{"id":29442,"date":"2025-12-25T09:34:30","date_gmt":"2025-12-25T01:34:30","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/nickel-ferrit-nickel-eisen-oxid\/"},"modified":"2025-12-25T09:34:30","modified_gmt":"2025-12-25T01:34:30","slug":"nickel-ferrit-nickel-eisen-oxid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/nickel-ferrit-nickel-eisen-oxid\/","title":{"rendered":"Nickel-Ferrit (Nickel-Eisen-Oxid)"},"content":{"rendered":"

Nickel-Eisenoxid-Sputtertarget \u2013 \u00dcbersicht<\/span><\/h2>\n

Nickel-Eisenoxid<\/a><\/span>
\n-Sputtertargets sind Oxyd-Targets mit Spinellstruktur, die in erster Linie f\u00fcr die Abscheidung von magnetischen Oxyd-D\u00fcnnschichten und verwandten Funktionsschichten verwendet werden.<\/p>\n

Wir bieten hochdichte, in ihrer Zusammensetzung stabile NiFe2O4-Sputtertargets an, deren Gr\u00f6\u00dfe und Struktur individuell angepasst werden k\u00f6nnen. Bitte kontaktieren Sie uns<\/a><\/span>
\nf\u00fcr technische Parameter.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Stabile Spinell-Phasenstruktur
\nHohe Targetdichte
\nGute Konsistenz der Filmzusammensetzung
\nGeeignet f\u00fcr Oxid-Sputterprozesse
\nGute thermische Stabilit\u00e4t
\nAnpassbare Verbindungen<\/a><\/span>
\nund Backplanes
\nKundenspezifische Verarbeitung m\u00f6glich<\/p>\n

Anwendungen von Nickel-Eisenoxid-Sputtertargets<\/span><\/h2>\n

Magnetische Oxid-D\u00fcnnschichten: Werden h\u00e4ufig f\u00fcr die Abscheidung von ferritbasierten magnetischen D\u00fcnnschichten verwendet und eignen sich f\u00fcr Anwendungen, die eine hohe magnetische Reaktionsstabilit\u00e4t und Wiederholbarkeit erfordern.
\nElektronische und funktionale Ger\u00e4te: Wird zur Bildung von oxidischen Funktionsschichten mit spezifischen magnetoelektrischen Eigenschaften in einigen elektronischen Ger\u00e4ten und Funktionsmaterialien verwendet.
\nSensor- und magnetische Steuerungsmaterialien: Kann zur Herstellung von magnetisch empfindlichen oder verwandten Steuerungsmaterial-D\u00fcnnschichten verwendet werden, die die Anforderungen an eine kontrollierbare Schichtstruktur und Leistung erf\u00fcllen.
\nForschung und Prozessentwicklung: Geeignet f\u00fcr den experimentellen Einsatz in Forschungseinrichtungen zur Steuerung der Struktur von Oxid-D\u00fcnnschichten, zur Optimierung der Sputterparameter und zur Erforschung neuer Materialien.<\/p>\n

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1: Welche Sputtermethode eignet sich f\u00fcr NiFe2O4-Sputter-Targets?
\nA1: Kann in herk\u00f6mmlichen Magnetron-Sputterprozessen verwendet werden. Die spezifische Methode muss auf der Grundlage der Ger\u00e4tebedingungen best\u00e4tigt werden.<\/p>\n

F2: Erfordert das Target eine spezielle Vorbehandlung?
\nA2: In der Regel ist keine komplexe Vorbehandlung erforderlich; der herk\u00f6mmliche Betrieb des Oxid-Targets ist ausreichend.<\/p>\n

F3: Ist die Zusammensetzung des abgeschiedenen Films stabil?
\nA3: Unter angemessenen Prozessparametern weist die Filmzusammensetzung eine gute \u00dcbereinstimmung mit dem Target auf.<\/p>\n

F4: Bieten Sie kleine Gr\u00f6\u00dfen f\u00fcr Forschungszwecke an?
\nA4: Ja, wir k\u00f6nnen verschiedene Gr\u00f6\u00dfenoptionen anbieten, die f\u00fcr die Forschungs- und Entwicklungsphase sowie f\u00fcr Versuche geeignet sind.<\/p>\n

Berichte<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Technisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nGr\u00f6\u00dfenpr\u00fcfbericht
\nPr\u00fcfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n

. Warum sollten Sie sich f\u00fcr uns entscheiden?<\/span><\/h2>\n

Wir verf\u00fcgen \u00fcber umfangreiche Erfahrung in der Herstellung und Verarbeitung von Oxid-Sputter-Targets und legen besonderen Wert auf strukturelle Stabilit\u00e4t, Prozessanpassungsf\u00e4higkeit und gleichbleibende Qualit\u00e4t, wodurch wir zuverl\u00e4ssige Unterst\u00fctzung f\u00fcr magnetische D\u00fcnnschichten und funktionale Ger\u00e4teanwendungen bieten k\u00f6nnen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Nickel-Eisenoxid-Sputtertarget \u2013 \u00dcbersicht Nickel-Eisenoxid -Sputtertargets sind Oxyd-Targets mit Spinellstruktur, die in erster Linie f\u00fcr die Abscheidung von magnetischen Oxyd-D\u00fcnnschichten und verwandten Funktionsschichten verwendet werden. Wir bieten hochdichte, in ihrer Zusammensetzung stabile NiFe2O4-Sputtertargets an, deren Gr\u00f6\u00dfe und Struktur individuell angepasst werden k\u00f6nnen. Bitte kontaktieren Sie uns f\u00fcr technische Parameter. Produkt-Highlights Stabile Spinell-Phasenstruktur Hohe Targetdichte Gute Konsistenz […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":29443,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[451],"product_tag":[2622],"class_list":{"0":"post-29442","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_brand-ulpmat","7":"product_cat-keramisches-sputtering-target","8":"product_tag-nickel-ferrit-nickel-eisen-oxid-sputtering-target","10":"first","11":"instock","12":"shipping-taxable","13":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product\/29442","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/29443"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=29442"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=29442"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=29442"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=29442"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}