{"id":31577,"date":"2025-12-18T17:49:54","date_gmt":"2025-12-18T09:49:54","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/kupferaluminat-kupfer-aluminium-oxid\/"},"modified":"2025-12-18T17:49:54","modified_gmt":"2025-12-18T09:49:54","slug":"kupferaluminat-kupfer-aluminium-oxid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/kupferaluminat-kupfer-aluminium-oxid\/","title":{"rendered":"Kupferaluminat (Kupfer-Aluminium-Oxid)"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Kupfer-Aluminiumoxid<\/span><\/h2>\n<p>Sputtertargets aus<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Copper+aluminum+oxide\">Kupfer-Aluminiumoxid<\/a><\/span><br \/>\nsind hochreine Metalloxid-Targets, die in erster Linie f\u00fcr die Herstellung von optoelektronischen D\u00fcnnschichten, leitf\u00e4higen Schichten und funktionellen Beschichtungen verwendet werden, um gleichm\u00e4\u00dfige Schichten und eine stabile Leistung zu erzielen.<\/p>\n<p>Wir bieten Sputtertargets aus Kupfer-Aluminiumoxid mit unterschiedlichen Zusammensetzungsverh\u00e4ltnissen, Gr\u00f6\u00dfen und Reinheitsgraden an. Kundenspezifische Bearbeitung und technische Beratung werden unterst\u00fctzt. Bitte <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">kontaktieren Sie uns<\/a><\/span><br \/>\nf\u00fcr L\u00f6sungen.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Hohe Reinheit<br \/>\nHohe Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Zusammensetzung<br \/>\nStabile Filmabscheidung<br \/>\nGeringe Verunreinigungen, chemisch stabil<br \/>\nZuverl\u00e4ssige Leitf\u00e4higkeit und optische Eigenschaften<br \/>\nKompatibel mit verschiedenen Sputteranlagen<br \/>\nUnterst\u00fctzt kundenspezifische runde, quadratische und unregelm\u00e4\u00dfige Formen sowie Verklebungen<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Sputtertargets aus Kupfer-Aluminiumoxid<\/span><\/h2>\n<p>D\u00fcnnschichten<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">f\u00fcr Halbleiter<\/a><\/span><br \/>\nund elektronische Bauelemente: Werden f\u00fcr die Abscheidung von leitf\u00e4higen und funktionellen Schichten in elektronischen Bauelementen verwendet, um die Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Schichten und die Leistung der Bauelemente zu verbessern.<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/anwendung\/materialien-fuer-die-optik\/\">Optoelektronische<\/a><\/span><br \/>\nGer\u00e4te und Anzeigeger\u00e4te: Wird in OLED-, LCD- und Touch-Displays verwendet, um gleichm\u00e4\u00dfige leitf\u00e4hige Schichten mit hoher Transparenz zu gew\u00e4hrleisten.<br \/>\nFunktionale Beschichtungen und industrielle Schichten: Geeignet f\u00fcr die Abscheidung von leitf\u00e4higen, korrosionsbest\u00e4ndigen oder optisch funktionalen Schichten, wodurch die zus\u00e4tzlichen Eigenschaften von Industriematerialien verbessert werden.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/unternehmen\/faqs\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>F1: Ist das Sputtern von Kupferaluminiumoxid (CA) f\u00fcr Gleichstrom- oder Hochfrequenz-Sputtern geeignet?<br \/>\nA1: CA ist ein isolierendes oder halbleitendes Material, und HF-Sputtern wird im Allgemeinen empfohlen, um stabile Schichten zu erhalten.<\/p>\n<p>F2: Beeinflusst das Zusammensetzungsverh\u00e4ltnis des Sputtertargets die Abscheidungsleistung?<br \/>\nA2: Ja, unterschiedliche Kupfer-Aluminium-Verh\u00e4ltnisse beeinflussen die Leitf\u00e4higkeit, die optischen Eigenschaften und die Abscheidungsrate der Schicht. Das geeignete Verh\u00e4ltnis sollte auf der Grundlage der Prozessanforderungen ausgew\u00e4hlt werden.<\/p>\n<p>F3: K\u00f6nnen Gr\u00f6\u00dfe und Form des Sputter-Targets an unterschiedliche Ger\u00e4te- und Prozessanforderungen angepasst werden?<br \/>\nA3: Ja, wir bieten ma\u00dfgeschneiderte runde, quadratische und unregelm\u00e4\u00dfig geformte Sputter-Targets an, die auf unterschiedliche Sputter-Ger\u00e4te und Prozessanforderungen abgestimmt sind.<\/p>\n<p>F4: Welche Vorsichtsma\u00dfnahmen sollten bei der Lagerung und Handhabung des Sputter-Targets getroffen werden?<br \/>\nA4: Es wird empfohlen, das Target in einer trockenen Umgebung aufzubewahren, starke St\u00f6\u00dfe zu vermeiden und den Kontakt mit Wasser oder sauren\/alkalischen Substanzen zu verhindern, um die Unversehrtheit des Targets zu gew\u00e4hrleisten.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Berichte<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge wird geliefert mit:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/zertifikat-der-analyse\/\"><u>Analysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/technisches-datenblatt\/\"><u>Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/dokumente\/sicherheitsdatenblatt\/\"><u>Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nTestberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n<p>Wir konzentrieren uns auf die Forschung und Entwicklung sowie die Lieferung von hochreinen Sputtertargets aus Funktionsmaterialien, kontrollieren streng die Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Zusammensetzung, die Chargenstabilit\u00e4t und die Filmabscheidungsleistung und bieten zuverl\u00e4ssige und r\u00fcckverfolgbare Sputtertargets aus Kupfer und Aluminiumoxid f\u00fcr die wissenschaftliche Forschung, die Industrie und optoelektronische Ger\u00e4te.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Kupfer-Aluminiumoxid Sputtertargets aus Kupfer-Aluminiumoxid sind hochreine Metalloxid-Targets, die in erster Linie f\u00fcr die Herstellung von optoelektronischen D\u00fcnnschichten, leitf\u00e4higen Schichten und funktionellen Beschichtungen verwendet werden, um gleichm\u00e4\u00dfige Schichten und eine stabile Leistung zu erzielen. 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