{"id":24439,"date":"2025-11-10T14:59:25","date_gmt":"2025-11-10T06:59:25","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/indium-phosphid-2\/"},"modified":"2025-11-10T14:59:25","modified_gmt":"2025-11-10T06:59:25","slug":"indium-phosphid-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/indium-phosphid-2\/","title":{"rendered":"Indium-Phosphid"},"content":{"rendered":"

Indiumphosphid-Sputter-Target \u00dcbersicht<\/strong><\/span><\/h2>\n

Indiumphosphid<\/a><\/span> (InP)<\/span>ist ein hochreines Verbindungshalbleitermaterial, das f\u00fcr seine hervorragenden elektronischen und optoelektronischen Eigenschaften bekannt ist. Es findet breite Anwendung in elektronischen Hochgeschwindigkeitsger\u00e4ten, photonischen Komponenten, Laserdioden und der modernen D\u00fcnnschichtabscheidung. Aufgrund der \u00fcberragenden Ladungstr\u00e4gerbeweglichkeit, der breiten direkten Bandl\u00fccke und der hohen thermischen Stabilit\u00e4t sind InP-Sputtertargets ideal f\u00fcr die Herstellung von Hochleistungs-Halbleiterschichten in Kommunikations- und Photoniksystemen.<\/p>\n

Unsere InP-Sputter-Targets werden aus hochreinem Indiumphosphid-Material (99,99 %) hergestellt und zeichnen sich durch eine dichte Mikrostruktur, eine pr\u00e4zise Kontrolle der Zusammensetzung und eine hervorragende Gleichm\u00e4\u00dfigkeit aus, was eine stabile Sputterleistung sowohl f\u00fcr Forschung und Entwicklung als auch f\u00fcr die industrielle Produktion gew\u00e4hrleistet.<\/p>\n

Produkt-Highlights von Indiumphosphid (InP) Sputtering Target<\/strong><\/span><\/h2>\n

Hohe Reinheit: 99,99% Reinheit f\u00fcr hochwertige D\u00fcnnschichten mit geringen Defekten.<\/p>\n

Gleichm\u00e4\u00dfige Dichte: Vakuumhei\u00dfgepresst und HIP-behandelt f\u00fcr feine Kornstruktur und geringe Porosit\u00e4t.<\/p>\n

Ausgezeichnete elektrische und optische Eigenschaften: Halbleiter mit direkter Bandl\u00fccke, geeignet f\u00fcr optoelektronische Anwendungen.<\/p>\n

Stabile Sputtering-Leistung: Gleichm\u00e4\u00dfige Schichtdicke und konsistente Zusammensetzung.<\/p>\n

Anpassbare Gr\u00f6\u00dfen: Erh\u00e4ltlich in Standard- und kundenspezifischen Durchmessern, Dicken und Konfigurationen (planar oder rotierend).<\/p>\n

Anwendungen von Indiumphosphid (InP) Sputtering Target<\/strong><\/span><\/h2>\n

Optoelektronische<\/a> Ger\u00e4te <\/span>: F\u00fcr Laserdioden, Photodetektoren und optische Kommunikationskomponenten.<\/p>\n

Hochfrequenzelektronik: Verwendung in HEMTs, ICs und Hochgeschwindigkeitstransistoren.<\/p>\n

D\u00fcnnschichtabscheidung: Geeignet f\u00fcr Magnetron-Sputter- und Aufdampfbeschichtungsanlagen.<\/p>\n

Halbleiterforschung<\/span>: Kernmaterial f\u00fcr die Forschung an III-V-Verbindungshalbleitern und die Entwicklung von Nanostrukturen.<\/p>\n

Warum uns w\u00e4hlen?<\/strong><\/span><\/h2>\n

Professioneller Hersteller: Spezialisiert auf hochreine Sputtertargets und Halbleitermaterialien.<\/p>\n

Hochreinheitsgarantie: Hergestellt unter Verwendung raffinierter Synthese- und Zonenschmelzverfahren.<\/p>\n

Anpassbare Optionen: Verschiedene Formen (Scheibe, Rechteck, Ring) und Bonding-Services verf\u00fcgbar.<\/p>\n

Strenge Qualit\u00e4tskontrolle: Verifiziert durch ICP-MS und XRD-Analyse f\u00fcr Reinheit und Phasenkonsistenz.<\/p>\n

Globale Lieferung: Sichere Verpackung, weltweite Logistik und technische Unterst\u00fctzung f\u00fcr internationale Kunden.<\/p>\n

Umfassende Dokumentation: COA, TDS und MSDS werden mit jeder Charge mitgeliefert.<\/p>\n

FAQs<\/strong><\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1. Wie hoch ist die Standardreinheit Ihres InP-Sputtertargets?
A1. Die Standardreinheit betr\u00e4gt 99,999% (5N). H\u00f6here Reinheitsgrade und kundenspezifische Spezifikationen sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n

F2. Welche Gr\u00f6\u00dfen und Formen sind erh\u00e4ltlich?
A2. Wir bieten planare (kreisf\u00f6rmige oder rechteckige) und rotierende Targets an, die in Gr\u00f6\u00dfe und Dicke an Ihre Ausr\u00fcstung angepasst werden k\u00f6nnen.<\/p>\n

F3. K\u00f6nnen Sie auch das Bonden anbieten?
A3. Ja, wir bieten auf Anfrage Indium- oder Elastomerbonding auf Tr\u00e4gerplatten an.<\/p>\n

F4. Welche Abscheidungsmethoden sind mit InP-Targets kompatibel?
A4. Geeignet f\u00fcr DC\/RF-Magnetron-Sputtering und Vakuumverdampfungssysteme.<\/p>\n

F5. Wie lauten die Empfehlungen f\u00fcr die Lagerung?
A5. In einer trockenen, inerten Atmosph\u00e4re oder vakuumversiegelten Verpackung lagern, um Oxidation und Feuchtigkeit zu vermeiden.<\/p>\n

Berichte<\/h2>\n

Jeder Charge wird ein Bericht beigef\u00fcgt:
\nAnalysezertifikat (COA)<\/a><\/span>
\nTechnisches Datenblatt (TDS)<\/a><\/span>
\nSicherheitsdatenblatt (MSDS)<\/a><\/span>
\nPr\u00fcfberichte von Dritten sind auf Anfrage erh\u00e4ltlich.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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