{"id":34389,"date":"2025-12-09T15:51:12","date_gmt":"2025-12-09T07:51:12","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/gallium-oxid\/"},"modified":"2025-12-09T15:51:12","modified_gmt":"2025-12-09T07:51:12","slug":"gallium-oxid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/gallium-oxid\/","title":{"rendered":"Gallium-Oxid"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">\u00dcbersicht \u00fcber Galliumoxid-Sputtertargets<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Gallium+oxide\">Galliumoxid<\/a><\/span><br \/>\n-Sputtertargets sind dichte Keramiktargets, die aus hochreinem Galliumoxidpulver durch fortschrittliche Formungs- und Sinterprozesse hergestellt werden. Sie bestehen haupts\u00e4chlich aus der stabilsten \u03b2-Phase und dienen als Kernmaterial f\u00fcr die Abscheidung von Galliumoxid-D\u00fcnnschichten in physikalischen Gasphasenabscheidungsprozessen. Als Halbleiter der n\u00e4chsten Generation mit extrem breiter Bandl\u00fccke bilden die mit diesem Target abgeschiedenen Schichten die Grundlage f\u00fcr die Herstellung von Leistungselektronikbauteilen der n\u00e4chsten Generation f\u00fcr Ultrahochspannung und optoelektronischen Bauteilen f\u00fcr tiefes Ultraviolett.<\/p>\n<p>Wir bieten hochreine Ga2O3-Keramik-Sputter-Targets in verschiedenen Gr\u00f6\u00dfen an, die \u00fcberwiegend die \u03b2-Phase aufweisen. Professionelle <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/service\/ziel-bindung\/\">Bonding<\/a><\/span><br \/>\n-Dienstleistungen sind ebenfalls verf\u00fcgbar. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">Kontaktieren Sie uns<\/a><\/span><br \/>\nf\u00fcr Spezifikationslisten und ma\u00dfgeschneiderte L\u00f6sungen.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Ultrahohe Reinheit<br \/>\nHohe Dichte und geringe Porosit\u00e4t<br \/>\nStabile \u03b2-Phasenstruktur<br \/>\nHervorragende Mikrostruktur-Gleichm\u00e4\u00dfigkeit<br \/>\nPr\u00e4zise Ma\u00dfkontrolle<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/service\/ziel-bindung\/\">Bonding<\/a><\/span><br \/>\n-Dienstleistungen <\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">verf\u00fcgbar<br \/>\nAnwendungen von Ga2O3-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n<p>Leistungshalbleiterbauelemente: Abscheidung von Ga\u2082O\u2083-Filmen f\u00fcr die Herstellung von Ultrahochspannungs-Schottky-Dioden und Feldeffekttransistoren, die in neuen Energiefahrzeugen und intelligenten Stromnetzen verwendet werden.<br \/>\nTief-ultraviolette optoelektronische Bauelemente: Zur Herstellung von tageslichtblinden UV-Fotodetektoren und transparenten leitf\u00e4higen Schichten f\u00fcr UV-Kommunikation, Fr\u00fchwarnsysteme und Sensoranwendungen.<br \/>\nSchutz- und Funktionsbeschichtungen: Einsatz als verschlei\u00dffeste, korrosionsbest\u00e4ndige Hartbeschichtungen oder Isolierschichten f\u00fcr Pr\u00e4zisionswerkzeuge und Oberfl\u00e4chen von Elektronikbauteilen.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/unternehmen\/faqs\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>F1: Was sind die Vorteile von GaO-Targets gegen\u00fcber SiC- und GaN-Targets?<br \/>\nA1: Gr\u00f6\u00dfere Bandl\u00fccke und h\u00f6here theoretische Durchbruchspannung. Sie bieten ein gr\u00f6\u00dferes Potenzial f\u00fcr die Herstellung von Ultrahochspannungs-Leistungsbauelementen (&gt;1200 V) und versprechen geringere Energieverluste.<\/p>\n<p>F2: Welcher Reinheitsgrad ist erforderlich?<br \/>\nA2: Das h\u00e4ngt von der Anwendung ab. F\u00fcr F&amp;E und High-End-Ger\u00e4te ist in der Regel eine Reinheit von 99,99 % (4N) oder h\u00f6her erforderlich, um eine optimale elektrische Leistung der D\u00fcnnschicht zu gew\u00e4hrleisten.<\/p>\n<p>F3: Bieten Sie Bonding-Dienstleistungen an? Warum ist dies notwendig?<br \/>\nA3: Ja. Das Bonding auf eine Metalltr\u00e4gerplatte (z. B. Kupfer) erm\u00f6glicht eine effiziente W\u00e4rmeableitung und eine sichere Befestigung, wodurch verhindert wird, dass spr\u00f6de Keramik-Targets beim Sputtern zerbrechen.<\/p>\n<p>F4: Wie sollten Targets gelagert und gepflegt werden?<br \/>\nA4: Lagern Sie sie in versiegelten, feuchtigkeitsgesch\u00fctzten Beh\u00e4ltern in einer trockenen, sauberen Umgebung. Reinigen Sie die Target-Oberfl\u00e4che nach dem Gebrauch, um Verunreinigungen und physikalische Einwirkungen zu vermeiden.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Bericht<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird geliefert mit:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Analysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/technisches-datenblatt\/\"><u>Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/sicherheitsdatenblatt\/\"><u>Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nTestberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Wir bieten Ihnen eine Komplettl\u00f6sung von hochreinen Pulvern \u00fcber die Herstellung pr\u00e4ziser Targets bis hin zu Bonding-Tests und sind Ihr zuverl\u00e4ssiger Partner bei der Entwicklung von Halbleitertechnologien der vierten Generation.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>\u00dcbersicht \u00fcber Galliumoxid-Sputtertargets Galliumoxid -Sputtertargets sind dichte Keramiktargets, die aus hochreinem Galliumoxidpulver durch fortschrittliche Formungs- und Sinterprozesse hergestellt werden. 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