{"id":33863,"date":"2025-12-09T15:51:20","date_gmt":"2025-12-09T07:51:20","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/gallium-selenid\/"},"modified":"2025-12-09T15:51:20","modified_gmt":"2025-12-09T07:51:20","slug":"gallium-selenid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/gallium-selenid\/","title":{"rendered":"Gallium Selenid"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">\u00dcbersicht \u00fcber Galliumselenid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Gallium+selenide\">Galliumselenid<\/a><\/span><br \/>\n-Sputter-Targets sind funktionelle Keramik-Targets, die aus hochreinem GaSe-Pulver oder -Ingots durch fortschrittliche pulvermetallurgische Verfahren hergestellt werden. Sie \u00fcbernehmen die einzigartige Schichtkristallstruktur, die direkte Bandl\u00fccke und die hervorragenden nichtlinearen optischen Eigenschaften des GaSe-Materials und dienen als Kernmaterial f\u00fcr die Herstellung hochwertiger Galliumselenid-Filme mittels physikalischer Gasphasenabscheidung (PVD). Sie werden vor allem in der modernen Infrarot-Optoelektronik, der nichtlinearen Optik und in neuartigen zweidimensionalen Materialbauelementen eingesetzt.<\/p>\n<p>Wir bieten hochwertige GaSe-Keramik-Sputter-Targets in verschiedenen Reinheitsgraden, Abmessungen und Verbindungskonfigurationen an. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Gallium+selenide\">Kontaktieren Sie uns<\/a><\/span><br \/>\nf\u00fcr technische Unterlagen.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Geschichtete Halbleiterstruktur<br \/>\nHervorragende nichtlineare optische Leistung<br \/>\nOptimierte Eigenschaften f\u00fcr Anwendungen im mittleren bis fernen Infrarotbereich<br \/>\nHohe Reinheit mit pr\u00e4ziser St\u00f6chiometrie<br \/>\nProfessionelle Bonding-Plattenverbindung verf\u00fcgbar<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Galliumselenid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n<p>Infrarot- und nichtlineare optische Bauelemente: Verwendung f\u00fcr die D\u00fcnnschichtabscheidung bei der Herstellung von Kernfunktionskomponenten f\u00fcr die Terahertz-Erzeugung\/Detektion und die Frequenzverdopplung von Mid-Infrarot-Lasern.<br \/>\nOptoelektronik und Detektoren: Verwendung zur Herstellung von hochleistungsf\u00e4higen Infrarot-Fotodetektoren, Feldeffekttransistoren und empfindlichen Schichten f\u00fcr flexible optoelektronische Bauelemente.<br \/>\nNeuartige 2D-Materialien und -Ger\u00e4te: Dient als Abscheidungsquelle f\u00fcr hochwertige 2D-GaSe-Schichten und erm\u00f6glicht so Grundlagenforschung und Anwendungsentwicklung f\u00fcr neuartige Quantenbauelemente und Sensoren.<br \/>\nSpezialisierte Funktionsbeschichtungen: Nutzt seine einzigartigen optischen und halbleitertechnischen Eigenschaften und wird als Funktionsschicht f\u00fcr Infrarotfenster oder Spezialsensoren abgeschieden.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/unternehmen\/faqs\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>F1: Warum sollte man sich f\u00fcr GaSe-Targetmaterial entscheiden?<br \/>\nA1: Seine Hauptvorteile liegen in seiner einzigartigen Schichtstruktur und seinen hervorragenden nichtlinearen optischen Eigenschaften, wodurch es sich besonders f\u00fcr die Herstellung von optoelektronischen Bauelementen im mittleren Infrarot- und Terahertz-Bereich eignet.<\/p>\n<p>F2: Welche Reinheitsanforderungen gelten f\u00fcr GaSe-Targetmaterial?<br \/>\nA2: Um eine optimale optoelektronische Leistung des D\u00fcnnfilms zu gew\u00e4hrleisten, muss die Reinheit in der Regel \u00fcber 99,9 % liegen. Eine hohe Reinheit minimiert effektiv Defekte, die durch Verunreinigungen verursacht werden.<\/p>\n<p>F3: Welche Vorsichtsma\u00dfnahmen sollten bei der Verwendung und Wartung getroffen werden?<br \/>\nA3: Dieses Material ist spr\u00f6de und erfordert eine sorgf\u00e4ltige Handhabung beim Einsetzen und Entfernen. Lagern Sie es in verschlossenen Beh\u00e4ltern, um Feuchtigkeitseinwirkung zu vermeiden. Aufgrund seiner Schichtstruktur m\u00fcssen die Sputterprozessparameter optimiert werden, um gleichm\u00e4\u00dfige D\u00fcnnschichten zu erzielen.<\/p>\n<p>F4: K\u00f6nnen nicht standardm\u00e4\u00dfige Abmessungen oder Verbindungen individuell angepasst werden?<br \/>\nA4: Ja. Wir unterst\u00fctzen die Anpassung der Zielformen und -gr\u00f6\u00dfen an Ihre Anlagenkammer und Prozessanforderungen und bieten professionelle Dienstleistungen f\u00fcr die Verbindung von Tr\u00e4gerplatten.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Bericht<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird geliefert mit:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Analysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/technisches-datenblatt\/\"><u>Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/sicherheitsdatenblatt\/\"><u>Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nTestberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Dank unserer Expertise im Bereich Spezialverbundziele liefern wir hochstabile, konsistente GaSe-Ziele und ma\u00dfgeschneiderte L\u00f6sungen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>\u00dcbersicht \u00fcber Galliumselenid-Sputter-Targets Galliumselenid -Sputter-Targets sind funktionelle Keramik-Targets, die aus hochreinem GaSe-Pulver oder -Ingots durch fortschrittliche pulvermetallurgische Verfahren hergestellt werden. 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