{"id":29137,"date":"2025-12-25T09:34:33","date_gmt":"2025-12-25T01:34:33","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/nickel-oxid\/"},"modified":"2025-12-25T09:34:33","modified_gmt":"2025-12-25T01:34:33","slug":"nickel-oxid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/nickel-oxid\/","title":{"rendered":"Nickel-Oxid"},"content":{"rendered":"

Nickel-Oxid-Sputter-Target \u00dcbersicht<\/span><\/h2>\n

Nickel-Oxid<\/a> <\/span>sputtertargets sind hochreine Nickeloxid-Targets, die sich f\u00fcr die Pr\u00e4zisionsabscheidung von funktionalen D\u00fcnnschichten und elektronischen Keramikschichten eignen.<\/p>\n

Wir bieten chemisch stabile und hochdichte NiO-Sputtertargets an. Kundenspezifische Gr\u00f6\u00dfen und Spezifikationen k\u00f6nnen je nach Ausr\u00fcstung und Prozessanforderungen geliefert werden. Bitte kontaktieren Sie uns<\/a><\/span> f\u00fcr technische<\/a> <\/span>informationen.<\/p>\n

Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n

Hochreines Nickeloxid
\nAusgezeichnete Targetdichte
\nGleichm\u00e4\u00dfige und stabile Zusammensetzung
\nGleichm\u00e4\u00dfige Schichtabscheidung
\nGeeignet f\u00fcr Magnetronsputtern
\nUnterst\u00fctzt kundenspezifische Anpassungen mit mehreren Spezifikationen
\nUnterst\u00fctzt kleben<\/a><\/span> und Backplane-Anpassung<\/p>\n

Anwendungen von Nickel-Oxid-Sputtering-Targets<\/span><\/h2>\n

Elektronische keramische D\u00fcnnschichten: Kann f\u00fcr die Abscheidung elektronischer keramischer Materialien verwendet werden, um elektrische, magnetische oder optische Eigenschaften zu steuern.
\nHerstellung funktioneller D\u00fcnnschichten: Geeignet f\u00fcr die Herstellung funktioneller D\u00fcnnschichten, wie z. B. leitende Schichten, optoelektronische Schichten oder Schutzschichten.
\nKatalytische D\u00fcnnschichten: Kann f\u00fcr die Abscheidung von katalytischen Vorrichtungen oder katalytischen D\u00fcnnschichten verwendet werden, um die Effizienz und Selektivit\u00e4t katalytischer Reaktionen zu verbessern.
\nForschung und Prozessentwicklung: Geeignet f\u00fcr Forschungseinrichtungen zur Kontrolle der D\u00fcnnschichtstruktur, zur Optimierung von Zielparametern und f\u00fcr neue Prozessexperimente.<\/p>\n

FAQs<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

Q1: F\u00fcr welche Art von Sputtering-Anlage ist das NiO-Sputter-Target geeignet?
\nA1: Es kann in Magnetron-Sputteranlagen verwendet werden, aber spezifische Anforderungen m\u00fcssen mit den Anlagenspezifikationen best\u00e4tigt werden.<\/p>\n

Q2: Ist die Zusammensetzung des Targets gleichm\u00e4\u00dfig und stabil?
\nA2: Ja, die Targetzusammensetzung bleibt \u00fcber den gesamten Targetblock hinweg konstant, wodurch die Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Schicht gew\u00e4hrleistet ist.<\/p>\n

F3: Unterst\u00fctzen Sie kundenspezifische Gr\u00f6\u00dfen oder Forschungsspezifikationen?
\nA3: Ja, wir k\u00f6nnen verschiedene Gr\u00f6\u00dfen und Spezifikationen je nach Versuchs- oder Produktionsbedarf anbieten.<\/p>\n

F4: Ist die Zusammensetzung des gesputterten Films kontrollierbar?
\nA4: Bei angemessenen Prozessparametern stimmt die Zusammensetzung der Folie gut mit dem Ziel \u00fcberein.<\/p>\n

Berichte<\/span><\/h2>\n

Jede Charge wird geliefert mit:
\nZertifikat der Analyse (COA)<\/u><\/a><\/span>
\nTechnisches Datenblatt (TDS)<\/u><\/a><\/span>
\nSicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nBericht zur Gr\u00f6\u00dfeninspektion
\nPr\u00fcfberichte von Dritten auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n

Warum uns w\u00e4hlen?<\/span><\/h2>\n

Wir sind spezialisiert auf die F&E<\/a><\/span> und die Herstellung von hochreinen NiO-Sputtertargets spezialisiert, wobei wir besonderen Wert auf die Targetdichte, die Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Zusammensetzung und die Anpassungsf\u00e4higkeit des Prozesses legen. Wir bieten eine zuverl\u00e4ssige Materialunterst\u00fctzung f\u00fcr funktionelle D\u00fcnnschichten, elektronische Keramiken und wissenschaftliche Forschungsanwendungen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Nickel-Oxid-Sputter-Target \u00dcbersicht Nickel-Oxid sputtertargets sind hochreine Nickeloxid-Targets, die sich f\u00fcr die Pr\u00e4zisionsabscheidung von funktionalen D\u00fcnnschichten und elektronischen Keramikschichten eignen. Wir bieten chemisch stabile und hochdichte NiO-Sputtertargets an. Kundenspezifische Gr\u00f6\u00dfen und Spezifikationen k\u00f6nnen je nach Ausr\u00fcstung und Prozessanforderungen geliefert werden. Bitte kontaktieren Sie uns f\u00fcr technische informationen. Produkt-Highlights Hochreines Nickeloxid Ausgezeichnete Targetdichte Gleichm\u00e4\u00dfige und stabile Zusammensetzung […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":29138,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[451],"product_tag":[2556],"class_list":{"0":"post-29137","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_brand-ulpmat","7":"product_cat-keramisches-sputtering-target","8":"product_tag-nickel-oxid-sputtering-target","10":"first","11":"instock","12":"shipping-taxable","13":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product\/29137","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/29138"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=29137"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=29137"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=29137"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=29137"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}