{"id":43191,"date":"2026-01-23T13:27:55","date_gmt":"2026-01-23T05:27:55","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/titan-oxid-niob\/"},"modified":"2026-01-23T13:27:55","modified_gmt":"2026-01-23T05:27:55","slug":"titan-oxid-niob","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/titan-oxid-niob\/","title":{"rendered":"Titan-Oxid – Niob"},"content":{"rendered":"

Titanoxid-Niob-Sputter-Targets \u2013 \u00dcbersicht<\/span><\/h2>\n

Titanoxid-Niob-<\/a><\/span>
\nSputter-Targets sind hochreine, hochdichte, mit Titandioxid dotierte Niob-Keramik-Sputter-Targets, die speziell f\u00fcr die Herstellung fortschrittlicher Funktionsschichten entwickelt wurden. Sie werden vor allem in optischen Beschichtungen, Halbleitern und Smart-Glas-Anwendungen eingesetzt und dienen als wichtiges Kernmaterial f\u00fcr die Abscheidung von hochleistungsf\u00e4higen transparenten leitf\u00e4higen Oxidschichten (TCO)<\/a><\/span>
\nund dielektrischen Schichten.<\/p>\n

Wir k\u00f6nnen Titanoxid-Niob-Verbundziele in verschiedenen Gr\u00f6\u00dfen, Reinheiten, Zusammensetzungen und Bindungsmethoden an Ihre spezifischen Prozessanforderungen anpassen. Bitte fragen Sie<\/a><\/span>
\nnach ma\u00dfgeschneiderten L\u00f6sungen.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Hohe Reinheit und gleichm\u00e4\u00dfige Zusammensetzung
\nAu\u00dfergew\u00f6hnliche Filmgleichm\u00e4\u00dfigkeit
\nHohe Dichte mit geringen Sputterdefekten
\nHervorragende elektrische und optische<\/a><\/span>
\nEigenschaften
\nUnterst\u00fctzung f\u00fcr nicht standardm\u00e4\u00dfige Anpassungen<\/p>\n

Anwendungen von Titanoxid-Niob-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Intelligentes energiesparendes Glas:<\/strong>
\nWird in Architektur- und Automobilanwendungen eingesetzt. Mit diesem Target abgeschiedene Filme erzielen eine hervorragende W\u00e4rmed\u00e4mmung und Lichtdurchl\u00e4ssigkeit und verbessern so die Energieeffizienz erheblich.
\nFlachbildschirme und Touchpanels:<\/strong>
\nDient als Erg\u00e4nzung oder Alternative zu ITO-Targets f\u00fcr die Herstellung hochtransparenter, niederohmiger Elektrodenschichten, wodurch die Bildschirmklarheit und die Ber\u00fchrungsempfindlichkeit verbessert werden.
\nOptische<\/a> <\/span>Komponenten:<\/strong>
\nWird zur Herstellung verschiedener Antireflexbeschichtungen, reflektierender Folien und Filter verwendet, wodurch die Bildqualit\u00e4t und Leistung in optischen Systemen wie Linsen und Sensoren effektiv verbessert wird.
\nHalbleiter<\/a> <\/span>und funktionelle Beschichtungen:<\/strong>
\nDient als dielektrische Schicht oder transparente Elektrode in mikroelektronischen Ger\u00e4ten und bietet gleichzeitig verschlei\u00dffeste und korrosionsbest\u00e4ndige funktionelle Schutzbeschichtungen f\u00fcr Werkzeuge und Instrumente.<\/p>\n

H\u00e4ufig<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

gestellte<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

Fragen
\nF1: Welche Vorteile bietet das TiO\u2082-Nb-Targetmaterial gegen\u00fcber herk\u00f6mmlichen ITO-Targets?
\nA1: Unter Beibehaltung der hervorragenden Leitf\u00e4higkeit und Lichtdurchl\u00e4ssigkeit verbessert die Dotierung mit Niob (Nb) die Filmstabilit\u00e4t und die mechanischen Eigenschaften. Au\u00dferdem senkt sie die Kosten in bestimmten Anwendungen, wodurch sie zu einer leistungsstarken Alternative zu ITO-Targets wird.<\/p>\n

F2: Wie hoch sind die typische Reinheit und Dichte dieses Targetmaterials?
\nA2: Unsere Produkte erreichen in der Regel eine Reinheit von 99,9 % und eine Sinterdichte von \u00fcber 95 % der theoretischen Dichte. Dies gew\u00e4hrleistet stabile Sputterprozesse und eine hervorragende Filmbildungsqualit\u00e4t.<\/p>\n

F2: In welchen Formen und mit<\/span>
\nwelchen Verbindungsmethoden ist das Target erh\u00e4ltlich?
\nA2: Wir produzieren verschiedene Formen, darunter runde und quadratische, und unterst\u00fctzen verschiedene Verbindungsmethoden wie Kupfer- und Aluminium-Tr\u00e4gerplatten, um unterschiedlichen Sputterkammerkonstruktionen gerecht zu werden.<\/p>\n

F4: Wie wird die Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Zusammensetzung der gesputterten Schicht gew\u00e4hrleistet?
\nA4: Durch fortschrittliche Pulververarbeitung und Hei\u00dfpress-Sintertechniken gew\u00e4hrleisten wir eine hochgradig gleichm\u00e4\u00dfige Verteilung der Elemente Ti, Nb und O innerhalb des Targetmaterials und garantieren so eine konsistente Zusammensetzung \u00fcber gro\u00dffl\u00e4chige Schichten hinweg.<\/p>\n

Bericht<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit folgenden
\nUnterlagen<\/u><\/a><\/span>
\ngeliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n

Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir sind auf die Forschung und Entwicklung sowie die kundenspezifische Herstellung von hochleistungsf\u00e4higen Keramik-Sputter-Targets spezialisiert und verf\u00fcgen \u00fcber umfassendes technisches Know-how. Von der Auswahl der Rohstoffe bis zur Pr\u00e4zisionsverarbeitung f\u00fchren wir in jeder Phase strenge Qualit\u00e4tskontrollen durch, um zuverl\u00e4ssige Target-Produkte zu liefern, die den technischen Spezifikationen unserer Kunden vollst\u00e4ndig entsprechen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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