{"id":35448,"date":"2025-12-03T11:12:12","date_gmt":"2025-12-03T03:12:12","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/strontium-vanadat-2\/"},"modified":"2025-12-03T11:12:12","modified_gmt":"2025-12-03T03:12:12","slug":"strontium-vanadat-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/strontium-vanadat-2\/","title":{"rendered":"Strontium-Vanadat"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">\u00dcbersicht \u00fcber Strontiumvanadat-Sputtertargets<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Strontium+vanadate\">Strontiumvanadat<\/a><\/span><br \/>\n-Sputtertargets werden h\u00e4ufig zur Herstellung von optischen D\u00fcnnschichten, funktionellen Oxid-D\u00fcnnschichten und Forschungsbeschichtungen f\u00fcr optoelektronische Ger\u00e4te verwendet.<\/p>\n<p>Wir bieten eine Vielzahl von Strontiumvanadat-Sputter-Targets an, darunter Keramik-Targets, hei\u00dfgepresste Targets, Standardgr\u00f6\u00dfen und Sondergr\u00f6\u00dfen. Dichte, Reinheit und Ma\u00dfparameter k\u00f6nnen an verschiedene Beschichtungsanlagen und Prozessbedingungen angepasst werden. W\u00e4hrend der Target-Verarbeitung werden Dichte und Mikrostruktur-Gleichm\u00e4\u00dfigkeit streng kontrolliert, um hervorragende Schichtabscheidungsraten und Stabilit\u00e4t zu gew\u00e4hrleisten. Bitte <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">kontaktieren Sie uns<\/a> <span style=\"color: #000000;\">f<\/span><\/span><span style=\"color: #000000;\">\u00fc<\/span><br \/>\nr weitere Informationen.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Keramikstruktur mit hoher Dichte<br \/>\nGute Filmgleichm\u00e4\u00dfigkeit<br \/>\nGeringer Verunreinigungsgehalt, stabile Leistung<br \/>\nUnterst\u00fctzt mehrere Sputterprozesse<br \/>\nAusgezeichnete W\u00e4rme- und Rissbest\u00e4ndigkeit<br \/>\nTarget-Bonding verf\u00fcgbar<br \/>\nSondergr\u00f6\u00dfen verf\u00fcgbar<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Strontiumvanadat-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n<p>Verwendung zur Herstellung <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/anwendung\/materialien-fuer-die-optik\/\">optischer<\/a><\/span><br \/>\nD\u00fcnnschichten zur Verbesserung der Leistung optischer Bauelemente.<br \/>\nVerwendung f\u00fcr die Forschung an funktionellen Oxid-D\u00fcnnschichten, um den Anforderungen der Erforschung multistruktureller Bauelemente gerecht zu werden.<br \/>\nVerwendung f\u00fcr Beschichtungen optoelektronischer Ger\u00e4te zur Verbesserung der Reaktionseigenschaften d\u00fcnner Schichten.<br \/>\nVerwendung f\u00fcr Materialverifizierung und Leistungstests in Labors und Pilotanlagen.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/unternehmen\/faqs\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>F1: Hat die Dichte des Strontiumvanadat-Targets einen wesentlichen Einfluss auf die d\u00fcnne Schicht?<br \/>\nA1: Eine h\u00f6here Dichte f\u00fchrt zu einem stabileren Sputterprozess, wodurch die Partikelabl\u00f6sung deutlich reduziert und die Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Schicht verbessert wird.<\/p>\n<p>F2: Ist das Target f\u00fcr Hochleistungs-Magnetron-Sputteranlagen geeignet?<br \/>\nA2: Die Targetstruktur ist f\u00fcr h\u00f6here Energiedichten optimiert und eignet sich f\u00fcr verschiedene Arten von Magnetron-Sputteranlagen.<\/p>\n<p>F3: K\u00f6nnen die Targetkanten entsprechend der Anlagenstruktur speziell bearbeitet werden?<br \/>\nA3: Ja, Fasen, R\u00fcckplattenverschwei\u00dfungen und Sonderformen k\u00f6nnen entsprechend der Kavit\u00e4ts- und Targethalterstruktur angepasst werden.<\/p>\n<p>F4: Was ist zu tun, wenn w\u00e4hrend des Sputterns Lichtb\u00f6gen auftreten?<br \/>\nA4: Dies h\u00e4ngt in der Regel mit der Atmosph\u00e4re in der Kavit\u00e4t oder dem Zustand der Targetoberfl\u00e4che zusammen. Eine Anpassung des Gasdrucks und der Leistung sowie eine Vorbehandlung der Targetoberfl\u00e4che sollten Abhilfe schaffen.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Berichte<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird geliefert mit:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Analysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/technisches-datenblatt\/\"><u>Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/sicherheitsdatenblatt\/\"><u>Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nTestberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Wir konzentrieren uns seit langem auf die Herstellung von funktionalen Oxid-Sputter-Targets. Durch stabile Formulierungskontrolle, pr\u00e4zise Sinterprozesse und strenge Testverfahren bieten wir zuverl\u00e4ssige Sputter-Target-Lieferungen f\u00fcr verschiedene Forschungsteams und Anwender in der D\u00fcnnschichtproduktion. Wir unterst\u00fctzen Sie mit schneller Lieferung, technischer Beratung und ma\u00dfgeschneiderten Dienstleistungen und gew\u00e4hrleisten so eine konsistente und zuverl\u00e4ssige Unterst\u00fctzung von der Materialauswahl bis zur Prozessanwendung, damit Ihre D\u00fcnnschichtprojekte effizienter und stabiler voranschreiten k\u00f6nnen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>\u00dcbersicht \u00fcber Strontiumvanadat-Sputtertargets Strontiumvanadat -Sputtertargets werden h\u00e4ufig zur Herstellung von optischen D\u00fcnnschichten, funktionellen Oxid-D\u00fcnnschichten und Forschungsbeschichtungen f\u00fcr optoelektronische Ger\u00e4te verwendet. Wir bieten eine Vielzahl von Strontiumvanadat-Sputter-Targets an, darunter Keramik-Targets, hei\u00dfgepresste Targets, Standardgr\u00f6\u00dfen und Sondergr\u00f6\u00dfen. Dichte, Reinheit und Ma\u00dfparameter k\u00f6nnen an verschiedene Beschichtungsanlagen und Prozessbedingungen angepasst werden. 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