{"id":31205,"date":"2025-12-19T16:46:47","date_gmt":"2025-12-19T08:46:47","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/kupfer-indium-gallium\/"},"modified":"2025-12-19T16:46:47","modified_gmt":"2025-12-19T08:46:47","slug":"kupfer-indium-gallium","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/kupfer-indium-gallium\/","title":{"rendered":"Kupfer Indium Gallium"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Kupfer-Indium-Gallium<\/span><\/h2>\n

Sputtertargets aus
\nKupfer-Indium-Gallium<\/a><\/span>
\nsind Multi-Element-Legierungstargets, die in erster Linie zur Herstellung von optoelektronischen und funktionalen D\u00fcnnschichten mit einstellbarer Zusammensetzung verwendet werden.<\/p>\n

Wir bieten Targets mit unterschiedlichen Kupfer-, Indium- und Galliumanteilen und in verschiedenen Spezifikationen an und unterst\u00fctzen die Anpassung<\/a><\/span>
\nan die Ger\u00e4teparameter. Bitte kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\nf\u00fcr technische Unterst\u00fctzung.<\/a><\/span><\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Gleichm\u00e4\u00dfige Verteilung der Multi-Element-Komponenten
\nPr\u00e4zise gestaltbare Zusammensetzungsverh\u00e4ltnisse
\nHohe Targetdichte
\nStabiler Sputterprozess
\nGute Wiederholbarkeit der Schicht
\nGute Haftung
\nGeeignet f\u00fcr die Entwicklung komplexer D\u00fcnnschichtstrukturen<\/p>\n

Anwendungen von Kupfer-Indium-Gallium-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Entwicklung von D\u00fcnnschicht-Solarmaterialien: Dieses Target wird h\u00e4ufig f\u00fcr die Abscheidung von Metallvorl\u00e4uferfilmen verwendet. Durch Anpassung der Elementverh\u00e4ltnisse bildet es die Grundlage f\u00fcr die Optimierung der Leistung nachfolgender Funktionsschichten.
\nHerstellung optoelektronischer<\/a><\/span>
\nFunktionsd\u00fcnnschichten: Durch Sputterprozesse lassen sich Legierungsd\u00fcnnschichten mit gleichm\u00e4\u00dfiger Zusammensetzung erzielen, die sich f\u00fcr die Erforschung der Steuerung optischer und elektrischer Eigenschaften eignen. Erforschung von
\n<\/span>
\nHalbleitermaterialsystemen: Bei der Erforschung von Mehrkomponenten-Halbleitermaterialien hilft dieses Material dabei, den Einfluss unterschiedlicher Elementverh\u00e4ltnisse auf die Bandstruktur zu untersuchen.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1: K\u00f6nnen die Elementverh\u00e4ltnisse entsprechend den Projektanforderungen angepasst werden?
\nA1: Ja, die Zielzusammensetzung kann entsprechend den Anforderungen der Ziel-D\u00fcnnschicht entworfen und hergestellt werden.<\/p>\n

F2: Gibt es f\u00fcr dieses Target besondere Anforderungen an die Sputterausr\u00fcstung?
\nA2: Es ist mit g\u00e4ngigen Sputtersystemen kompatibel. Die spezifischen Parameter m\u00fcssen entsprechend den Ausr\u00fcstungsbedingungen optimiert werden.<\/p>\n

F3: Neigt die Filmzusammensetzung w\u00e4hrend des Sputterns zur Entmischung?
\nA3: Bei angemessener Leistungs- und Atmosph\u00e4renkontrolle bleibt die Filmzusammensetzung konsistent.<\/p>\n

F4: Ist das Target f\u00fcr langfristiges kontinuierliches Sputtern geeignet?
\nA4: Die Targetstruktur ist stabil und eignet sich f\u00fcr kontinuierliche Abscheidung und Mehrfach-Batch-Prozesstests.<\/p>\n

Bericht<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird geliefert mit:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nTestberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n

Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir verf\u00fcgen \u00fcber langj\u00e4hrige Erfahrung in der Herstellung und im Qualit\u00e4tsmanagement von Sputtertargets aus Mehrkomponentenlegierungen. Von der Zusammensetzung bis zur Pr\u00fcfung des Endprodukts verf\u00fcgen wir \u00fcber systematische Prozesse, um unseren Kunden eine stabile und gleichbleibende Materialqualit\u00e4t, flexible Anpassungsm\u00f6glichkeiten und eine kontinuierliche, zuverl\u00e4ssige Lieferunterst\u00fctzung zu bieten und so zum effizienten Fortschritt ihrer Projekte beizutragen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Kupfer-Indium-Gallium Sputtertargets aus Kupfer-Indium-Gallium sind Multi-Element-Legierungstargets, die in erster Linie zur Herstellung von optoelektronischen und funktionalen D\u00fcnnschichten mit einstellbarer Zusammensetzung verwendet werden. Wir bieten Targets mit unterschiedlichen Kupfer-, Indium- und Galliumanteilen und in verschiedenen Spezifikationen an und unterst\u00fctzen die Anpassung an die Ger\u00e4teparameter. Bitte kontaktieren Sie uns f\u00fcr technische Unterst\u00fctzung. Produkt-Highlights […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":31206,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[562],"product_tag":[3004],"class_list":["post-31205","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_brand-ulpmat","product_cat-legierung-sputtering-target","product_tag-kupfer-indium-gallium-sputtering-target","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product\/31205","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/31206"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=31205"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=31205"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=31205"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=31205"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}