{"id":17646,"date":"2025-10-20T17:39:54","date_gmt":"2025-10-20T09:39:54","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/tantal-metall\/"},"modified":"2025-10-20T17:39:54","modified_gmt":"2025-10-20T09:39:54","slug":"tantal-metall","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/tantal-metall\/","title":{"rendered":"Tantal-Metall"},"content":{"rendered":"<h2 data-start=\"174\" data-end=\"216\"><span style=\"font-size: 14pt;\"><strong data-start=\"177\" data-end=\"216\">Tantal Metall Ring Target \u00dcbersicht<\/strong><\/span><\/h2>\n<p data-start=\"218\" data-end=\"776\"><strong data-start=\"218\" data-end=\"254\"><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Tantalum+metal\">Tantal-Metallringtargets<\/a> <\/span>(Ta) <\/strong> sind Hochleistungs-Sputtermaterialien, die f\u00fcr ihre <strong data-start=\"313\" data-end=\"409\">ausgezeichnete Korrosionsbest\u00e4ndigkeit, ihren hohen Schmelzpunkt (3017\u00b0C) und ihre hervorragende Schichtgleichm\u00e4\u00dfigkeit<\/strong> bekannt sind. Diese Targets finden breite Anwendung in der <strong data-start=\"444\" data-end=\"517\">Halbleiterherstellung, bei optischen Beschichtungen und bei der D\u00fcnnschichtabscheidung<\/strong> f\u00fcr elektronische und photonische High-End-Ger\u00e4te.<\/p>\n<p data-start=\"218\" data-end=\"776\">Wir bieten <strong data-start=\"586\" data-end=\"646\">hochreine Tantal-Ring-Targets mit einem Reinheitsgrad von 99,99 % <\/strong>, kundenspezifischen Abmessungen und pr\u00e4ziser Mikrostrukturkontrolle, um eine gleichbleibende Sputterleistung und eine lange Lebensdauer der Targets zu gew\u00e4hrleisten.<\/p>\n<h2 data-start=\"218\" data-end=\"776\"><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p data-start=\"1296\" data-end=\"1396\"><strong data-start=\"1296\" data-end=\"1328\">Au\u00dfergew\u00f6hnliche Gleichm\u00e4\u00dfigkeit des Films:<\/strong> Die feink\u00f6rnige Mikrostruktur sorgt f\u00fcr homogene Sputteringraten.<\/p>\n<p data-start=\"1399\" data-end=\"1501\"><strong data-start=\"1399\" data-end=\"1439\">Hohe thermische und chemische Best\u00e4ndigkeit:<\/strong> Stabil unter Hochtemperatur- und Hochvakuumbedingungen.<\/p>\n<p data-start=\"1504\" data-end=\"1586\"><strong data-start=\"1504\" data-end=\"1540\">Geringer Gehalt an Sauerstoff und Verunreinigungen:<\/strong> Verbessert die Adh\u00e4sion und reduziert Filmdefekte.<\/p>\n<p data-start=\"1589\" data-end=\"1680\"><strong data-start=\"1589\" data-end=\"1620\">Kundenspezifische technische Unterst\u00fctzung:<\/strong> Ma\u00dfgeschneiderte Target-Designs f\u00fcr Magnetron-Sputteranlagen.<\/p>\n<p data-start=\"1683\" data-end=\"1780\"><strong data-start=\"1683\" data-end=\"1705\">Lange Nutzungsdauer:<\/strong> Optimierte Dichte und mechanische Festigkeit minimieren Erosion und Rissbildung.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\"><strong data-start=\"1790\" data-end=\"1806\">Anwendungen von <\/strong><\/span><strong data-start=\"177\" data-end=\"216\"><span style=\"font-size: 14pt;\">Tantal Metall Ring Target<\/span> <\/strong><\/h2>\n<p data-start=\"1810\" data-end=\"1906\"><strong data-start=\"1810\" data-end=\"1837\"><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/anwendung\/halbleiter-materialien\/\">Halbleiterindustrie<\/a><\/span>:<\/strong> Diffusionsbarrieren, Kondensatorelektroden und Verbindungsschichten.<\/p>\n<p data-start=\"1909\" data-end=\"1996\"><strong data-start=\"1909\" data-end=\"1929\">Optoelektronik:<\/strong> Optische Beschichtungen f\u00fcr hochreflektierende und korrosionssch\u00fctzende Schichten.<\/p>\n<p data-start=\"1999\" data-end=\"2090\"><strong data-start=\"1999\" data-end=\"2024\">Luft- und Raumfahrt und Energie:<\/strong> Funktionelle Beschichtungen f\u00fcr leistungsstarke Strukturkomponenten.<\/p>\n<p data-start=\"2093\" data-end=\"2184\"><strong data-start=\"2093\" data-end=\"2122\">Forschung und Entwicklung:<\/strong> Forschung \u00fcber fortschrittliche Materialien, Synthese von nanostrukturierten Schichten.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\"><strong data-start=\"2194\" data-end=\"2223\">Berichte <\/strong><\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge der Tantal-Ring-Targets von ULPMAT wird mit einem Bericht geliefert:<\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/service\/chemische-analyse\/\">Zertifikat der Analyse (COA)<\/a><\/span><\/p>\n<p>Pr\u00fcfdaten zu Korngr\u00f6\u00dfe und Dichte<\/p>\n<p>Ergebnisse der Oberfl\u00e4chenbeschaffenheits- und Ebenheitspr\u00fcfung<\/p>\n<p>Optional: GDMS-Spurenanalyse von Verunreinigungen und Pr\u00fcfung der Schichtgleichm\u00e4\u00dfigkeit<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Tantal Metall Ring Target \u00dcbersicht Tantal-Metallringtargets (Ta) sind Hochleistungs-Sputtermaterialien, die f\u00fcr ihre ausgezeichnete Korrosionsbest\u00e4ndigkeit, ihren hohen Schmelzpunkt (3017\u00b0C) und ihre hervorragende Schichtgleichm\u00e4\u00dfigkeit bekannt sind. Diese Targets finden breite Anwendung in der Halbleiterherstellung, bei optischen Beschichtungen und bei der D\u00fcnnschichtabscheidung f\u00fcr elektronische und photonische High-End-Ger\u00e4te. 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