{"id":37565,"date":"2025-11-26T17:01:11","date_gmt":"2025-11-26T09:01:11","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/niob-zirkonium-legierung\/"},"modified":"2025-11-26T17:01:11","modified_gmt":"2025-11-26T09:01:11","slug":"niob-zirkonium-legierung","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/niob-zirkonium-legierung\/","title":{"rendered":"Niob-Zirkonium-Legierung"},"content":{"rendered":"

Sputter-Targets aus Niob-Zirkonium-Legierung \u2013 \u00dcbersicht<\/span><\/h2>\n

Sputter-Targets
\naus Niob-Zirkonium-Legierung<\/a><\/span>
\nsind hochreine Targets aus einer Niob-Zirkonium-Legierung, die sich durch hohe Temperaturstabilit\u00e4t, Korrosionsbest\u00e4ndigkeit und hervorragende mechanische Eigenschaften auszeichnen. Sie werden h\u00e4ufig f\u00fcr die Abscheidung von funktionalen D\u00fcnnschichten, elektronischen Bauelementen und supraleitenden Schichten verwendet. Sie werden in erster Linie f\u00fcr die Herstellung von supraleitenden Schichten, hochleistungsf\u00e4higen elektronischen D\u00fcnnschichten, magnetischen Schichten und funktionalen Verbundschichten verwendet.<\/p>\n

Wir bieten NbZr-Targets in verschiedenen Spezifikationen an, darunter runde, rechteckige und rotierende Targets mit einer Reinheit von 99,5 % bis 99,9 %. Sondergr\u00f6\u00dfen, -dicken und -r\u00fcckwandstrukturen sind verf\u00fcgbar. Die Targets werden mittels Hei\u00dfpresssinterung, Vakuum-Hochtemperatursinterung oder Diffusionsschwei\u00dfverfahren hergestellt, wodurch eine hohe Dichte, eine gleichm\u00e4\u00dfige Schichtbildung und eine lange Lebensdauer gew\u00e4hrleistet sind, um den Anforderungen von Forschung und industriellen Anwendungen gerecht zu werden. Kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\nf\u00fcr ein Angebot.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Hochreines Sputtertarget aus einer Niob-Zirkonium-Legierung
\nAusgezeichnete Hochtemperaturbest\u00e4ndigkeit und Korrosionsbest\u00e4ndigkeit
\nHohe Dichte und gute Schichtgleichm\u00e4\u00dfigkeit
\nChargenstabilit\u00e4t, geeignet f\u00fcr wissenschaftliche Forschung und industrielle Anwendungen
\nAnpassbare Gr\u00f6\u00dfe, Dicke und R\u00fcckwand verf\u00fcgbar
\nLanglebiges Target, geeignet f\u00fcr die gro\u00dftechnische Sputterproduktion
\nKann zu rotierenden Targets und R\u00fcckwandkonstruktionen f\u00fcr das W\u00e4rmemanagement verarbeitet werden<\/p>\n

Anwendungen von Sputtertargets aus Niob-Zirkonium-Legierung<\/span><\/h2>\n

Abscheidung supraleitender Schichten: Verwendung f\u00fcr supraleitende D\u00fcnnschichten in MRT, wissenschaftlichen Forschungsger\u00e4ten und Teilchenbeschleunigern.
\nElektronische Funktionsd\u00fcnnschichten: Herstellung von leitf\u00e4higen Schichten oder elektronischen Verbundschichten.
\nMagnetische D\u00fcnnschichten: Verwendung in Hochleistungs-Magnetvorrichtungen und Sensorschichten.
\nFunktionsverbundschichten: Geeignet f\u00fcr mehrschichtige Verbundschichten oder Hochleistungs-D\u00fcnnschichtmaterialien.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1: Wie wird das NbZr-Sputtertarget verpackt?
\nA1: Das Target ist vakuumversiegelt oder mit Inertgas gesch\u00fctzt und wird durch eine sto\u00dffeste Au\u00dfenverpackung erg\u00e4nzt, um einen sicheren Transport zu gew\u00e4hrleisten und Oxidation zu verhindern.<\/p>\n

F2: Welche Verarbeitungs- oder Anpassungsoptionen sind f\u00fcr das Target verf\u00fcgbar?
\nA2: Wir bieten Hei\u00dfpresssintern, CNC-Pr\u00e4zisionsbearbeitung, Oberfl\u00e4chenschleifen und -polieren sowie Diffusionsbonding-Verfahren f\u00fcr R\u00fcckplatten an. Wir unterst\u00fctzen auch kundenspezifische rotierende Targets.<\/p>\n

F3: Wie sollten NbZr-Sputtertargets gelagert werden?
\nA3: Wir empfehlen die Lagerung in einer trockenen, bel\u00fcfteten und lichtgesch\u00fctzten Umgebung, wobei Feuchtigkeit und oxidierende Gase zu vermeiden sind, um eine langfristige Leistungsstabilit\u00e4t zu gew\u00e4hrleisten.<\/p>\n

F4: Welchen Reinheitsgrad k\u00f6nnen NbZr-Sputtertargets erreichen?
\nA4: Wir k\u00f6nnen hochreine Targets mit einem Reinheitsgrad von 99,5 % bis 99,9 % liefern, zusammen mit Zusammensetzungsanalysen und Werks-COA.<\/p>\n

Berichte<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/a><\/span>
\nTestberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n

Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Spezialisiert auf die Herstellung von Sputtertargets aus Niob, Zirkonium und seltenen Metalllegierungen. Hohe Reinheit, hohe Dichte und Chargenstabilit\u00e4t.
\nAnpassbare<\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfen, Dicken und Backplate-Strukturen.
\nGeeignet sowohl f\u00fcr Forschungszwecke als auch f\u00fcr gro\u00dftechnische Anwendungen.
\nEin komplettes Pr\u00fcfsystem gew\u00e4hrleistet die R\u00fcckverfolgbarkeit der Target-Leistung. Unser technisches Team bietet Beratung zum Sputterprozess und Anwendungsl\u00f6sungen.
\nUmfangreiche weltweite Versand Erfahrung gew\u00e4hrleistet eine sichere und zuverl\u00e4ssige Verpackung.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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