{"id":43749,"date":"2026-01-23T13:24:24","date_gmt":"2026-01-23T05:24:24","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/titankarbid-titandioxid\/"},"modified":"2026-01-23T13:24:24","modified_gmt":"2026-01-23T05:24:24","slug":"titankarbid-titandioxid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/titankarbid-titandioxid\/","title":{"rendered":"Titankarbid-Titandioxid"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Titancarbid-Titandioxid<\/span><\/h2>\n<p>Sputtertargets<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Titanium+Carbide-Titanium+Dioxide\">aus Titancarbid-Titandioxid<\/a><\/span><br \/>\nbestehen aus Titancarbid und Titandioxid und kombinieren die hohe H\u00e4rte und Leitf\u00e4higkeit von TiC mit der chemischen Stabilit\u00e4t und den Oxidfilm-Eigenschaften von TiO\u2082. Dieses Verbundtarget kann zur Steuerung der mechanischen Eigenschaften, elektrischen Eigenschaften und Oberfl\u00e4chenfunktionalit\u00e4t von D\u00fcnnschichten verwendet werden und findet breite Anwendung bei der Herstellung von Funktionsbeschichtungen, verschlei\u00dffesten Schichten und multifunktionalen Verbundschichten.<\/p>\n<p>Wir bieten TiC-TiO\u2082-Sputter-Targets mit einheitlicher Zusammensetzung und dichter Struktur, die f\u00fcr DC- oder RF-Magnetron-Sputterprozesse geeignet sind. Wir k\u00f6nnen auch verschiedene Gr\u00f6\u00dfen, Formen und Verbindungsl\u00f6sungen entsprechend den Anforderungen der Kundenausr\u00fcstung anbieten, um Forschungs- und Industrieanwendungen gerecht zu werden.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Kombination der hohen H\u00e4rte von TiC mit den funktionellen Oxideigenschaften von TiO\u2082<br \/>\nDas Verbunddesign hilft bei der Steuerung der elektrischen und mechanischen Eigenschaften der D\u00fcnnschicht.<br \/>\nGute chemische Stabilit\u00e4t und Umweltvertr\u00e4glichkeit. Dichte Targetstruktur, geeignet f\u00fcr stabile Sputterprozesse.<br \/>\nAnwendbar auf verschiedene PVD-D\u00fcnnschicht-Abscheidungsprozesse.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Sputtertargets aus Titancarbid-Titandioxid<\/span><\/h2>\n<p><strong>Verschlei\u00dffeste und funktionelle Verbundbeschichtungen:<\/strong><br \/>\nKann zur Herstellung von Verbundd\u00fcnnschichten mit Verschlei\u00dffestigkeit und Oberfl\u00e4chenfunktionalit\u00e4t verwendet werden, geeignet f\u00fcr mechanische Teile und technische Oberfl\u00e4chen.<br \/>\n<strong>Funktionelle Oxide und Verbundd\u00fcnnschichten:<\/strong><br \/>\nDurch Verbundsputtern k\u00f6nnen D\u00fcnnschichtstrukturen mit ausgewogenen mechanischen Eigenschaften und funktionellen Merkmalen f\u00fcr die Forschung an funktionellen Ger\u00e4ten und technischen Anwendungen erzielt werden.<br \/>\n<strong>Oberfl\u00e4chentechnik und Materialmodifikation:<\/strong><br \/>\nGeeignet f\u00fcr Materialsysteme, die eine gleichzeitige Verbesserung der Oberfl\u00e4chenh\u00e4rte, Stabilit\u00e4t und Funktionsreaktion erfordern.<br \/>\n<strong>Forschung und Prozessentwicklung:<\/strong><br \/>\nWeit verbreitet in Universit\u00e4ten, Forschungseinrichtungen und Labors f\u00fcr die Forschung an Verbundd\u00fcnnschichtsystemen und die Optimierung von Prozessparametern.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/unternehmen\/faqs\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>F1: Was sind die Hauptmerkmale von Sputtertargets aus Titancarbid-Titandioxid?<br \/>\nA1: Dieses Targetmaterial erzielt durch eine Verbundkonstruktion aus Karbid und Oxid eine synergistische Optimierung der mechanischen und funktionellen Eigenschaften der D\u00fcnnschicht.<\/p>\n<p>F2: F\u00fcr welche Sputterverfahren eignet sich das Titancarbid-Titandioxid-Target?<br \/>\nA2: Es kann in der Regel f\u00fcr DC-Magnetron-Sputtern oder RF-Magnetron-Sputtern verwendet werden, je nach den Ger\u00e4tebedingungen und Prozessanforderungen.<\/p>\n<p>F3: Welche Leistungsvorteile bieten D\u00fcnnschichten, die mit diesem Targetmaterial abgeschieden wurden?<br \/>\nA3: Die D\u00fcnnschichten weisen in der Regel eine gute Abriebfestigkeit, chemische Stabilit\u00e4t und einstellbare elektrische oder oberfl\u00e4chenfunktionelle Eigenschaften auf.<\/p>\n<p>F4: Tr\u00e4gt das Verbund-Targetmaterial zur Verbesserung der strukturellen Stabilit\u00e4t der D\u00fcnnschicht bei?<br \/>\nA4: Das Verbundsystemdesign tr\u00e4gt zur Verbesserung der allgemeinen strukturellen Stabilit\u00e4t und Zuverl\u00e4ssigkeit der D\u00fcnnschicht bei.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Bericht<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Analysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/technisches-datenblatt\/\"><u>Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/sicherheitsdatenblatt\/\"><u>Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht<br \/>\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Wir sind auf Verbundsputtertargets und fortschrittliche anorganische Materialien spezialisiert und legen besonderen Wert auf Targetsdichte, Konsistenz der Zusammensetzung und Prozessanpassungsf\u00e4higkeit. Wir bieten stabile und zuverl\u00e4ssige Materiall\u00f6sungen f\u00fcr die Abscheidung von TiC\u2013TiO2-Verbundd\u00fcnnschichten.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Titancarbid-Titandioxid Sputtertargets aus Titancarbid-Titandioxid bestehen aus Titancarbid und Titandioxid und kombinieren die hohe H\u00e4rte und Leitf\u00e4higkeit von TiC mit der chemischen Stabilit\u00e4t und den Oxidfilm-Eigenschaften von TiO\u2082. 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