{"id":43313,"date":"2026-01-23T13:24:35","date_gmt":"2026-01-23T05:24:35","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/titanium-dioxide-4\/"},"modified":"2026-01-23T13:24:35","modified_gmt":"2026-01-23T05:24:35","slug":"titanium-dioxide-4","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/titanium-dioxide-4\/","title":{"rendered":"Titanium Dioxide"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">\u00dcbersicht \u00fcber Titandioxidgranulat<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Titanium+Dioxide\">Titandioxidgranulat<\/a><\/span><br \/>\nist ein h\u00e4ufig verwendetes anorganisches Oxidmaterial mit ausgezeichneter chemischer und thermischer Stabilit\u00e4t, das h\u00e4ufig in D\u00fcnnschichtbeschichtungsverfahren und verwandten Anwendungen f\u00fcr Funktionsmaterialien eingesetzt wird. Die Partikelmorphologie bietet im Vergleich zu Pulver eine bessere Zufuhrkontrolle, wodurch es sich f\u00fcr die Verdampfungsbeschichtung, die thermische Verdampfung und als Rohmaterial f\u00fcr die Sputtertarget-Herstellung eignet.<\/p>\n<p>Wir bieten Titandioxidgranulat in verschiedenen Spezifikationen an und unterst\u00fctzen die Anpassung an die Anforderungen der Kundenausr\u00fcstung und -prozesse. Bitte <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">kontaktieren Sie uns,<\/a><\/span><br \/>\num die spezifischen Verdampfungsanlagen oder Prozessparameter zu best\u00e4tigen.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Hervorragende chemische und thermische Stabilit\u00e4t<br \/>\nPartikelmorphologie f\u00fcr stabilere Zuf\u00fchrung<br \/>\nGeeignet f\u00fcr Verdampfungsbeschichtung und verwandte Abscheidungsprozesse<br \/>\nVerbessert die Wiederholbarkeit des Prozesses<br \/>\nGeeignet f\u00fcr Forschungs- und Industrieanwendungen<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Titandioxidgranulat<\/span><\/h2>\n<p><strong>Verdampfungsbeschichtung und thermische Verdampfungsprozesse:<\/strong><br \/>\nGeeignet als Verdampfungsquellenmaterial f\u00fcr die Herstellung von optischen oder funktionalen Titandioxid-D\u00fcnnschichten.<br \/>\n<strong><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/anwendung\/materialien-fuer-die-optik\/\">Optische<\/a> <\/span>und funktionelle Beschichtungen:<\/strong><br \/>\nWird h\u00e4ufig in optischen Beschichtungen und funktionellen Oberfl\u00e4chenschichten verwendet, in Anwendungen, die eine hohe Filmstabilit\u00e4t erfordern.<br \/>\n<strong>D\u00fcnnschichtmaterialforschung:<\/strong><br \/>\nWeit verbreitet in wissenschaftlichen Forschungsexperimenten zum Vergleich und zur Untersuchung der Leistung von D\u00fcnnschichten unter verschiedenen Abscheidungsbedingungen.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/unternehmen\/faqs\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>F1: Warum sollte man f\u00fcr die D\u00fcnnschichtabscheidung Titandioxidgranulat anstelle von Pulver w\u00e4hlen?<br \/>\nA1: Die Granulatmorphologie erm\u00f6glicht eine einfachere Steuerung der Zufuhrrate, reduziert die Pulverstreuung und tr\u00e4gt zur Verbesserung der Stabilit\u00e4t und Wiederholbarkeit des Abscheidungsprozesses bei.<\/p>\n<p>F2: F\u00fcr welche Ger\u00e4te ist TiO\u2082-Granulat geeignet?<br \/>\nA2: Geeignet f\u00fcr thermische Verdampfung, Elektronenstrahlverdampfung und andere g\u00e4ngige D\u00fcnnschichtabscheidungsger\u00e4te.<\/p>\n<p>F3: Welche Vorsichtsma\u00dfnahmen sollten bei der Lagerung von Titandioxidgranulat getroffen werden?<br \/>\nA3: Es wird empfohlen, das Granulat in einer versiegelten, trockenen Umgebung zu lagern und Feuchtigkeit oder Verunreinigungen zu vermeiden, um die physikalische Stabilit\u00e4t des Granulats zu erhalten.<\/p>\n<p>F4: K\u00f6nnen die Spezifikationen von Titandioxidgranulat angepasst werden?<br \/>\nA4: Je nach den spezifischen Anwendungsanforderungen k\u00f6nnen unterschiedliche Granulatspezifikationen oder ma\u00dfgeschneiderte L\u00f6sungen angeboten werden, um den Ger\u00e4ten und Prozessbedingungen des Kunden gerecht zu werden.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Berichte<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Analysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/technisches-datenblatt\/\"><u>Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/sicherheitsdatenblatt\/\"><u>Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht<br \/>\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Wir sind auf die Lieferung von anorganischen Materialien f\u00fcr die D\u00fcnnschichtabscheidung spezialisiert, verf\u00fcgen \u00fcber ein stabiles Qualit\u00e4tskontrollsystem und k\u00f6nnen Forschungs- und Industriekunden zuverl\u00e4ssige Titandioxid-Partikelprodukte liefern.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>\u00dcbersicht \u00fcber Titandioxidgranulat Titandioxidgranulat ist ein h\u00e4ufig verwendetes anorganisches Oxidmaterial mit ausgezeichneter chemischer und thermischer Stabilit\u00e4t, das h\u00e4ufig in D\u00fcnnschichtbeschichtungsverfahren und verwandten Anwendungen f\u00fcr Funktionsmaterialien eingesetzt wird. Die Partikelmorphologie bietet im Vergleich zu Pulver eine bessere Zufuhrkontrolle, wodurch es sich f\u00fcr die Verdampfungsbeschichtung, die thermische Verdampfung und als Rohmaterial f\u00fcr die Sputtertarget-Herstellung eignet. 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