{"id":38465,"date":"2025-11-25T09:44:23","date_gmt":"2025-11-25T01:44:23","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/molybdaen-wolfram-legierung-2\/"},"modified":"2025-11-25T09:44:23","modified_gmt":"2025-11-25T01:44:23","slug":"molybdaen-wolfram-legierung-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/molybdaen-wolfram-legierung-2\/","title":{"rendered":"Molybd\u00e4n-Wolfram-Legierung"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Molybd\u00e4n-Wolfram-Legierung<\/span><\/h2>\n

Sputtertargets aus
\nMolybd\u00e4n-Wolfram<\/a><\/span>
\n-Legierung werden aus Molybd\u00e4n und Wolfram in einem bestimmten Verh\u00e4ltnis legiert. Sie besitzen einen hohen Schmelzpunkt, eine ausgezeichnete thermische Stabilit\u00e4t und eine \u00fcberragende H\u00e4rte, was sie zu wichtigen Materialien f\u00fcr die Herstellung von hochtemperaturbest\u00e4ndigen D\u00fcnnschichten, Diffusionsbarriereschichten und funktionellen Beschichtungen macht. Sie finden breite Anwendung in der Halbleiterfertigung, der optoelektronischen D\u00fcnnschichttechnologie, der Herstellung von Hartbeschichtungen und industriellen Beschichtungsanwendungen und eignen sich f\u00fcr anspruchsvolle Vakuumbeschichtungsumgebungen.<\/p>\n

Wir k\u00f6nnen MoW-Sputter-Targets in verschiedenen Verh\u00e4ltnissen, Reinheiten und Gr\u00f6\u00dfen herstellen, darunter runde Targets, rechteckige Targets, gebogene Targets, segmentierte Targets und komplette Target-Baugruppen. Wir unterst\u00fctzen kundenspezifische Prozesse, darunter Dichteverbesserung, Backplane-Bonding,<\/a><\/span>
\nVakuumpolieren und Oberfl\u00e4chenoptimierungsbehandlungen. Bitte z\u00f6gern Sie nicht, uns<\/a><\/span>
\nzu kontaktieren.<\/a><\/span><\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Material mit hoher Dichte, ausgezeichnete Filmgleichm\u00e4\u00dfigkeit
\nStarke Best\u00e4ndigkeit gegen thermische Schocks bei hohen Temperaturen
\nDer Wolframanteil kann je nach Prozessanforderungen angepasst werden
\nUnterst\u00fctzt die<\/a> Anpassung<\/a><\/span>
\nverschiedener Targetstrukturen und -gr\u00f6\u00dfen
\nStabile Sputterrate und gute Haftung
\nHohe Vakuumkompatibilit\u00e4t, weniger anf\u00e4llig f\u00fcr Filmverunreinigungen<\/p>\n

Anwendungen von Sputtertargets aus Molybd\u00e4n-Wolfram-Legierungen<\/span><\/h2>\n

Verwendung f\u00fcr die Abscheidung von Diffusionsbarriereschichten und hochtemperaturbest\u00e4ndigen Filmen in Halbleiterprozessen.
\nAnwendung in der Hartbeschichtungsindustrie, z. B. f\u00fcr Werkzeugbeschichtungen und verschlei\u00dffeste Filme.
\nWird f\u00fcr die Herstellung von Funktions- und Strukturfilmen in der optoelektronischen Industrie verwendet.
\nWird f\u00fcr die Abscheidung korrosionsbest\u00e4ndiger Filme in Pr\u00e4zisionsinstrumenten und industriellen Beschichtungsanlagen verwendet.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1: Welche Verpackungsmethode wird f\u00fcr MoW-Sputter-Targets verwendet?
\nA1: Wir verwenden eine Kombination aus Vakuumversiegelung und sto\u00dffester Au\u00dfenverpackung, um sicherzustellen, dass die Targets w\u00e4hrend des Transports sauber und unbesch\u00e4digt bleiben.<\/p>\n

F2: Bieten Sie internationalen Versand an? Wie lange dauert die Lieferung?
\nA2: Ja, wir versenden mit internationalen Expresskurieren wie DHL, UPS und FedEx und liefern in der Regel innerhalb von 3\u20137 Tagen in die meisten L\u00e4nder und Regionen, wobei Echtzeit-Sendungsverfolgungsinformationen verf\u00fcgbar sind.<\/p>\n

F3: Wie garantieren Sie die Reinheit und Zusammensetzung von MoW-Sputter-Targets?
\nA3: Jede Charge von Sputtertargets wird einer ICP-, GDMS- oder XRF-Pr\u00fcfung unterzogen, um sicherzustellen, dass Zusammensetzung und Verunreinigungen innerhalb strenger Grenzen liegen. Entsprechende Pr\u00fcfberichte sind verf\u00fcgbar.<\/p>\n

F4: Bieten Sie Dienstleistungen zur Bearbeitung von Sputtertargets an, z. B. Sondergr\u00f6\u00dfen oder Verkleben?
\nA4: Ja, wir bieten Pr\u00e4zisionsbearbeitung, Oberfl\u00e4chenbehandlung, Verkleben der R\u00fcckseite und Sonderformen an, um eine vollst\u00e4ndige Kompatibilit\u00e4t zwischen dem Sputtertarget und den Ger\u00e4ten des Kunden zu gew\u00e4hrleisten.<\/p>\n

Berichte<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/span><\/a>
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n

Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir verf\u00fcgen \u00fcber fortschrittliche Pulvermetallurgie- und Hei\u00dfisostatische Pressverfahren (HIP), die es uns erm\u00f6glichen, MoW-Sputter-Targets mit hoher Dichte und Gleichm\u00e4\u00dfigkeit stabil zu produzieren. Dank unserer langj\u00e4hrigen Produktionserfahrung, schnellen Lieferzeiten, strengen Qualit\u00e4tskontrollen und flexiblen Anpassungsm\u00f6glichkeiten pflegen wir langfristige Lieferbeziehungen zu zahlreichen optoelektronischen, Halbleiter- und Vakuumbeschichtungsunternehmen weltweit. Wenn Sie sich f\u00fcr uns entscheiden, profitieren Sie von einer stabilen und zuverl\u00e4ssigen Materialqualit\u00e4t, wettbewerbsf\u00e4higen Preisen und professionellem technischen Support. Damit sind wir Ihr idealer Partner f\u00fcr die Entwicklung von Hochleistungs-D\u00fcnnschichtmaterialien.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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