{"id":30946,"date":"2025-12-19T16:46:50","date_gmt":"2025-12-19T08:46:50","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/kupferii-oxid\/"},"modified":"2025-12-19T16:46:50","modified_gmt":"2025-12-19T08:46:50","slug":"kupferii-oxid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/kupferii-oxid\/","title":{"rendered":"Kupfer(II)-Oxid"},"content":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Kupferoxid<\/span><\/h2>\n

Sputtertargets
\naus Kupferoxid<\/a><\/span>
\nsind anorganische Oxidmaterialien, die f\u00fcr die D\u00fcnnschichtabscheidung verwendet werden, vor allem in den Bereichen elektronische D\u00fcnnschichten, funktionelle Beschichtungen und verwandte Materialforschung.<\/p>\n

Wir bieten hochdichte, in ihrer Zusammensetzung stabile Sputtertargets aus Kupferoxid in verschiedenen Gr\u00f6\u00dfen und Strukturen an. Bitte kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\nf\u00fcr technische<\/a><\/span>
\nInformationen und ma\u00dfgeschneiderte<\/a><\/span>
\nL\u00f6sungen.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Stabile Phasenzusammensetzung
\nDichtes und gleichm\u00e4\u00dfiges Target
\nReibungsloser Sputterprozess
\nGute Wiederholbarkeit der Schicht
\nFeine Oberfl\u00e4chenbeschaffenheit
\nOptionale Bonding- und Backplane-Optionen
\nKompatibel mit verschiedenen Ger\u00e4ten<\/p>\n

Anwendungen von Kupferoxid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n

Herstellung elektronischer und funktionaler D\u00fcnnschichten: Dieses Target kann zur Abscheidung von Oxid-D\u00fcnnschichten mit stabilen elektrischen und physikalischen Eigenschaften verwendet werden, die f\u00fcr verschiedene elektronische Strukturdesigns geeignet sind.
\nSensor- und Ger\u00e4tematerialien: In Sensoren und verwandten Ger\u00e4ten kann es zur Herstellung von funktionalen D\u00fcnnschichten mit hohen Anforderungen an die Konsistenz der Materialzusammensetzung verwendet werden.
\nOberfl\u00e4chentechnik und funktionale Beschichtungen: Bildung gut haftender Oxidbeschichtungen durch Sputterprozesse zur Oberfl\u00e4chenmodifizierung und Leistungsoptimierung.
\nMaterialverarbeitung und Grundlagenforschung: Weit verbreitet in Forschungseinrichtungen zur Untersuchung von D\u00fcnnschichtstrukturen, Filmbildungsbedingungen und Leistungsbeziehungen.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1: Welche Sputterverfahren eignen sich f\u00fcr Kupferoxid (II)-Sputter-Targets?
\nA1: Sie k\u00f6nnen f\u00fcr g\u00e4ngige DC- oder RF-Sputterverfahren verwendet werden, je nach den Anforderungen der Anlage und der Prozessanpassung.<\/p>\n

F2: Hat die Dichte des Targets Einfluss auf die Leistung?
\nA2: Eine h\u00f6here Dichte tr\u00e4gt zur Verbesserung der Sputterstabilit\u00e4t und der Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Schicht bei.<\/p>\n

F3: Unterst\u00fctzen Sie Targets unterschiedlicher Gr\u00f6\u00dfe oder Struktur?
\nA3: Wir k\u00f6nnen Produkte in verschiedenen Gr\u00f6\u00dfen, Dicken und Strukturen entsprechend den Ger\u00e4teanforderungen liefern.<\/p>\n

F4: Welche Vorsichtsma\u00dfnahmen sind bei der Lagerung von Targets zu beachten?
\nA4: Es wird empfohlen, sie in einem versiegelten Beh\u00e4lter zu lagern, um Feuchtigkeit und Verunreinigungen zu vermeiden und den Zustand der Oberfl\u00e4che des Targets zu erhalten.<\/p>\n

Berichte<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nTestberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n

. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir konzentrieren uns auf die Herstellung und Qualit\u00e4tskontrolle von Sputtertargets aus anorganischen Oxiden und legen dabei besonderen Wert auf Materialgleichm\u00e4\u00dfigkeit, Verarbeitungsgenauigkeit und Lieferstabilit\u00e4t, um unseren Kunden zuverl\u00e4ssigere und leichter bewertbare L\u00f6sungen f\u00fcr die D\u00fcnnschichtabscheidung zu bieten.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

\u00dcbersicht \u00fcber Sputtertargets aus Kupferoxid Sputtertargets aus Kupferoxid sind anorganische Oxidmaterialien, die f\u00fcr die D\u00fcnnschichtabscheidung verwendet werden, vor allem in den Bereichen elektronische D\u00fcnnschichten, funktionelle Beschichtungen und verwandte Materialforschung. Wir bieten hochdichte, in ihrer Zusammensetzung stabile Sputtertargets aus Kupferoxid in verschiedenen Gr\u00f6\u00dfen und Strukturen an. Bitte kontaktieren Sie uns f\u00fcr technische Informationen und ma\u00dfgeschneiderte L\u00f6sungen. […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":30947,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[451],"product_tag":[2945],"class_list":["post-30946","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_brand-ulpmat","product_cat-keramisches-sputtering-target","product_tag-cupric-ii-oxide-sputtering-target","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product\/30946","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/30947"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=30946"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=30946"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=30946"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=30946"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}