sind hochentwickelte Keramik-Targets mit hoher H\u00e4rte und hohem Schmelzpunkt, die sich durch hervorragende Verschlei\u00dffestigkeit, chemische Stabilit\u00e4t und elektrische Leitf\u00e4higkeit auszeichnen und f\u00fcr verschiedene physikalische Gasphasenabscheidungsverfahren (PVD) geeignet sind. 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