{"id":43345,"date":"2026-01-23T13:24:34","date_gmt":"2026-01-23T05:24:34","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/titanmonoxid\/"},"modified":"2026-01-23T13:24:34","modified_gmt":"2026-01-23T05:24:34","slug":"titanmonoxid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/titanmonoxid\/","title":{"rendered":"Titanmonoxid"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Titanoxid<\/span><\/h2>\n

Sputtertargets
\naus Titanoxid<\/a><\/span>
\nsind Keramiktargets aus Subtitanoxid mit physikalischen und elektrischen Eigenschaften, die zwischen denen von metallischem Titan und hochvalentem Titanoxid liegen. Sie eignen sich f\u00fcr die Herstellung von funktionalen D\u00fcnnschichten mit spezifischen Anforderungen an Leitf\u00e4higkeit, optischer Absorption und Strukturkontrolle. Dieses Material wird h\u00e4ufig in D\u00fcnnschichtbeschichtungsverfahren verwendet, die eine pr\u00e4zise Steuerung des Oxidationszustands von Titan erfordern, und eignet sich besonders f\u00fcr PVD-Magnetron-Sputteranwendungen.<\/p>\n

Wir k\u00f6nnen Titanoxid-Sputtertargets mit unterschiedlichen Spezifikationen und Strukturen entsprechend den Anforderungen des Sputtersystems und des Prozesses des Kunden liefern und bieten ma\u00dfgeschneiderte Verarbeitungsdienstleistungen an. Bitte kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\n, um spezifische Ger\u00e4teparameter oder Anwendungsszenarien zu best\u00e4tigen.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Sub-Titanoxid-Zusammensetzung, kontrollierbarer Oxidationszustand
\nGeeignet f\u00fcr PVD-Prozesse wie Magnetron-Sputtern
\nGleichm\u00e4\u00dfige Zusammensetzung, stabiler Sputterprozess
\nErleichtert die pr\u00e4zise Steuerung der D\u00fcnnschichtleistung
\nErf\u00fcllt die Anforderungen der wissenschaftlichen Forschung und industrieller Anwendungen<\/p>\n

Anwendungen von Titanoxid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Herstellung funktionaler D\u00fcnnschichten:<\/strong>
\nKann zur Herstellung von Titanoxid-D\u00fcnnschichten mit spezifischer Leitf\u00e4higkeit und optischen Eigenschaften verwendet werden, die f\u00fcr Funktionsschichten oder \u00dcbergangsschichten geeignet sind.
\nElektronische und mikroelektronische Ger\u00e4te:<\/strong>
\nIn elektronischen Ger\u00e4ten k\u00f6nnen TiO\u2082-D\u00fcnnschichten f\u00fcr Forschungen im Zusammenhang mit der Strukturkontrolle oder Leistungsoptimierung verwendet werden.
\nOptoelektronische und optische<\/a> <\/span>Forschung:<\/strong>
\nTitanoxid-D\u00fcnnschichten haben Forschungswert in Bezug auf Lichtabsorption und D\u00fcnnschichtstrukturanpassung und eignen sich f\u00fcr explorative Anwendungen in optoelektronischen Materialien.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1: Was sind die Hauptunterschiede zwischen Titanoxid-Sputter-Targets und TiO\u2082-Targets?
\nA1: TiO\u2082 geh\u00f6rt zu den Untertitanoxiden und hat einen niedrigeren Oxidationszustand als TiO\u2082, was zu erheblichen Unterschieden in den elektrischen und optischen Eigenschaften f\u00fchrt. Es eignet sich besser f\u00fcr Anwendungen, die eine Feinabstimmung der D\u00fcnnschichtleistung erfordern.<\/p>\n

F2: Sind Titanoxid-Sputtertargets f\u00fcr Gleichstrom- oder Hochfrequenz-Sputtern geeignet?
\nA2: Sie k\u00f6nnen in HF-Magnetron-Sputteranlagen verwendet werden. Das spezifische Verfahren muss auf der Grundlage der Anlagenkonfiguration und der Prozessparameter umfassend festgelegt werden.<\/p>\n

F3: Neigt die Zusammensetzung der D\u00fcnnschicht bei der Verwendung von TiO\u2082-Targets zu Ver\u00e4nderungen?
\nA3: Unter stabilen Sputterleistungs- und Atmosph\u00e4renbedingungen k\u00f6nnen Targets mit hoher Dichte eine gute Zusammensetzungskonstanz aufrechterhalten, was zu D\u00fcnnschichtergebnissen mit guter Reproduzierbarkeit beitr\u00e4gt.<\/p>\n

F4: Welche Vorsichtsma\u00dfnahmen sollten bei der Lagerung und dem Transport von Titanoxid-Sputter-Targets getroffen werden?
\nA4: Es wird empfohlen, sie in einer trockenen, sauberen Umgebung in einem versiegelten Beh\u00e4lter zu lagern und Feuchtigkeit oder Verunreinigungen zu vermeiden, um sicherzustellen, dass das Target vor der Verwendung in einem stabilen physikalischen Zustand bleibt.<\/p>\n

Berichte<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird geliefert mit:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Dritten sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n

Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir sind auf die Lieferung von funktionalen Keramik- und Metall-Sputter-Targets spezialisiert, verf\u00fcgen \u00fcber fundierte Erfahrung in der Materialkontrolle und -verarbeitung und k\u00f6nnen Forschungs- und Industriekunden stabile und r\u00fcckverfolgbare L\u00f6sungen f\u00fcr Titanoxid-Sputter-Targets anbieten.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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