{"id":17056,"date":"2025-10-20T17:39:59","date_gmt":"2025-10-20T09:39:59","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/tantal-tellurid\/"},"modified":"2025-10-20T17:39:59","modified_gmt":"2025-10-20T09:39:59","slug":"tantal-tellurid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/tantal-tellurid\/","title":{"rendered":"Tantal-Tellurid"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Tantal-Tellurid-Sputtering-Target \u00dcbersicht<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Tantalum+Telluride\">Tantal-Tellurid<\/a><\/span> ist ein hochleistungsf\u00e4higes Target aus zweidimensionalem Material, das sich f\u00fcr modernste elektronische und optoelektronische Anwendungen eignet. Es handelt sich um ein \u00dcbergangsmetall-Ditellurid mit einer einzigartigen Schichtstruktur, das in der Forschung und Herstellung neuer elektronischer Ger\u00e4te, Photodetektoren und Energiespeicher weit verbreitet ist. Das Material hat wegen seiner Anisotropie, seiner hohen Ladungstr\u00e4gerbeweglichkeit und seiner hervorragenden Filmbildungsf\u00e4higkeit viel Aufmerksamkeit auf sich gezogen.<\/p>\n<p>Wir bieten hochreine und hochdichte Tantal-Tellurid-Sputter-Targets an, die f\u00fcr eine Vielzahl von D\u00fcnnschichtabscheidungstechnologien (z. B. Magnetronsputtern, Elektronenstrahlverdampfung usw.) verwendet werden k\u00f6nnen, und unterst\u00fctzen eine Vielzahl kundenspezifischer Spezifikationen, um die unterschiedlichen Anforderungen der Laborentwicklung und der industriellen Massenproduktion zu erf\u00fcllen.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Reinheit: 99,9<br \/>\nHohe Dichte, glatte Oberfl\u00e4che<br \/>\nGeschichtete Kristallstruktur, geeignet f\u00fcr die Bildung zweidimensionaler d\u00fcnner Filme<br \/>\nGr\u00f6\u00dfe und Form k\u00f6nnen je nach Bedarf angepasst werden (rund, rechteckig, etc.)<br \/>\nGeeignet f\u00fcr Abscheidungsprozesse unter Hochvakuum und inerter Atmosph\u00e4re<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Tantal-Tellurid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n<p>Elektronische Ger\u00e4te: Kann f\u00fcr zweidimensionale Halbleiterbauelemente wie Feldeffekttransistoren (FETs) der n\u00e4chsten Generation verwendet werden.<br \/>\nPhotodetektoren: Mit breitbandigem Ansprechverhalten, geeignet f\u00fcr Infrarot- und Ultraviolett-Bildgebungsger\u00e4te.<br \/>\nEnergiespeichermaterialien: Sie werden in Lithium-\/Natrium-Ionen-Batterien und Superkondensatoren zur Erforschung von Elektrodenmaterialien verwendet.<br \/>\nTopologische Materialforschung: Aufgrund seiner einzigartigen Bandstruktur ist es ein wichtiges Material f\u00fcr die Untersuchung von Spinelektronik und topologischen Isolatoren.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Berichte<\/span><\/h2>\n<p>Jede Charge von Tantal-Tellurid-Targets wird mit einem <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/service\/chemische-analyse\/\">analysezertifikat (COA)<\/a><\/span>, einem Sicherheitsdatenblatt (MSDS) und den erforderlichen Pr\u00fcfberichten. Je nach Kundenwunsch k\u00f6nnen auch Pr\u00fcfungen durch Dritte durchgef\u00fchrt werden, um sicherzustellen, dass die Zusammensetzung, Reinheit und Stabilit\u00e4t der Sputtertargets den Anforderungen Ihres Projekts entsprechen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Tantal-Tellurid-Sputtering-Target \u00dcbersicht Tantal-Tellurid ist ein hochleistungsf\u00e4higes Target aus zweidimensionalem Material, das sich f\u00fcr modernste elektronische und optoelektronische Anwendungen eignet. Es handelt sich um ein \u00dcbergangsmetall-Ditellurid mit einer einzigartigen Schichtstruktur, das in der Forschung und Herstellung neuer elektronischer Ger\u00e4te, Photodetektoren und Energiespeicher weit verbreitet ist. 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