{"id":33005,"date":"2025-12-12T13:26:08","date_gmt":"2025-12-12T05:26:08","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/zinkoxid-ga-dotiert-2\/"},"modified":"2025-12-12T13:26:08","modified_gmt":"2025-12-12T05:26:08","slug":"zinkoxid-ga-dotiert-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/zinkoxid-ga-dotiert-2\/","title":{"rendered":"Zinkoxid (Ga-dotiert)"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Zinkoxid (Ga-dotiert) Granulat \u00dcbersicht<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Zinc+Oxide+%28Ga+doped%29\">Zinkoxid (Ga-dotiert)<\/a><\/span><br \/>\nGranulat ist ein grundlegender Rohstoff f\u00fcr die Herstellung und Sekund\u00e4rformung von funktionellen Oxiden, die h\u00e4ufig beim Sintern von Sputtertargets, in der D\u00fcnnschichtmaterialforschung und bei der Entwicklung von leitf\u00e4higen Oxid-Systemen verwendet werden.<\/p>\n<p>Wir bieten stabile Lieferoptionen mit verschiedenen Partikelgr\u00f6\u00dfen, Dotierungsverh\u00e4ltnissen und Chargengr\u00f6\u00dfen. Bitte <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">kontaktieren Sie uns<\/a><\/span><br \/>\nf\u00fcr Muster und technische Informationen.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Gleichm\u00e4\u00dfige Dotierungsverteilung<br \/>\nRegelm\u00e4\u00dfige Partikelmorphologie und gute Flie\u00dff\u00e4higkeit<br \/>\nGeeignet f\u00fcr Press- und Sinterprozesse<br \/>\nStabile chemische Reinheit<br \/>\nHohe Chargenkonsistenz<br \/>\nGeeignet f\u00fcr Forschung und industrielle Vorbehandlung<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Zinkoxid (Ga-dotiert) Granulat<\/span><\/h2>\n<p>Rohmaterial f\u00fcr die Herstellung von Sputtertargets: Dieses Granulat wird h\u00e4ufig als Ausgangsmaterial f\u00fcr Oxidtargets verwendet, die nach dem Hei\u00dfpressen oder isostatischen Kaltpressen gesintert werden und eine gute Grundlage f\u00fcr Dichte und Leitf\u00e4higkeit bieten.<br \/>\nForschung zu transparenten leitf\u00e4higen Materialien: Bei der Erforschung transparenter leitf\u00e4higer Oxidsysteme k\u00f6nnen sie als Formulierungsrohstoff zur Zusammensetzungskontrolle verwendet werden, um die elektrischen und optischen Eigenschaften von D\u00fcnnschichten zu optimieren.<br \/>\nEntwicklung funktionaler Keramikmaterialien: Geeignet f\u00fcr die experimentelle Chargenphase von elektronischer Keramik und funktionalen Oxidmaterialien, erleichtert die Zusammensetzungsanpassung und die Vergr\u00f6\u00dferung im kleinen Ma\u00dfstab.<br \/>\nProzessvalidierung im Labor- und Pilotma\u00dfstab: Wird h\u00e4ufig zur Verifizierung neuer Prozesswege, zur Bewertung des Einflusses von Dotierungsverh\u00e4ltnissen auf die Leistung und f\u00fcr vergleichende Materialtests verwendet.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/unternehmen\/faqs\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>F1: K\u00f6nnen die Partikel direkt zum Sputtern verwendet werden?<br \/>\nA1: Diese Form wird haupts\u00e4chlich in der Targetvorbereitung oder in der Materialforschung verwendet und erfordert in der Regel vor der Verwendung ein weiteres Pressen und Sintern.<\/p>\n<p>F2: Ist das Gallium-Dotierungsverh\u00e4ltnis festgelegt?<br \/>\nA2: Das Dotierungsverh\u00e4ltnis kann je nach Anwendungsanforderungen angepasst werden und wird h\u00e4ufig verwendet, um Leitf\u00e4higkeit und Materialstabilit\u00e4t auszugleichen.<\/p>\n<p>F3: Beeinflusst die Partikelgr\u00f6\u00dfe die sp\u00e4teren Sinterergebnisse?<br \/>\nA3: Die Partikelgr\u00f6\u00dfenverteilung beeinflusst die Pressdichte und die Gleichm\u00e4\u00dfigkeit des Sinterns und kann entsprechend den Prozessanforderungen angepasst werden.<\/p>\n<p>F4: Ist das Material w\u00e4hrend der Lagerung anf\u00e4llig f\u00fcr Feuchtigkeit?<br \/>\nA4: Es wird empfohlen, es in einer versiegelten, trockenen Umgebung zu lagern, um die Flie\u00dff\u00e4higkeit und chemische Stabilit\u00e4t der Partikel zu erhalten.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Bericht<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Analysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/technisches-datenblatt\/\"><u>Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/sicherheitsdatenblatt\/\"><u>Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Wir konzentrieren uns seit langem auf die stabile Herstellung und Anwendungsanpassung von anorganischen funktionellen Materialrohstoffen, wobei wir den Schwerpunkt auf die Kontrolle der Partikelmorphologie, die Konsistenz der Zusammensetzung und die Anpassung an die Kundenprozesse legen und so zuverl\u00e4ssige Unterst\u00fctzung f\u00fcr die Materialforschung und -entwicklung sowie die industrielle Transformation bieten.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Zinkoxid (Ga-dotiert) Granulat \u00dcbersicht Zinkoxid (Ga-dotiert) Granulat ist ein grundlegender Rohstoff f\u00fcr die Herstellung und Sekund\u00e4rformung von funktionellen Oxiden, die h\u00e4ufig beim Sintern von Sputtertargets, in der D\u00fcnnschichtmaterialforschung und bei der Entwicklung von leitf\u00e4higen Oxid-Systemen verwendet werden. Wir bieten stabile Lieferoptionen mit verschiedenen Partikelgr\u00f6\u00dfen, Dotierungsverh\u00e4ltnissen und Chargengr\u00f6\u00dfen. 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